【技术实现步骤摘要】
一种插片石英舟
本技术涉及一种LPCVD配件，特别涉及一种插片石英舟。
技术介绍
气相沉积技术是利用气相中发生的物理、化学过程，在工件表面形成的功能性或装饰性的金属、非金属化合物涂层。LPCVD主要用于多晶硅、非晶硅、磷硅玻璃等多种薄膜的生长于沉积。现有技术中，硅片单面镀膜时需要在石英槽内背对背放置两组硅片，现有的水平石英舟为了方便硅片的安插，开设的石英槽与端面之间具有一定倾斜角，但两个硅片之间无法完全贴合，贴合面容易被工艺气体接触而镀上膜，难以达到单面镀膜的效果。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是提供一种插片石英舟，该石英舟单面镀膜质量好，结构稳定性好，石英插片贴合度好。为了解决上述技术问题，本技术的技术方案为：一种插片石英舟，包括上下对称设置的底板和顶板，所述底板和顶板之间固定有支撑柱一、支撑柱二、支撑柱三以及支撑柱四，所述支撑柱一、支撑柱二、支撑柱三以及支撑柱四下端分别固定在底板上端面四个角处，且支撑柱一、支撑柱二、支撑柱三以及支撑柱四上端分别固定在顶板下端...
【技术保护点】
1.一种插片石英舟，其特征在于：包括上下对称设置的底板和顶板，所述底板和顶板之间固定有支撑柱一、支撑柱二、支撑柱三以及支撑柱四，所述支撑柱一、支撑柱二、支撑柱三以及支撑柱四下端分别固定在底板上端面四个角处，且支撑柱一、支撑柱二、支撑柱三以及支撑柱四上端分别固定在顶板下端面四个角处，所述支撑柱一、支撑柱二、支撑柱三以及支撑柱四外表面上均等距开设有多组插槽，所述插槽内安插有两组石英插片，两组所述石英插片紧密贴合，所述支撑柱一中部位置和支撑柱二中部位置固定把手一，所述支撑柱三中部位置和支撑柱四中部位置固定把手二。/n
【技术特征摘要】
1.一种插片石英舟，其特征在于：包括上下对称设置的底板和顶板，所述底板和顶板之间固定有支撑柱一、支撑柱二、支撑柱三以及支撑柱四，所述支撑柱一、支撑柱二、支撑柱三以及支撑柱四下端分别固定在底板上端面四个角处，且支撑柱一、支撑柱二、支撑柱三以及支撑柱四上端分别固定在顶板下端面四个角处，所述支撑柱一、支撑柱二、支撑柱三以及支撑柱四外表面上均等距开设有多组插槽，所述插槽内安插有两组石英插片，两组所述石英插片紧密贴合，所述支撑柱一中部位置和支撑柱二中部位置固定把手一，所述支撑...
【专利技术属性】
技术研发人员：李丙科，
申请(专利权)人：无锡松煜科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32
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