一种旋转靶的制备方法及其喷涂设备技术

本发明专利技术涉及溅射镀膜技术领域，尤其涉及提供了一种旋转靶的制备方法及其喷涂设备，包括熔炼炉；加热装置，用于加热熔炼炉；喷涂装置，包括喷嘴和熔体输送管道；其中，喷嘴包括熔体管道以及套设于熔体管道外侧的气体管道，熔体管道的外侧壁与气体管道的内侧壁之间形成喷气间隙，熔体管道通过熔体输送管道与熔炼炉连通。本发明专利技术提供的熔炼喷涂设备，具有结构简单、制造成本低的特点；通过在基材表面涂布铟涂层，利用铟与Sn、In和InSn等颗粒之间较强的粘合力，使喷涂层均匀可靠的粘在基材表面，有助于提高靶材溅射形成膜层的均匀性。

【技术实现步骤摘要】
一种旋转靶的制备方法及其喷涂设备
本专利技术涉及溅射镀膜
，尤其涉及提供了一种旋转靶的制备方法及其喷涂设备。
技术介绍
低熔点材料如：锡、铟、铟锡合金等是玻璃镀膜及铜铟镓硒太阳能电池的重要原材料。上述低熔点合金材料主要以靶材的形式用于溅射镀膜行业，根据溅射镀膜设备的不同，靶材主要有平面和筒状(旋转靶)两种，相对平面靶，筒状(旋转靶)靶的原料利用率高达70－80％，因此大型镀膜设备常以旋转靶作为原料。现有技术中通常是将熔融的金属液直接浇铸到基体上，再控制金属液冷凝得到金属旋转靶，为了得到良好的冷凝效果，常采用垂直浇铸，大尺寸的旋转靶浇铸平台和模具需要4－5m高度，操作危险程度较高，设备的投入也较大。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种旋转靶的制备方法及其喷涂设备，有助于简化设备结构，且工艺相对安全，同时使制备的靶材有助于提高溅射形成膜层的均匀性。为了实现上述目的，本专利技术提供了一种旋转靶的制备方法，包括以下步骤：S1：在基材表面均匀涂布金属铟形成铟涂层；S2：在惰性保护气氛本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种旋转靶的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：/nS1：在基材表面均匀涂布金属铟形成铟涂层；/nS2：在惰性保护气氛环境下熔炼低熔点金属获得金属熔体；/nS3：使用步骤S2中获得的金属熔体，在惰性保护气氛环境下均匀喷涂到步骤S1中获得的基材表面得到靶材。/n

【技术特征摘要】
1.一种旋转靶的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
S1：在基材表面均匀涂布金属铟形成铟涂层；
S2：在惰性保护气氛环境下熔炼低熔点金属获得金属熔体；
S3：使用步骤S2中获得的金属熔体，在惰性保护气氛环境下均匀喷涂到步骤S1中获得的基材表面得到靶材。


2.根据权利要求1所述的旋转靶的制备方法，其特征在于，S1中，对步骤S3中获得的靶材进行表面合金化热处理。


3.根据权利要求1所述的旋转靶的制备方法，其特征在于，步骤S3中，所述基材在喷涂过程中相对喷涂设备喷嘴以20－70mm/min的速度往复移动，且所述基材以60－150r/min的速度自转。


4.一种旋转靶喷涂设备，其特征在于，包括：
熔炼炉；
加热装置，用于加热所述熔炼炉；
喷涂装置，包括喷嘴和熔体输送管道；
其中，所述喷嘴包括熔体管道以及套设于所述熔体管道外侧的气体管道，所述熔体管道的外侧壁与所述气体管道的内侧壁之间形成喷...

【专利技术属性】
技术研发人员：白平平，黄成建，黄宇彬，阿南·辛格·迪欧达特，童培云，朱刘，
申请(专利权)人：先导薄膜材料广东有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44