【技术实现步骤摘要】
无线充电附加装置
本技术涉及电力电子
,尤其无线充电技术,更具体地,涉及无线充电附加装置。
技术介绍
目前无线充电技术主要有两种主流标准,A4WP(AllianceforWirelessPower)标准和Qi标准。A4WP标准采用电磁谐振无线充电技术,其电能发射端与电能接收端采用松耦合的方式进行无线充电,利用此技术可以实现厘米级距离的无线充电,相较于Qi标准无线充电技术其充电效率较低,且此标准工作频率为6.78MHz,而较高的工作频率增加了器件成本,因此A4WP无线充电技术目前在消费电子产品上并未广泛使用。而Qi标准则采用电磁感应技术,其电能发射端与电能接收端之间采用紧耦合的方式进行电能传输,传输效率较高,其工作频率为110KHz到205KHz之间,元器件成本相对较低,因而被广泛应用于消费类电子电子产品中,但由于其传输距离近,有效传输距离仅有2mm~8mm,应用场景受到限制。中国申请公布号CN109167443A的专利,专利技术名称为《无线充电附加装置、无线充电发射端、接收端及系统》,该专利通过在无线充电发射端 ...
【技术保护点】
1.无线充电附加装置,用于附加设置于无线充电发射端和无线充电接收端之间,其特征在于:包括用于接收无线充电发射端发射的电能且同时用于发射电能给无线充电接收端的线圈层、用于屏蔽无线充电发射端周围多余磁场的环形屏蔽层和用于屏蔽无线充电接收端周围多余磁场的圆形屏蔽层,所述线圈层位于所述环形屏蔽层与所述圆形屏蔽层之间,所述圆形屏蔽层靠近无线充电发射端,所述环形屏蔽层靠近无线接收充电端;所述线圈层由线圈和谐振电容串联组成一个LC串联谐振回路;所述线圈包括线圈外圈和线圈内圈。/n
【技术特征摘要】 【专利技术属性】
1.无线充电附加装置,用于附加设置于无线充电发射端和无线充电接收端之间,其特征在于:包括用于接收无线充电发射端发射的电能且同时用于发射电能给无线充电接收端的线圈层、用于屏蔽无线充电发射端周围多余磁场的环形屏蔽层和用于屏蔽无线充电接收端周围多余磁场的圆形屏蔽层,所述线圈层位于所述环形屏蔽层与所述圆形屏蔽层之间,所述圆形屏蔽层靠近无线充电发射端,所述环形屏蔽层靠近无线接收充电端;所述线圈层由线圈和谐振电容串联组成一个LC串联谐振回路;所述线圈包括线圈外圈和线圈内圈。
2.根据权利要求1所述无线充电附加装置,其特征在于:所述环形屏蔽层为粘贴在所述线圈外圈上的导磁片。
技术研发人员:潘星星,陈宇,李光平,
申请(专利权)人:深圳市磁迹科技有限公司,
类型:新型
国别省市:广东;44
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。