【技术实现步骤摘要】
一种准分子激光退火设备用基板支撑装置
本专利技术属于准分子激光退火设备
,具体为一种准分子激光退火设备用基板支撑装置。
技术介绍
准分子激光退火具体是利用准分子激光退火设备发出的准分子激光束对待处理基板上的非晶硅层进行短时间照射,使其再结晶变成多晶硅层,准分子激光退火工艺的质量决定着非晶硅转化为多晶硅的工艺质量。而现有针对基板进行支撑的底座在对基板进行固定时,不方便对不同规格的基板进行固定,在面对不同规格的基板时容易产生松动,进而造成基板照射产生误差,对此需要设计一种准分子激光退火设备用基板支撑装置。
技术实现思路
本专利技术的目的就在于为了解决上述问题而提供一种准分子激光退火设备用基板支撑装置,解决了现有针对基板进行支撑的底座在对基板进行固定时,不方便对不同规格的基板进行固定,在面对不同规格的基板时容易产生松动,进而造成基板照射产生误差的问题。为了解决上述问题,本专利技术提供了一种技术方案:一种准分子激光退火设备用基板支撑装置,包括一个底座,所述底座的上表面设置有一个第一夹 ...
【技术保护点】
1.一种准分子激光退火设备用基板支撑装置,其特征在于,包括一个底座(1),所述底座(1)的上表面设置有一个第一夹持机构(2),所述第一夹持机构(2)的内部呈对称状设置有两个第二夹持机构(3),两个所述第二夹持机构(3)的内部均设置有两个定位机构(4),所述第一夹持机构(2)其中一侧的侧壁上设置有一个限位机构(5),所述第一夹持机构(2)位于底座(1)外部的一端设置有一个转动机构(6),所述底座(1)其中一侧的侧壁上呈对称状固定连接有两个把手(9)。/n
【技术特征摘要】
1.一种准分子激光退火设备用基板支撑装置,其特征在于,包括一个底座(1),所述底座(1)的上表面设置有一个第一夹持机构(2),所述第一夹持机构(2)的内部呈对称状设置有两个第二夹持机构(3),两个所述第二夹持机构(3)的内部均设置有两个定位机构(4),所述第一夹持机构(2)其中一侧的侧壁上设置有一个限位机构(5),所述第一夹持机构(2)位于底座(1)外部的一端设置有一个转动机构(6),所述底座(1)其中一侧的侧壁上呈对称状固定连接有两个把手(9)。
2.根据权利要求1所述的一种准分子激光退火设备用基板支撑装置,其特征在于:所述第一夹持机构(2)包括一个放置槽(21),所述放置槽(21)开设在底座(1)的上表面,所述放置槽(21)其中一侧的侧壁上贯穿开设有一个螺纹孔(22),所述螺纹孔(22)的内部螺纹连接有一根螺纹杆(23),所述螺纹杆(23)的其中一端贯穿螺纹孔(22)对应的孔口并延伸至放置槽(21)的内部且固定套接有一个轴承(24),所述轴承(24)的外侧固定套接有一块第一夹持块(25)。
3.根据权利要求2所述的一种准分子激光退火设备用基板支撑装置,其特征在于:两个所述第二夹持机构(3)均包括两个固定槽(31),四个所述固定槽(31)分别开设在放置槽(21)相对的两侧槽壁上,四个所述固定槽(31)的槽底均固定连接有一个弹簧(32),四个所述弹簧(32)远离固定槽(31)槽底的一端均固定连接有一根固定杆(33),四根所述固定杆(33)远离弹簧(32)的一端分别贯穿对应固定槽(31)的槽口并延伸至放置槽(21)的内部,四根所述固定杆(33)位于放置槽(21)内部的一端分别与两块第二夹持块(34)固定连接。
4.根据权利要求3...
【专利技术属性】
技术研发人员:夏荣海,夏成雷,
申请(专利权)人:瑞安市荣海机电有限公司,
类型:发明
国别省市:浙江;33
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