一种等离子体处理用的匀气电极制造技术

本实用新型专利技术公开了一种等离子体处理用的匀气电极，电极的主体为平板结构，电极体内部设置有蛇形液体通道，在液体通道的间隙布置有用于供气的匀气结构,匀气结构内部包含多层挡板，部分挡板含有小孔，气体经过挡板和小孔后，最终得到均匀地分配从出气孔送出，使用平板电极来组建等离子体的产生结构，并且电极还兼具了对PCB的加热和气体供应的功能。

【技术实现步骤摘要】
一种等离子体处理用的匀气电极
本技术涉及等离子体处理
，特别涉及一种等离子体处理用的匀气电极
技术介绍
性，需要控制好被处理PCB的温度均匀性和反应气体供应的均匀性。温度的均匀性通过在电极内布置液体管路，通过控制管路内液体的温度来间接控制PCB的温度。反应气体的工艺则有很多方式，最简单的是在电极的外侧布置气体喷口，将气体喷入等离子体产生区域。但是这气体供应方式会造成流过PCB表面的气体均匀性差，从而影响处理的均匀性。
技术实现思路
为了克服上述缺陷，本技术提供了一种等离子体处理用的匀气电极，在PCB进行等离子体处理的设备中，需要使用平板电极来组建等离子体的产生结构，并且电极还兼具了对PCB的加热和气体供应的功能。本技术为了解决其技术问题所采用的技术方案是：一种等离子体处理用的匀气电极，所述电极的主体为平板结构，电极体内部设置有蛇形液体通道，在液体通道的间隙布置有用于供气的匀气结构，所述匀气结构的上端设有进气口，匀气结构内包含至少两片上下依次设置的挡板，正对进气口的第一片挡板没有气孔且长度小于匀气结构长度，从第二本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种等离子体处理用的匀气电极，其特征在于：该匀气电极的电极主体(1)为平板结构，电极主体(1)内部设置有蛇形液体通道(2)，在液体通道(2)的间隙布置有用于供气的匀气结构(3)，所述匀气结构(3)的上端设有进气口(4)，匀气结构(3)内包含至少两片上下依次设置的挡板，正对进气口(4)的第一片挡板(5)没有气孔且长度小于匀气结构长度，从第二片挡板(6)起，第二片挡板(6)的长度为匀气结构长度，且有小孔(10)，气体经过第二片挡板(6)和小孔(10)后，最终得到均匀地分配从出气孔(7)送出。/n

【技术特征摘要】
1.一种等离子体处理用的匀气电极，其特征在于：该匀气电极的电极主体(1)为平板结构，电极主体(1)内部设置有蛇形液体通道(2)，在液体通道(2)的间隙布置有用于供气的匀气结构(3)，所述匀气结构(3)的上端设有进气口(4)，匀气结构(3)内包含至少两片上下依次设置的挡板，正对进气口(4)的第一片挡板(5)没有气孔且长度小于匀气结构长度，从第二片挡板(6)起，第二片挡板(6)的长度为匀气结构长度，且有小孔(10)，气体经过第二片挡板(6)和小孔(10)后，最终得到均匀地分配从出气孔(7)送出。


2.根...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈培峰，宗泽源，刘庆峰，程凡雄，汤家云，
申请(专利权)人：扬州国兴技术有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32