一种氧化铌靶材制造技术

本实用新型专利技术提供了一种氧化铌靶材，包括铜板，所述铜板包括正面和背面，所述铜板的正面设有嵌合槽，所述嵌合槽内嵌合有由若干块氧化铌拼接而成的靶材，所述靶材与嵌合槽槽底之间设有一层金属铟，沿着所述铜板边沿设有若干固定通孔，所述铜板的背面设有水冷槽。本实用新型专利技术靶材结构简单、设计合理，可满足对靶材较大尺寸的要求，此外，铜板和水冷槽的设计使得靶材的散热效果好，从而可防止溅射过程中靶材龟裂甚至断裂而影响溅射。

【技术实现步骤摘要】
一种氧化铌靶材
本技术涉及磁控溅射
，具体而言，涉及一种氧化铌靶材。
技术介绍
氧化铌溅射靶材是制备高折射率薄膜的溅射材料，应用在液晶显示器(LCD)、等离子显示器(PDP)、触摸屏(TouchPanel)、光学镜片等方面。随着半导体技术的迅猛发展，以及为了达到更好的溅射效果，对靶材的尺寸要求也相应增长（有时其长度需达到1米以上），因现有设备限制且为了生产方便，现有的靶材的尺寸较小（一般长度为0.2~0.4米）无法满足一些溅射镀膜要求，此外，氧化铌靶材在溅射过程中的因断裂而影响后续溅射也是亟待解决的一个问题。鉴于此，本申请专利技术人专利技术了一种氧化铌靶材。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种结构简单、设计合理，可有效防止靶材龟裂甚至断裂的氧化铌靶材。为实现上述目的，本技术采用以下技术方案：一种氧化铌靶材，包括铜板，所述铜板包括正面和背面，所述铜板的正面设有嵌合槽，所述嵌合槽内嵌合有由若干块氧化铌拼接而成的靶材，所述靶材与嵌合槽槽底之间设有一层金属铟，沿着所述铜板边沿设有若干固定通孔，所述铜板的背面设有水冷槽。进一步地，所述水冷槽的位置与嵌合槽的位置相对应。进一步地，所述水冷槽包括多个，相邻水冷槽内的水流方向相反。与现有技术相比，本技术的有益效果是：本技术靶材结构简单、设计合理，可满足对靶材较大尺寸的要求，此外，铜板和水冷槽的设计使得靶材的散热效果好，从而可防止溅射过程中靶材龟裂甚至断裂影响而溅射。附图说明为了更清楚地说明本技术实施方式的技术方案，下面将对实施方式中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本技术的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。图1是本技术靶材立体状态示意图；图2是本技术靶材正面示意图；图3是图2中A-A方向剖视图；图4是本技术靶材背面示意图。主要元件符号说明10-铜板，11-嵌合槽，12-固定通孔，13-水冷槽，20-靶材，30-金属铟。具体实施方式为使本技术实施方式的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本技术实施方式中的附图，对本技术实施方式中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施方式是本技术一部分实施方式，而不是全部的实施方式。基于本技术中的实施方式，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施方式，都属于本技术保护的范围。因此，以下对在附图中提供的本技术的实施方式的详细描述并非旨在限制要求保护的本技术的范围，而是仅仅表示本技术的选定实施方式。基于本技术中的实施方式，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施方式，都属于本技术保护的范围。在本技术中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。在本技术中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。实施例参照图1所示，本技术公开了一种氧化铌靶材，包括铜板10，所述铜板10包括正面和背面，所述铜板10的正面设有嵌合槽11，所述嵌合槽11内嵌合有由若干块氧化铌拼接而成的靶材20，其中，靶材20四周边沿高于铜板10的正面，本实施例中，所述铜板10大致呈长方形，其长度为1.2米，其中嵌合槽11也呈长方形，其长度为1.1米，靶材20与嵌合槽11完全嵌合，氧化铌具体的块数则根据氧化铌的尺寸不同而会不同，将嵌合槽11填满即可，而拼接而成的靶材20其长度远大于单块氧化铌作为靶材20，从而可满足越来越高的溅射要求，所述靶材20与嵌合槽11槽底之间设有一层金属铟30，铟是一种质地极软的易熔金属。熔点156.61℃，因为铜板10和氧化铌靶材无法通过普通的胶水粘合固定，将金属铟30放置于铜板10的嵌合槽11内，从铜板10背面对铜板10进行加热，铜板10导热性能好，可快速导热至嵌合槽11内的铟，待铟受热熔化后停止加热，同时将氧化铌块拼接嵌入嵌合槽11，嵌合完成后待铟冷却固化，即将氧化铌靶材固定在了铜板10的嵌合槽11内，沿着所述铜板10边沿设有若干固定通孔12，本实施例中，为了冷却水槽的设计，仅沿着铜板10长度方向的边沿设有固定通孔12，固定通孔12均匀分布，用于将铜板10固定在溅射装置上。所述铜板10的背面设有水冷槽13，所述水冷槽13的位置与嵌合槽11的位置相对应，水冷槽13的设置，用于铺设水冷管路从而对靶材20进行散热，将水冷管路（图中未示出）直接嵌设在铜板10上，其散热效果好，因在真空溅镀过程中会发出大量的热量，故需对靶材20进行散热，一方面，散热可防止氧化铌受热龟裂，另一方面，可防止因温度过高而导致铟熔化，从而可防止氧化铌从铜板10上脱落，其中，所述水冷槽13包括多个，其均呈长条状且沿着铜版的长度方向延伸，每个水冷槽13内均单独设有水冷管路，相邻水冷槽13内水冷管路的水流方向相反，水冷管路采用导热性能的材质制成，如可采用铜管，水冷管路里的水流过铜板10时，可带走大量的热量，而铜板10的优异导热性能，可同时带走靶材20大量的热量。以上所述仅为本技术的优选实施方式而已，并不用于限制本技术，对于本领域的技术人员来说，本技术可以有各种更改和变化。凡在本技术的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种氧化铌靶材，其特征在于，包括铜板，所述铜板包括正面和背面，所述铜板的正面设有嵌合槽，所述嵌合槽内嵌合有由若干块氧化铌拼接而成的靶材，所述靶材与嵌合槽槽底之间设有一层金属铟，沿着所述铜板边沿设有若干固定通孔，所述铜板的背面设有水冷槽。/n

【技术特征摘要】
1.一种氧化铌靶材，其特征在于，包括铜板，所述铜板包括正面和背面，所述铜板的正面设有嵌合槽，所述嵌合槽内嵌合有由若干块氧化铌拼接而成的靶材，所述靶材与嵌合槽槽底之间设有一层金属铟，沿着所述铜板边沿设有若干固定通孔，所述铜板的背面设有水冷...

【专利技术属性】
技术研发人员：童晓鸣，
申请(专利权)人：厦门点睛巨石纳米科技有限公司，
类型：新型
国别省市：福建;35