一种配置热丝的电弧离子镀膜装置制造方法及图纸

技术编号:24858039 阅读:35 留言:0更新日期:2020-07-10 19:10
本实用新型专利技术属于材料表面改性领域,具体涉及一种配置热丝的电弧离子镀膜装置。在设备真空室的侧壁处相对设置热丝接线柱,每个热丝接线柱的一端通过真空室侧壁伸入真空室内,每个热丝接线柱穿设固定于真空室侧壁的一个热丝绝缘块上,每个热丝接线柱的另一端露在真空室外侧;相对设置的两个热丝接线柱露出真空室外壁的一端,分别通过导线接热丝电源的正极与负极,相对设置的两个热丝接线柱伸至真空室内的一端通过热丝连接,形成一组热丝发射热电子结构。在镀膜过程中,通过给热丝通电,使其发射热电子,热电子在迁徙过程中通过与气体分子或金属原子发生碰撞,使其发生电离,从而提高真空室内的等离子体密度,提高薄膜致密化程度及其沉积速率。

【技术实现步骤摘要】
一种配置热丝的电弧离子镀膜装置
:本技术属于材料表面改性领域,具体涉及一种配置热丝的电弧离子镀膜装置。
技术介绍
:电弧离子镀技术由于其具有离化率高、沉积效率快、绕镀性好等优点,已在工、模具表面强化等领域获得了广泛应用,大大提高了这些工件的性能及使役寿命。但对于普通的生产型工业电弧离子镀设备而言,对于工件表面的镀膜沉积速率大多在1~3微米/小时范围内,这对于普通的钻头、铣刀等工具可满足要求,但对于磨损严重且承载较大的工件而言,如:汽车用活塞环等,一般需要沉积20微米厚的CrN涂层,这就使得需要的镀膜时间延长到6小时以上,使得镀膜效率明显降低。为了提高镀膜沉积效率,人们往往采用磁场来增加等离子体密度的方法。中国专利公开号CN103540900A(一种磁控电弧离子镀复合沉积工艺及沉积装置)提出在电弧离子镀装置中设置两套磁场发生装置,一套置于靶材后面,称为弧斑约束磁场发生装置,可加速弧斑运动速度;另一套磁场发生装置置于真空室外的等离子体传输通道外侧,可对等离子体进行聚焦,从而最终提高沉积效率,但是该方法需要专用的磁场发生装置及电源。中本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种配置热丝的电弧离子镀膜装置,其特征在于,在设备真空室的侧壁处相对设置热丝接线柱,每个热丝接线柱的一端通过真空室侧壁伸入真空室内,每个热丝接线柱穿设固定于真空室侧壁的一个热丝绝缘块上,每个热丝接线柱的另一端露在真空室外侧;相对设置的两个热丝接线柱露出真空室外壁的一端,分别通过导线接热丝电源的正极与负极,相对设置的两个热丝接线柱伸至真空室内的一端通过热丝连接,形成一组热丝发射热电子结构,该结构对称分布;/n工件转架台位于真空室内的底部,工件转架台上对称设置工件转架,基体偏压电源的负极与工件转架台连接,基体偏压电源的正极接真空室外壁并接地;在真空室的内壁上,设置与工件转架上的工件相对应的弧源...

【技术特征摘要】
1.一种配置热丝的电弧离子镀膜装置,其特征在于,在设备真空室的侧壁处相对设置热丝接线柱,每个热丝接线柱的一端通过真空室侧壁伸入真空室内,每个热丝接线柱穿设固定于真空室侧壁的一个热丝绝缘块上,每个热丝接线柱的另一端露在真空室外侧;相对设置的两个热丝接线柱露出真空室外壁的一端,分别通过导线接热丝电源的正极与负极,相对设置的两个热丝接线柱伸至真空室内的一端通过热丝连接,形成一组热丝发射热电子结构,该结构对称分布;
工件转架台位于真空室内的底部,工件转架台上对称设置工件转架,基体偏压电源的负极与工件转架台连接,基体偏压电源的正极接真空室外壁并接地;在真空室的内壁上,设置与工件转架上的工件相对应的弧源靶材。


2.按照权利要求1所述的配置热丝的电弧离子镀膜装置,其特征在于,热丝接线柱通过热丝绝缘块与真空室侧壁绝缘,热丝绝缘块与真空室壁之间采用密封胶圈密封。


3.按照权利要求1所述的配置热丝的电弧离子镀膜装置,其特征在于,热丝接线柱采用紫铜制作的空心水冷结构。


4.按照权利要求1所述的配置热丝的电弧离子镀膜装置,其特征在于,真空室内壁与热丝之间设置表面抛光的、无磁不锈钢304制作的热丝反射罩,热丝反射罩单面朝着工件方向开口,其余面封闭,将热丝发射的热量往真空室中心部位反射。


5.按照权利要求1所述的配置热丝的电弧离子镀膜装置,其特征在于,热丝设置于立式电弧离子镀设...

【专利技术属性】
技术研发人员:赵彦辉刘忠海王海于宝海王英智刘洋
申请(专利权)人:中国科学院金属研究所沈阳乐贝真空技术有限公司
类型:新型
国别省市:辽宁;21

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