等离子镀膜设备及等离子镀膜喷头制造技术

本发明专利技术涉及一种等离子镀膜设备及等离子镀膜喷头。等离子镀膜喷头的喷射口对准待镀膜的表面。将等离子镀膜喷头设置于待镀膜的表面的上方，使得等离子镀膜喷头的喷射口对准待镀膜的表面。等离子气体进入到等离子镀膜喷头的喷孔内，镀膜材料能够由等离子镀膜喷头侧壁上的进料孔进入到喷孔内，便于通过喷孔内的等离子气体离子化镀膜材料。由于镀膜材料一般为液态，由于进料孔至喷射口之间的喷孔的内表面上设有凸起结构和/或凹槽结构，进而能够有效延长镀膜材料由进料孔流向喷射口的路径，进而延长等离子气体与镀膜材料的作用时间，便于镀膜材料被充分电离，进而便于提高对待镀膜的表面镀膜的稳定性，提高镀膜材料的利用率。

Plasma coating equipment and nozzle

【技术实现步骤摘要】
等离子镀膜设备及等离子镀膜喷头
本专利技术涉及镀膜结构
，特别是涉及等离子镀膜设备及等离子镀膜喷头。
技术介绍
等离子镀膜是将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子,并直接沉积到基体表面上。传统的等离子镀膜的喷头可以用于镀膜材料的喷射。然而，传统的等离子镀膜喷头容易出现镀膜不均匀，进而导致镀膜效果差。
技术实现思路
基于此，有必要针对上述问题，提供一种能够提高镀膜稳定性的等离子镀膜设备及等离子镀膜喷头。一种等离子镀膜喷头，所述等离子镀膜喷头上开设有喷孔，所述喷孔贯穿所述等离子镀膜喷头的一端面以形成喷射口，所述等离子镀膜喷头的侧壁上开设有进料孔，所述进料孔与所述喷孔相连通，位于所述进料孔与所述喷射口之间的所述喷孔的内表面上设有凸起结构和/或凹槽结构。在其中一个实施例中，所述进料孔轴线的延长线与所述喷孔内表面的交点位于第一平面上，所述喷射口位于第二平面上，所述第二平面与所述第一平面相互平行，所述喷孔位于所述第一平面上的任一第一截面点与所述喷孔位于所述第二平面上最短距离的第二截面点之间的距离，小于所述第一截面点本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种等离子镀膜喷头，其特征在于，所述等离子镀膜喷头上开设有喷孔，所述喷孔贯穿所述等离子镀膜喷头的一端面以形成喷射口，所述等离子镀膜喷头的侧壁上开设有进料孔，所述进料孔与所述喷孔相连通，位于所述进料孔与所述喷射口之间的所述喷孔的内表面上设有凸起结构和/或凹槽结构。/n

【技术特征摘要】
1.一种等离子镀膜喷头，其特征在于，所述等离子镀膜喷头上开设有喷孔，所述喷孔贯穿所述等离子镀膜喷头的一端面以形成喷射口，所述等离子镀膜喷头的侧壁上开设有进料孔，所述进料孔与所述喷孔相连通，位于所述进料孔与所述喷射口之间的所述喷孔的内表面上设有凸起结构和/或凹槽结构。


2.根据权利要求1所述的等离子镀膜喷头，其特征在于，所述进料孔轴线的延长线与所述喷孔内表面的交点位于第一平面上，所述喷射口位于第二平面上，所述第二平面与所述第一平面相互平行，所述喷孔位于所述第一平面上的任一第一截面点与所述喷孔位于所述第二平面上最短距离的第二截面点之间的距离，小于所述第一截面点至所述第二截面点沿所述喷孔内表面的距离。


3.根据权利要求2所述的等离子镀膜喷头，其特征在于，所述喷孔位于第三平面上的任一第三截面点与所述喷孔位于所述第二平面上最短距离的第二截面点之间的距离，等于所述第三截面点至所述第二截面点沿所述喷孔内表面的距离，其中所述第三平面位于所述第一平面与所述第二平面之间并靠近所述第二平面。


4.根据权利要求1所述的等离子镀膜喷头，其特征在于，所述喷孔贯穿所述等离子镀膜喷头相背对的另一端面以形成...

【专利技术属性】
技术研发人员：丁雪苗，赵芝强，赵公魄，
申请(专利权)人：珠海宝丰堂电子科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44