足底压力图像相似度评价方法技术

本发明专利技术涉及图像处理技术领域，公开了一种足底压力图像相似度评价方法，包括以下步骤：足迹校准：对采集到的足底压力数据进行去噪，并统一足迹图像中足迹的倾角，完成校准操作；判断外部相似度：对经过校准的足迹图像进行等效矩形算法，得到像素级别的足长与足宽，并转化为真实的足长与足宽，比较得出外部相似度；判断内部相似度：对每个区域的压力块进行压力增强，分别在每个区域建立极坐标系，将压力块转化为点集形式，基于匹配相似度算法，根据压力的点集信息对内部相似度进行评价。本发明专利技术通过上述步骤能够准确判断不同足底压力图像之间的相似度，反馈足底每个区域压力分布的差异性，可用于刑侦判断，有效提高刑侦效率。

【技术实现步骤摘要】
足底压力图像相似度评价方法
本专利技术涉及图像处理
，尤其涉及一种足底压力图像相似度评价方法。
技术介绍
足迹图像受足部骨骼、后天生活习惯等影响具有唯一性和独特性，并且相对于指纹痕迹等其他痕迹来说更加不容易伪装。除了纯粹的科研意义，在商业和执法中也有着诸多应用，如监管、安全、刑侦领域等。现有技术中，如何对比不同足迹的相似度是足迹领域的难点之一，传统算法仅仅对油墨，光学等不包含压力信息的足迹数据进行外缘轮廓的大致评价，针对包含压力信息的足迹数据，没有成型的算法，因此无法得到更加准确、可靠的相似度判断。
技术实现思路
本专利技术针对现有技术的不足，提供一种能够准确比较、判断多幅足底压力图像之间相似度的评价方法。本专利技术通过以下技术手段实现解决上述技术问题的：一种足底压力图像相似度评价方法，包括以下步骤：S1、足迹校准：对采集到的足底压力数据进行去噪，并统一足迹图像中足迹的倾角，完成校准操作；S2、判断外部相似度：对经过校准的足迹图像进行等效矩形算法，得到像素级别的足长与足宽，再将像本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种足底压力图像相似度评价方法，其特征在于，包括以下步骤：/nS1、足迹校准：对采集到的足底压力数据进行去噪，并统一足迹图像中足迹的倾角，完成校准操作；/nS2、判断外部相似度：对经过校准的足迹图像进行等效矩形算法，得到像素级别的足长与足宽，再将像素级别的足长与足宽转化为真实的足长与足宽，计算出外部相似度；/nS3、判断内部相似度：对经过校准的足迹图像进行等效矩形算法，使用自适应阈值划分的方式提取足底压力数据中的压力块，对每个区域的压力块进行压力增强，并分别在每个区域建立极坐标系，将压力块转化为点集形式，基于匹配相似度算法，根据压力的点集信息对内部相似度进行评价。/n

【技术特征摘要】
1.一种足底压力图像相似度评价方法，其特征在于，包括以下步骤：
S1、足迹校准：对采集到的足底压力数据进行去噪，并统一足迹图像中足迹的倾角，完成校准操作；
S2、判断外部相似度：对经过校准的足迹图像进行等效矩形算法，得到像素级别的足长与足宽，再将像素级别的足长与足宽转化为真实的足长与足宽，计算出外部相似度；
S3、判断内部相似度：对经过校准的足迹图像进行等效矩形算法，使用自适应阈值划分的方式提取足底压力数据中的压力块，对每个区域的压力块进行压力增强，并分别在每个区域建立极坐标系，将压力块转化为点集形式，基于匹配相似度算法，根据压力的点集信息对内部相似度进行评价。


2.如权利要求1所述的足底压力图像相似度评价方法，其特征在于，所述校准操作包括以下步骤：
S1、根据式1-3对足迹区域进行分区，将图像中的脚印分为脚趾区A、前掌区B、足跟区C三个区域，式1-3如下：
a＝0.1589×h式1
b＝0.2322×h式2
c＝0.2700×h式3；
S2、采用矩形等效法在前掌区B、足跟区C内分别设置矩形框1、矩形框2，并以矩形框1、矩形框2的中心点做为前掌区B、足跟区C的中心点，以两个中心点的连线为转轴，以前掌区B的中心点为定点旋转转轴至与显示屏幕底边垂直。


3.如权利要求1所述的足底压力图像相似度评价方法，其特征在于，所述外部相似度的计算包括以下步骤：利用等效矩形框定校准后的图像，得到脚趾区A1、前掌区B1、足跟区C1三个框选区域，以等效矩形的长为像素级别的足长L，等效矩形的宽为像素级别的足宽W，基于单块压力板长度为30cm，采集出的图像长为250个像素点，因此足迹的真实足长足宽由式4-5可得，不同足底压力图像的外部相似度由式6可得
Lr＝30/250×L式4
Wr＝30/250×W式5
Sp＝|Lmr-Lnr|+|Wmr-Wnr|式6；
其中，Lr、Wr分别为真实的足长、足宽，Sp为外部相似度，Lmr、Wmr是第m个足底压力图像的真实足长、足...

【专利技术属性】
技术研发人员：王年，樊旭晨，唐俊，张艳，朱明，鲍文霞，吴洛天，王鹏鹏，
申请(专利权)人：安徽大学，
类型：发明
国别省市：安徽;34