一种半导体芯粒清洗装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及微电子封装技术领域，具体为一种半导体芯粒清洗装置；包括超声波清洗箱、自动伸缩架、清洗模具盘、烘干装置以及控制装置，所述超声波清洗箱、所述自动伸缩架、所述烘干装置均与所述控制装置电连接；实际应用中，将清洗液或水注入超声波清洗箱，控制装置控制自动伸缩架上载着多层清洗模具盘伸入清洗槽中由超声波发生器进行超声波清洗，清洗完成后由烘干装置对芯粒进行烘干，烘干后将清洗模具盘取出，将清洗模具盘中的芯粒分开存放；本实用新型专利技术结构简单，可用水替代专用清洗液，清洗效果好，还通过烘干提高了芯粒和清洗模具盘的使用寿命。

【技术实现步骤摘要】
一种半导体芯粒清洗装置
本技术涉及微电子封装
，具体为一种半导体芯粒清洗装置。
技术介绍
随着社会的发展，科学技术的进步，在电子
中的成就越来越高，使得电子设备对精密元件的要求越来越严格，在对精密元件进行生产加工的过程中，需要对其进行水洗，去除表面吸附的杂质和粉尘，才能投入到生产实践中。随着社会的发展，科学技术的进步，在电子
中的成就越来越高，使得电子设备对精密元件的要求越来越严格，在对精密元件进行生产加工的过程中，需要对其进行水洗，去除表面吸附的杂质和粉尘，才能投入到生产实践中。超声波在液体中传播，使液体与清洗槽在超声波频率下一起振动，液体与清洗槽振动时有自己固有频率，这种振动频率是声波频率，所以人们就听到嗡嗡声。随着清洗行业的不断发展，越来越多的行业和企业运用到了超声波清洗机。目前半导体小芯粒小于5mm×5mm的芯粒清洗没有适用的专门设备，一般是手工逐一操作，很容易对芯粒造成损伤，而且体积过小的芯粒更是无法操作。传统的清洗方法效率低、效果差。经检索，现有技术中芯粒的清洗方法需要将待清洗的芯粒置放于有本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种半导体芯粒清洗装置，其特征在于：包括超声波清洗箱(1)、所述超声波清洗箱(1)中竖直开设有清洗槽(12)，超声波发生器(13)围绕所述清洗槽(12)设置，所述清洗槽(12)中活动安装有多个清洗模具盘(3)，所述超声波清洗箱(1)上固定有自动伸缩架(2)，所述自动伸缩架(2)设置在所述清洗模具盘(3)正上方，并与所述自动伸缩架(2)连接，所述超声波清洗箱(1)一侧固定安装的烘干装置(4)以及控制装置(5)，所述超声波清洗箱(1)、所述自动伸缩架(2)、所述烘干装置(4)均与所述控制装置(5)电连接。/n

【技术特征摘要】
1.一种半导体芯粒清洗装置，其特征在于：包括超声波清洗箱(1)、所述超声波清洗箱(1)中竖直开设有清洗槽(12)，超声波发生器(13)围绕所述清洗槽(12)设置，所述清洗槽(12)中活动安装有多个清洗模具盘(3)，所述超声波清洗箱(1)上固定有自动伸缩架(2)，所述自动伸缩架(2)设置在所述清洗模具盘(3)正上方，并与所述自动伸缩架(2)连接，所述超声波清洗箱(1)一侧固定安装的烘干装置(4)以及控制装置(5)，所述超声波清洗箱(1)、所述自动伸缩架(2)、所述烘干装置(4)均与所述控制装置(5)电连接。


2.根据权利要求1所述的一种半导体芯粒清洗装置，其特征在于：所述超声波清洗箱(1)包括箱体(11)，所述箱体(11)中均布有多个超声波发生器(13)，所述清洗槽(12)的槽壁上开设有注水口(14)以及所述清洗槽(12)底部开设有出水口(15)，所述出水口(15)上设有电阀(16)。


3.根据权利要求1或2所述的一种半导体芯粒清洗装置，其特征在于：所述自动伸缩架(2)包括设置在所述清洗槽(12)正上方的固定架(21)，所述固定架(21)通过支撑杆与所述超声波清洗箱(1)固定连接，所述固定架(21)上均布有多个固定连...

【专利技术属性】
技术研发人员：李忠宁，
申请(专利权)人：南京鑫昌电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32