【技术实现步骤摘要】
近红外带通滤光片及光学传感系统
本申请涉及滤光片领域,更具体的,涉及一种近红外带通滤光片及光学传感系统。
技术介绍
红外传感系统通过接收目标反射的红外线形成图像,进而通过处理图像来得到目标的信息,通常应用在人脸识别、手势识别、智能家居等领域。红外传感系统包括镜头、滤光片及图像传感器等部件红外传感系统的性能受温度的影响称为温度稳定性。例如车载激光雷达,太空探测器或光通信设备等设备经常在极端温度下工作;这些设备实际使用时的温度和制造、调试时的温度相差大,这些设备上的红外传感系统的温度稳定性要求高。为了保证设备的温度稳定性,现有技术通常对镜头的结构、材质等进行改进,以保证红外传感系统的成像质量;或关注图像传感器的电性能的温漂,以保证红外传感系统的图像数据的质量。然而,依然需要光学特性受温度变化影响小的滤光片,比如通带的中心波长偏移量受温度变化的影响小的遮光片。遮光片的通带变化也会影响红外传感系统的成像质量,而且现有技术通常只关注光线的入射角度对通带中心波长偏移量的影响,因此,期望提供一种通带中心波长偏移量受温度变化
【技术保护点】
1.一种近红外带通滤光片,其特征在于,包括:基底、主膜系和辅膜系,所述主膜系位于所述基底的第一侧上,所述辅膜系位于所述基底的第二侧上,所述第二侧与所述第一侧相对;/n所述主膜系包括按第一预设堆叠结构设置的高折射率膜层和第一低折射率膜层;/n所述辅膜系包括按第二预设堆叠结构设置的第二低折射率膜层和第三低折射率膜层,所述第三低折射率膜层的折射率与所述第二低折射率膜层的折射率不同,或者,所述辅膜系包括按第二预设堆叠结构设置的所述高折射率膜层与所述第二低折射率膜层;/n在780nm至3000nm波长范围内,所述近红外带通滤光片具有至少一个通带,在温度从-150℃改变至300℃时,所 ...
【技术特征摘要】 【专利技术属性】
1.一种近红外带通滤光片,其特征在于,包括:基底、主膜系和辅膜系,所述主膜系位于所述基底的第一侧上,所述辅膜系位于所述基底的第二侧上,所述第二侧与所述第一侧相对;
所述主膜系包括按第一预设堆叠结构设置的高折射率膜层和第一低折射率膜层;
所述辅膜系包括按第二预设堆叠结构设置的第二低折射率膜层和第三低折射率膜层,所述第三低折射率膜层的折射率与所述第二低折射率膜层的折射率不同,或者,所述辅膜系包括按第二预设堆叠结构设置的所述高折射率膜层与所述第二低折射率膜层;
在780nm至3000nm波长范围内,所述近红外带通滤光片具有至少一个通带,在温度从-150℃改变至300℃时,所述至少一个通带的中心波长的漂移量小于0.15nm/℃。
2.根据权利要求1所述的近红外带通滤光片,其特征在于,在温度从-30℃改变至85℃时,所述近红外带通滤光片的通带中心波长的漂移量小于0.09nm/℃。
3.根据权利要求1所述的近红外带通滤光片,其特征在于,对应780nm至3000nm波长范围内的任一波长,所述高折射率膜层的折射率均大于3。
4.根据权利要求3所述的近红外带通滤光片,其特征在于,所述高折射率膜层的消光系数小于0.01。
5.根据权利要求4所述的近红外带通滤光片,其特征在于,对应850nm波长处,所述高折射率膜层的折射率大于3.6,消光系数小于0.005。
6.根据权利要求1所述的近红外带通滤光片,其特征在于,所述主膜系的厚度df1满足:df1<7μm;所述辅膜系的厚度df2满足:df2<8μm。
7.根据权利要求1所述的近红外带通滤光片,其特征在于,所述高折射率膜层的一部分的晶体结构为晶态,另一部分的晶体结构为非晶态;
所述晶体结构为晶态的部分的体积与所述高折射率膜层的体积之间的比率处于10%至20%以内。
8.根据权利要求1所述的近红外带通滤光片,其特征在于,所述高折射率膜层的材料为氢化硅、氢化锗、掺硼氢化硅、掺硼氢化锗、掺氮氢化硅、掺氮氢化锗、掺磷氢化硅、掺磷氢化锗或Si0.4Ge0.6中的一种。
9.根据权利要求1所述的近红外带通滤光片,其特征在于,所述第一低折射率膜层的材料、所述第二低折射率膜层的材料及所述第三低折射率膜层的材料各自为SiO2、Si3N4、SiON2/3、Ta2O5、Nb2O5、TiO2、Al2O3、SiCN、SiC的一种。
技术研发人员:陈策,丁维红,陈惠广,方叶庆,肖念恭,
申请(专利权)人:信阳舜宇光学有限公司,
类型:新型
国别省市:河南;41
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