【技术实现步骤摘要】
一种热屏升降装置及晶体生长炉
本技术属于单晶硅制备
,具体涉及一种热屏升降装置及晶体生长炉。
技术介绍
在现有单晶硅晶体生长炉中,一般利用热屏来减少热辐射和热量损失,减少热对流,加快蒸汽挥发,加快晶体的冷却以提高晶体生长炉的拉晶速度。目前,市场上部分单晶硅晶体生长炉上配置了热屏升降控制系统,热屏升降控制系统在单晶硅装料过程中将导流筒提起,增加了石英坩埚的空间,使石英坩埚内能装入更多的硅料;这样在化料过程中,导流筒与液面不会有接触,避免导流筒沾上材料液体,使晶体生长有了更好的环境;同时,保护了热场,提高了材料的利用率。然而,目前的热屏升降控制系统仅使用直尺+游标的方式来指示热屏悬挂机构的升降位置。采用直尺和游标构成的测量装置不仅读数观察不方便,而且操作人员在进行操作时,不能单独观察热屏升降时左右悬挂机构的绝对位置,一个人无法完成热屏的调平,需要更多的人员来配合才能完成,降低了人员效率,并且增加了机械伤害操作人员的可能性。
技术实现思路
为了解决现有技术中存在的上述问题,本技术提供了一种热屏升降装置 ...
【技术保护点】
1.一种热屏升降装置,其特征在于,包括:/n升降组件(1);/n反射件(2),所述反射件(2)与所述升降组件(1)的运动方向垂直固定以形成基准平面;/n可移动部(3),所述可移动部(3)与所述反射件(2)相对设置且固定至所述升降组件(1),并且可随所述升降组件(1)的运动而远离或靠近所述反射件(2);/n其中,所述反射件(2)和所述可移动部(3)形成测距模块;/n显示模块(4),与所述可移动部(3)连接,用于显示所述可移动部(3)与所述反射件(2)之间的距离。/n
【技术特征摘要】
1.一种热屏升降装置,其特征在于,包括:
升降组件(1);
反射件(2),所述反射件(2)与所述升降组件(1)的运动方向垂直固定以形成基准平面;
可移动部(3),所述可移动部(3)与所述反射件(2)相对设置且固定至所述升降组件(1),并且可随所述升降组件(1)的运动而远离或靠近所述反射件(2);
其中,所述反射件(2)和所述可移动部(3)形成测距模块;
显示模块(4),与所述可移动部(3)连接,用于显示所述可移动部(3)与所述反射件(2)之间的距离。
2.如权利要求1所述的热屏升降装置,其特征在于,所述升降组件(1)包括主动件(11)和吊杆(12),其中,
所述吊杆(12)与所述主动件(11)刚性连接以使所述吊杆(12)可随所述主动件(11)的运动而运动,所述可移动部(3)固定在所述主动件(11)的一侧。
3.如权利要求2所述的热屏升降装置,其特征在于,所述可移动部(3)包括测距传感器(31)和连接件(32),其中,所述测距传感器(31)通过所述连接件(32)固定在所述主动件(11)的一侧以使所述测距传感器(31)正对于所述反射件(2)。
4.如权利要求3所述的热屏升降装置,其特征在于,所述测距传感器(31)包括TOF10120激光测距传感器。
5.如权利要求2所述的热屏升降装置,其特征在于,还包括导向机构(6),其中,所述主动件(11)与所述导向机构(6)滑动连接以使所述主动件(11)沿所述导向机构(6)进行往复运动;
所述反射件(2)垂直固定在所述导向机构(...
【专利技术属性】
技术研发人员:吴超,全铉国,刘佳奇,
申请(专利权)人:西安奕斯伟硅片技术有限公司,
类型:新型
国别省市:陕西;61
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