【技术实现步骤摘要】
一种掩模板冷却装置及光刻设备
本专利技术实施例涉及光刻设备
，尤其涉及一种掩模板冷却装置及光刻设备。
技术介绍
光刻机在曝光阶段，通常需要采用激光照射掩模板。掩模板包括金属铬层，金属铬层吸收激光后容易导致整个掩模板的温度随之升高，使掩模板发生形变，进而影响到了光刻的精度以及产品的良率。因此，掩模板的温度控制对于光刻精度来讲十分重要。为避免激光照射导致掩模板升温，现有技术通常采用气浴的方式对整个掩模板机台进行气浴吹扫，使气流从掩模板远离掩模板吸附台的一面流过；或者，采用洁净干燥空气对掩模板的远离掩模板吸附台的面进行吹扫。但是，实践表明，上述吹扫方式对掩模板的冷却效果不佳。
技术实现思路
本专利技术提供一种掩模板冷却装置及光刻设备，以提高对掩模板的冷却效果。第一方面，本专利技术实施例提供了一种掩模板冷却装置，包括支撑架和所述支撑架限定的镂空区域，所述支撑架包括至少一个出风口以及与每个所述出风口对应设置且连接的进风口；所述支撑架包括用于支撑所述掩模板的第一表面以及用于限定出所述镂空...
【技术保护点】
1.一种掩模板冷却装置，其特征在于，包括支撑架和所述支撑架限定的镂空区域，所述支撑架包括至少一个出风口以及与每个所述出风口对应设置且连接的进风口；/n所述支撑架包括用于支撑所述掩模板的第一表面以及用于限定出所述镂空区域的内侧面，所述出风口位于所述第一表面与所述内侧面的交界处，所述出风口为长条形，当所述支撑架上支撑有所述掩模板时，所述出风口喷出的气流所形成的风幕平行于所述掩模板，其中，所述出风口喷出的气流沿所述支撑架指向所述镂空区域的方向流动。/n
【技术特征摘要】
1.一种掩模板冷却装置，其特征在于，包括支撑架和所述支撑架限定的镂空区域，所述支撑架包括至少一个出风口以及与每个所述出风口对应设置且连接的进风口；
所述支撑架包括用于支撑所述掩模板的第一表面以及用于限定出所述镂空区域的内侧面，所述出风口位于所述第一表面与所述内侧面的交界处，所述出风口为长条形，当所述支撑架上支撑有所述掩模板时，所述出风口喷出的气流所形成的风幕平行于所述掩模板，其中，所述出风口喷出的气流沿所述支撑架指向所述镂空区域的方向流动。
2.根据权利要求1所述的掩模板冷却装置，其特征在于，所述支撑架包括第一出风口和第二出风口。
3.根据权利要求2所述的掩模板冷却装置，其特征在于，当所述支撑架上支撑有所述掩模板时，所述第一出风口喷出的气流和所述第二出风口喷出的气流在交汇之前，位于同一平面且对称设置；
当所述支撑架上支撑有所述掩模板时，所述第一出风口喷出的气流和所述第二出风口喷出的气流在所述镂空区域交汇之后，形成交汇气流，所述交汇气流向背离所述第一表面的方向延伸；
所述掩模板冷却装置还包括待保护模块；所述待保护模块位于所述支撑架远离所述第一表面的一侧；
所述交汇气流流经所述待保护模块，并对所述待保护模块进行冷却和污染防护。
4.根据权利要求1所述的掩模板冷却装置，其特征在于，所述支撑架包括与每个所述出风口一一对应设置且连接的腔体，所述出风口通过对应的所述腔体与所述进风口连接；
所述腔体用于稳定从所述进风口进入的气体的气压，并使所述气体从所述出风口喷出。
5.根据权利要求1所述的掩模板冷却装置，其特征在于，还包括第一输配气路以及位于所述第一输配气路上的第一气流控制阀；所述第一输配气路与每个所述进风口均连接；
所述第一气流控制阀用于控制所述第一输配气路传输的气体的气体流量。
6.根据权利要求5所述的掩模板冷却装置，其特征在于，所述第一气流控制阀为比例减压阀。
7.根据权利要求5所述的掩模板冷却装置，其特征在于，还包括至少一个第一温度传感器；
所述至少一个第一温度传感器位于所述支撑架上，用于检测所述掩模板的温度；所述第一温度传感器与所述第一表面之间的距离小于或等于第一预设值。
8.根据权利要求7所述的掩模板冷却装置，其特征在于，还包括第一控制模块；
所述第一控制模块分别与所述第一气流控制阀和所述第一温度传感器连接，用于获取所述第一温度传感器提供的第一温度数据，并根据所述第一温度数据控制所述第一气流控制阀的开度。
9.根据权利要求1所述的掩模板冷...
【专利技术属性】
技术研发人员：郝保同，颜小龙，李文东，
申请(专利权)人：上海微电子装备集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31
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