【技术实现步骤摘要】
浸没光刻设备的液体控制系统及方法
本专利技术涉及光刻
，特别涉及一种浸没光刻设备的液体控制系统及方法。
技术介绍
现代光刻设备以光学光刻为基础，它利用光学系统将掩膜版上的图形精确地投影曝光到涂过光刻胶的衬底(例如：硅片)上。浸没光刻是指在曝光镜头与硅片之间充满水或更高折射的液体，以取代传统干式光刻技术中对应的空气。由于水的折射率比空气大，这就使得透镜组数值孔径增大，进而可获得更加小的特征线宽。请参考图1，现有的浸没式光刻机，包括主基板1支撑一照明系统2、一投影物镜4和一工件台8，工件台8上放置有一涂有感光光刻胶的硅片7。该浸没式光刻机，将浸液(水)通过浸液限制机构6填充在投影物镜4和硅片7之间缝隙内。其中浸液限制机构，也称浸液维持系统，又称为浸没头。工作时，光电测量装置10通过处理测量光9获取工件台8位置，工件台8带动硅片7作高速的扫描、步进动作，浸液维持系统6根据工件台8的运动状态，在投影物镜4的视场范围，在浸液维持系统6内提供一个稳定的浸液流场5，同时保证浸液流场5与外界的密封，保证液体不泄漏。掩模版3上集成电路的...
【技术保护点】
1.一种浸没光刻设备的液体控制系统，其特征在于，包括设置在投影物镜与浸液维持系统之间的间隙内的液体抽排机构，所述液体抽排机构不与投影物镜和/或浸液维持系统连接，所述液体抽排机构的下表面高于或者等于浸液维持系统的浸液流场的自由液面的预设等高线，所述液体抽排机构通过管路连接有负压抽吸源。/n
【技术特征摘要】 【专利技术属性】
1.一种浸没光刻设备的液体控制系统，其特征在于，包括设置在投影物镜与浸液维持系统之间的间隙内的液体抽排机构，所述液体抽排机构不与投影物镜和/或浸液维持系统连接，所述液体抽排机构的下表面高于或者等于浸液维持系统的浸液流场的自由液面的预设等高线，所述液体抽排机构通过管路连接有负压抽吸源。
2.如权利要求1所述的浸没光刻设备的液体控制系统，其特征在于，所述液体抽排机构设置在浸没光刻设备的主基板上。
3.如权利要求2所述的浸没光刻设备的液体控制系统，其特征在于，所述液体抽排机构通过固定件设置在所述主基板上。
4.如权利要求1所述的浸没光刻设备的液体控制系统，其特征在于，所述负压抽吸源为气液回收设备。
5.如权利要求1所述的浸没光刻设备的液体控制系统，其特征在于，所述液体抽排机构的高度位置是可调节的。
6.如权利要求1所述的浸没光刻设备的液体控制系统，其特征在于，所述液体抽排机构为吸嘴。
7.如权利要求6所述的浸没光刻设备的液体控制系统，其特征在于，所述吸嘴为内含狭缝的环形薄板。
8.如权利要求6所述的浸没光刻设备的液体控制系统，其特征在于，所述吸嘴为呈环形分布的多段内含狭缝的弧形薄板，所述弧形薄板的分布避开浸液维持系统的浸液供给口和浸液回收口的位置。
9.如权利要求1所述的浸没光刻设备的液体控制系统，其特征在于，所述液体抽排机构为毛细管。
10.如权利要求9所述的浸没光刻设备的液体控制系统，其特征在于，所述毛细管为多根，多根所述毛细管呈环形分布构成毛细管阵列。
11.如权利要求10所述的浸没光刻设备的液体控制系统，其特征在于，所述毛细管阵列包括多段弧形阵列，每段弧形阵列上分布有若多根毛细管，所述多段弧形阵列的分布避开浸液维持系统的浸液供给口和浸液回收口的位置。
12.如权利要求1-11中任一项所述的浸没光刻设备的液体控制系统，其特征在于，所述液体抽排机构为两个，两个所述液体抽排机构的下表面的高度不同。
13.如权利要求12所述的浸没光刻设备的液体控制系统，其特征在于，下表面较低位置的所述液体抽排机构通过管路连接有第一负压抽吸源，下表面较高位置的所述液体抽排机构通过管路连接有第二负压抽吸源。
14.如权利要求13所述的浸没光刻设备的液体控制系统，其特征在于，所述第一负压抽吸源为低真空气液回收设备，所述第二负压抽吸源为高真空气液回收设备。
15.一种浸没光刻设备的液体控制方法，其特征在于，
在投影物镜与浸液维持系统之间的间隙内设置液体抽排机构，使所述液体抽排机构不与投影物镜和/或浸液维持系统接触连接；
技术研发人员：赵丹平，罗晋，刘剑，杨志斌，
申请(专利权)人：上海微电子装备集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31
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