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本发明提供一种浸没光刻设备的液体控制系统及方法，该系统包括设置在投影物镜与浸液维持系统之间的间隙内的液体抽排机构，所述液体抽排机构不与投影物镜和/或浸液维持系统连接，所述液体抽排机构的下表面高于或者等于浸液流场的自由液面的预设等高线，所述液...
该专利属于上海微电子装备(集团)股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海微电子装备(集团)股份有限公司授权不得商用。

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