预对准系统、预对准方法及光刻设备技术方案

本发明专利技术提供了预对准系统、预对准方法及光刻设备中，所述预对准模块用于侦测硅片的位置信息及编码信息，所述图像采集模块用于采集所述硅片的位置信息及硅片的编码信息并传回所述中央处理模块；所述中央处理模块用于根据所述硅片的位置信息发出运动指令，所述运动控制模块根据所述运动指令控制所述预对准模块运动以进行硅片的预对准；所述中央处理模块还用于根据所述硅片的编码信息进行所述硅片的编码识别。由中央处理模块控制实现硅片的预对准和编码识别，不必再由其它设备协调，从而既节约了硅片的预对准和编码识别的时间，又使预对准系统具有较强的功能性，在后续生产过程中不需要再额外增加硅片编码识别的设备，减少了设备的成本。

【技术实现步骤摘要】
预对准系统、预对准方法及光刻设备
本专利技术涉及半导体领域，特别涉及一种预对准系统、预对准方法以及包含所述预对准系统的光刻设备。
技术介绍
光刻(photolithography)工艺是半导体器件制造过程中的重要步骤，其一般包括旋涂光刻胶、曝光、显影等工序。通常，在基底(例如是硅片、玻璃基板等)上旋涂光刻胶后，利用曝光和显影工艺将光掩模上的图形转移到光刻胶上，然后通过刻蚀工艺将光掩模上的图形转移到基底上。预对准系统是光刻设备重要的组成部分，其主要是通过CCD(ChargeCoupledDevice，电荷耦合器件)图像传感器进行硅片数据采集，然后计算出位置偏差并进行修正，达到对硅片进行精确定位的目的。具体而言，在曝光工艺中，在将硅片放置在光刻设备上相应的支撑面后，需要利用预对准系统先进行硅片位置的预定位、硅片方向的预定向，预对准之后进行硅片编码(即硅片ID)的识别，以便于后续对批量的硅片进行精确的曝光对准。现有技术中硅片ID识别是采用商用的条码读取器完成，一般是在预对准系统上增加条码读取器，在完成预对准后将硅片转到一定的角本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种预对准系统，其特征在于，包括：中央处理模块、运动控制模块、预对准模块以及图像采集模块；所述预对准模块用于侦测硅片的位置信息及编码信息，所述图像采集模块用于采集所述硅片的位置信息及硅片的编码信息并传回所述中央处理模块；所述中央处理模块用于根据所述硅片的位置信息发出运动指令，所述运动控制模块根据所述运动指令控制所述预对准模块运动以进行硅片的预对准；所述中央处理模块还用于根据所述硅片的编码信息进行所述硅片的编码识别。/n

【技术特征摘要】
1.一种预对准系统，其特征在于，包括：中央处理模块、运动控制模块、预对准模块以及图像采集模块；所述预对准模块用于侦测硅片的位置信息及编码信息，所述图像采集模块用于采集所述硅片的位置信息及硅片的编码信息并传回所述中央处理模块；所述中央处理模块用于根据所述硅片的位置信息发出运动指令，所述运动控制模块根据所述运动指令控制所述预对准模块运动以进行硅片的预对准；所述中央处理模块还用于根据所述硅片的编码信息进行所述硅片的编码识别。


2.如权利要求1所述的预对准系统，其特征在于，所述预对准模块包括：旋转台、定心台以及光学侦测元件；
所述旋转台用于调整硅片角度以及硅片的垂向位置，以将所述硅片交接到所述定心台上；
所述定心台用于调整所述硅片的水平向位置；
所述光学侦测元件用于侦测所述硅片的位置信息及编码信息，所述图像采集模块采集所述光学侦测元件侦测的信息。


3.如权利要求2所述的预对准系统，其特征在于，所述运动控制模块包括：运动控制卡、多个电机及为多个所述电机配备的多个伺服放大器；
所述中央处理模块通过所述运动控制卡控制多个所述伺服放大器从而控制多个所述电机。


4.如权利要求3所述的预对准系统，其特征在于，多个所述电机包括第一电机、第二电机、第三电机及第四电机，多个所述伺服放大器包括第一伺服放大器、第二伺服放大器、第三伺服放大器及第四伺服放大器；
其中，所述第一电机用于控制所述定心台的水平向位置；所述第二电机用于控制所述旋转台的水平向旋转角度；所述第三电机用于控制所述旋转台的垂向位置；所述第四电机用于控制所述光学侦测元件的水平向位置。


5.如权利要求3所述的预对准系统，其特征在于，所述中央处理模块和所述运动控制卡通过第一数据传输接口进行信息交互，所述运动控制卡通过局域网控制多个所述伺服放大器。


6.如权利要求2所述的预对准系统，其特征在于，所述图像采集模块包括图像采集卡，所述中央处理模块通过所述图像采集卡采集所述光学侦测元件侦测的信息。


7.如权利要求6所述的预对准系统，其特征在于，所述中央处理模块和所述图像采集卡通过第二数据传输接口进行信息交互，所述图像采集卡通过图像传输网控制所述光学侦测元件。


8.如权利要求2所述的预对准系统，其特征在于，所述光学侦测元件为线面切换式光学侦测元件。


9.如权利要求8所述的预对准系统，其特征在于，所述光学侦测元件包括电荷耦合器件。


10.如权利要求1所述的预对准系统，其特征在于，所述中央处理模块包括中央处理器。


11.一种光刻设备，其特征在于，包括如权利要求1-10中任一项所述的预对准系统。


12.一种预对准方法，其特征在于，包括以下步骤：
预对准模块侦测硅片的位置信息及编码信息，图像采集模块采集所述硅片的位置信息及所述硅片的编码信息并传回所述中央处理模块；
中央处理模块根据所述硅片的位置信息发出运动指令，运动控制模块根据所述运动指令控制预对准模块运动以进行硅片的预对准；以及
所述中央处理模块根据所述硅片的编码信息进行所述硅片的编码识别。

【专利技术属性】
技术研发人员：靳力，程建，郑教增，
申请(专利权)人：上海微电子装备集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31