一种高增透减反射膜及其制备方法技术

本发明专利技术属于光学薄膜技术领域，具体公开了一种高增透减反射膜及其制备方法，包括靠近透明基底的底层、中间层以及远离透明基底的顶层，所述的底层和顶层均为折射率为1.10～1.30的介孔SiO

【技术实现步骤摘要】
一种高增透减反射膜及其制备方法
本专利技术属于光学薄膜
，具体涉及一种具有高增透减反射特性及近色中性的多层结构减反射膜及其制备方法。
技术介绍
表面反射光会造成两个不良的后果：一是光能量的损耗，从而降低器件的光利用效率或成像的明亮程度，二是反射光成为杂散光，造成光污染或降低象的衬度。通过在表面镀减反射膜，可以降低表面反射，从而提升器件效率或光学系统成像质量，并减少日常生活中的光污染。其已经被广泛应用于光伏组件、镜头、显示器、汽车玻璃、建筑幕墙等。从光学特征可以将减反射膜可以分为干涉型单层或者多层减反射膜，以及折射率渐变的多层和仿生蛾眼结构减反射膜。单层减反射膜作为最简单的减反射膜设计(如申请号为201810034428.6、201410454956.9、201710323398.6、CN201210214391.8的中国专利技术专利申请)，其特点是能够在单一波长实现完全增透，但是在偏离中心波长(峰值透过对应波长)的其它波段，透过率快速下降，表现出窄带增透减反射特性。由此可见，单层减反射膜不仅在光学性能上还有很大的提升空间，同时这种本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种高增透减反射膜，包括靠近透明基底的底层、中间层以及远离透明基底的顶层，其特征在于，所述的底层和顶层为折射率1.10～1.30的介孔SiO

【技术特征摘要】
1.一种高增透减反射膜，包括靠近透明基底的底层、中间层以及远离透明基底的顶层，其特征在于，所述的底层和顶层为折射率1.10～1.30的介孔SiO2层，其中底层厚度为5～50nm，顶层厚度为50～200nm；
所述的中间层为折射率1.35～1.50的致密MgF2或SiO2层，其厚度为50～200nm。


2.根据权利要求1所述的高增透减反射膜，其特征在于，所述底层厚度为5～40nm，所述中间层厚度为50～100nm，所述顶层厚度为100～150nm。


3.根据权利要求1所述的高增透减反射膜，其特征在于，所述的介孔SiO2层的孔径为5～15nm。


4.根据权利要求1所述的高增透减反射膜，其特征在于，所述的介孔SiO2层包括纯SiO2和含有有机疏水官能团的S...

【专利技术属性】
技术研发人员：宋伟杰，徐云飞，鲁越晖，张景，艾玲，娄雪勤，舒潘静，
申请(专利权)人：宁波材料所杭州湾研究院，中国科学院宁波材料技术与工程研究所，
类型：发明
国别省市：浙江;33