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本发明属于光学薄膜技术领域，具体公开了一种高增透减反射膜及其制备方法，包括靠近透明基底的底层、中间层以及远离透明基底的顶层，所述的底层和顶层均为折射率为1.10～1.30的介孔SiO...
该专利属于宁波材料所杭州湾研究院;中国科学院宁波材料技术与工程研究所所有，仅供学习研究参考，未经过宁波材料所杭州湾研究院;中国科学院宁波材料技术与工程研究所授权不得商用。

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