大豆玉米间作立体栽培方法技术

本发明专利技术涉及一种大豆玉米间作立体栽培方法，属于农业技术领域中的作物栽培。其中包括选种、浸种、整地、施肥、播种以及田间管理六大步骤，田间管理又分为喷洒除草剂、间苗、追肥、喷洒叶面肥杀虫剂和喷施矮丰矮壮素几个步骤。优点在于：有效的利用耕地面积，大大提高了经济效益。本发明专利技术是根据农业系统工程理论，仿生态环境中花、草、树、木各居所长，各居其位，各有所为，巧妙运用光、热、水、气等自然资源，采取不同作物高矮搭配，相互补充，相互作用，共同生存的规律提出来的。在有限的土地上，发挥最大的潜能，使作物生长发育成熟达到最佳状态。

【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于农业
中的作物栽培，特别涉及一种大豆玉米间作立体栽培方法。
技术介绍
众所周知，大豆富含人体所需的优质植物蛋白及钙酮等多种物质，是国内外市场上不可缺少的食品之一。中国有种植大豆的优良传统，而传统的种植大豆的方法均为传统式清种，使得大豆生长达不到适宜的条件，经济效益低，农民种植的积极性不高，种植户逐年减少。玉米是中国东北部地区的主要粮食作物。它是一种重要的粮食和饲料兼用作物，产量高，俗有“高产之王”和“饲料之王”的美称。中国是世界主要玉米生产国，是世界三大黄金玉米带之一，玉米产量仅次于美国，位居世界第二，玉米占中国粮食产量四分之一左右。玉米不仅是口粮、饲料，还是重要的工业原料。随着现代玉米加工工业的发展，玉米的用途越来越广，可加工的品种越来越多，消费量也将越来越大。在主产区，玉米是农民收入的主要经济来源，玉米经济已经成为区域经济发展的主导之一。为了确保区域粮食安全，必须在稳定现有的玉米种植面积基础上，提高单位面积产量，对调整农业生产结构、发展农村经济具有重要的作用。因此，在加大投入的同时，要逐步改善农业生产条件。突出依靠农业科学技术，改造传统农业的种植方式，提高农民科学本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种大豆玉米间作立体栽培方法，其特征在于：垄宽６５～７０ｃｍ，垄台播种大豆，大豆每穴单株或双株，株距８～１０ｃｍ；垄沟隔沟种玉米，玉米穴距５０ｃｍ，每穴３～４株；穴距６０～７０ｃｍ，每穴５～７株；或者穴距８０～１００ｃｍ，每穴８～１０株。

【技术特征摘要】
1.一种大豆玉米间作立体栽培方法，其特征在于垄宽65～70cm，垄台播种大豆，大豆每穴单株或双株，株距8～10cm；垄沟隔沟种玉米，玉米穴距50cm，每穴3～4株；穴距60～70cm，每穴5～7株；或者穴距80～100cm，每穴8～10株。2.根据权利要求1所述的大豆玉米间作立体栽培方法，其特征在于所说的栽培方法具体步骤如下(1)、选种大豆种选择节间短，不分支、抗倒伏的种子；玉米种选择中杆、叶片收敛、株高2.6米左右，出芽率不低于85％；(2)、浸种首先将大豆、玉米种子分别堆放在干净的水泥地面或塑料布上，将种衣剂和生物钾倒入玉米种子拌匀，然后放入抗旱保水粉；抗旱保水粉放入前先用水调成糊状，再倒入玉米种反复搅拌，闷40～60分钟，然后摊平摊薄，放置通风处阴干；用同样的方法浸大豆种子，在播种前一周浸种；(3)、整地本发明适用于所有能够种植大豆、玉米的岗地，洼地和肥沃土质，垄宽65～70cm；播种前要整地，整地方法与传统方法相同，即灭茬后施肥、起垄；玉米种植前用小铧对种植玉米的垄沟深耥一次。(4)、施肥大豆，每公顷施活性菌调理剂15kg，采用条施方法一次性施入；玉米底肥，每公顷施有机活性专用肥450kg，磷酸二铵50kg，高效添加剂10kg，混合后采取深施的方法垂直穴施肥；玉米口肥，每公顷施地兴铵基酸50kg，播种时随种子施入；(5)、播种...

【专利技术属性】
技术研发人员：田瑞平，
申请(专利权)人：田瑞平，
类型：发明
国别省市：82[中国|长春]