【技术实现步骤摘要】
一种改进型ALD镀膜机
本专利技术属于原子层镀膜领域,具体是一种改进型ALD镀膜机。
技术介绍
目前空间ALD(atomiclayerdeposition,单原子层沉积)机台普遍体积较大,且结构复杂,多片工艺的ALD机台设计如:Picosun(芬兰ALD设备供应商)都是利用金属cassette(晶圆装载盒)的方法,这种方法会导致运送晶圆十分复杂,而且不稳定,手动取片比较多,如果使用自动化的方法,经常出现掉片的现象;ASM(美国ALD设备供应商)及TEL(日本ALD设备供应商)的多片式ALD炉子方法所使用气体及前驱体使用效率低,会造成巨大的浪费。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种改进型ALD镀膜机,以解决目前市场上的ALD机台效率低的的问题。本专利技术提供如下技术方案:一种改进型ALD镀膜机,包括在内部安装有拿持结构的传送放置通道,和多个放置腔体;其中,所述拿持结构可对位于传送放置通道内部的晶圆拿持取放到多个放置腔体内部的盒体中,营造真空环境后可对盒体及晶圆进行翻转;还包括 ...
【技术保护点】
1.一种改进型ALD镀膜机,其特征在于,/n包括在内部安装有拿持结构的传送放置通道,和多个放置腔体;其中,/n所述拿持结构可对位于传送放置通道内部的晶圆拿持取放到多个放置腔体内部的盒体中,营造真空环境后对盒体及晶圆进行翻转;/n还包括多个ALD反应器,而放置腔体内部的盒体将晶圆移动到ALD反应器中进行单原子层沉积工艺反应。/n
【技术特征摘要】
1.一种改进型ALD镀膜机,其特征在于,
包括在内部安装有拿持结构的传送放置通道,和多个放置腔体;其中,
所述拿持结构可对位于传送放置通道内部的晶圆拿持取放到多个放置腔体内部的盒体中,营造真空环境后对盒体及晶圆进行翻转;
还包括多个ALD反应器,而放置腔体内部的盒体将晶圆移动到ALD反应器中进行单原子层沉积工艺反应。
2.根据权利要求1所述的一种改进型ALD镀膜机,其特征在于,所述拿持结构包括机械手,用以晶圆取放。
3.根据权利要求2所述的一种改进型ALD镀膜机,其特征在于,所述拿持结构还包括机械人,机械手安装在机器人上,并利用机械手对位于传送放置通道内部的晶圆拿持取放到多个放置腔体内部的盒体中。
4.根据权利要求1所述的一种改进型ALD镀膜机,其特征在于,所述放置腔体内部的盒体及晶圆进行50-120度的翻转。
5.根据权利要求4所述的一种改进型ALD镀膜机...
【专利技术属性】
技术研发人员:郑锦,薛传洲,倪明,李蕊,吴俊冉,
申请(专利权)人:南京原磊纳米材料有限公司,
类型:发明
国别省市:江苏;32
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