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本发明适用于原子层镀膜领域，具体是一种改进型ALD镀膜机，包括在内部安装有拿持结构的传送放置通道，和多个放置腔体；其中，所述拿持结构可对位于传送放置通道内部的晶圆拿持取放到多个放置腔体内部的盒体中；还包括多个ALD反应器；进而，拿持结构对位...
该专利属于南京原磊纳米材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过南京原磊纳米材料有限公司授权不得商用。

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