【技术实现步骤摘要】
一种新型纳米压印样品加热装置
本技术涉及一种用于纳米压印样品制备的设备,具体涉及一种可去除压印胶中气泡的真空加热装置。
技术介绍
纳米压印技术,最早由StephenYChou教授在1995年率先提出,在微纳米器件制作工艺中,是一种不同与传统光刻技术的全新图形转移技术,其不使用光线或者辐照使光刻胶感光成形,而是直接在硅衬底或者其它衬底上利用物理学的机理构造纳米尺寸图形:在紫外纳米压印的生产过程中,经常需要用加热设备对涂胶后的基片和模具进行加热处理,去除胶中多余的溶剂。目前最常用的是电热板,然而使用电热板对纳米压印样品加热存在以下问题:1)加热板和样品都暴露在空气中,加热温度会受到空气的影响导致温度不恒定,导致工艺参数有误差。2)在加热板上进行加热处理的基片暴露在空气下会与空气长时间接触,衬底片容易受到污染,表面颗粒物增加,将会影响压印质量,导致产品良率低。而且在使用的时候还可能会烫伤试验人员。3)普通加热层只有一层,利用率低,不利于大规模实验和生产。4)涂胶后的基片在加热的过程中,由于胶 ...
【技术保护点】
1.一种新型纳米压印样品加热装置,其特征在于:/n包括基座壳体(1)、密封腔体、加热单元和真空单元;/n基座壳体(1),基座壳体(1)的外部顶面开设有用于固定密封腔体的卡槽;/n密封腔体,在基座壳体(1)上,是由密封外壳(14)和布置在密封外壳(14)内表面的隔热层(15)一起形成的密封环境,使内部的加热单元与外界空气隔离;/n加热单元,置于密封腔体内,包括至少一块加热板,纳米压印样品置于加热板上;/n真空单元,包括比例阀(8)、电磁阀(9)、真空管(7)和真空泵(10),真空管(7)的一端连通到密封腔体的密封环境内,真空管(7)另一端连接到真空泵(10),真空泵(10)置 ...
【技术特征摘要】
1.一种新型纳米压印样品加热装置,其特征在于:
包括基座壳体(1)、密封腔体、加热单元和真空单元;
基座壳体(1),基座壳体(1)的外部顶面开设有用于固定密封腔体的卡槽;
密封腔体,在基座壳体(1)上,是由密封外壳(14)和布置在密封外壳(14)内表面的隔热层(15)一起形成的密封环境,使内部的加热单元与外界空气隔离;
加热单元,置于密封腔体内,包括至少一块加热板,纳米压印样品置于加热板上;
真空单元,包括比例阀(8)、电磁阀(9)、真空管(7)和真空泵(10),真空管(7)的一端连通到密封腔体的密封环境内,真空管(7)另一端连接到真空泵(10),真空泵(10)置于基座壳体(1)内或整个装置的外部,真空管(7)上安装有比例阀(8)和电磁阀(9)。
2.根据权利要求1所述的一种新型纳米压印样品加热装置,其特征在于:
所述的密封外壳(14),固定在基座壳体(1)顶面的卡槽里,包括内外双层结构,每层均由...
【专利技术属性】
技术研发人员:张琬皎,龙眈,张颖,
申请(专利权)人:杭州欧光芯科技有限公司,
类型:新型
国别省市:浙江;33
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