【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】防反射构造体及其制造方法相关申请的交叉引用本申请根据在2017年11月13日申请的日本专利申请号2017-218149号的专利申请，在此引用其记载内容。
本专利技术涉及抑制或防止以所希望的入射角入射到作为使电磁波透射的对象物的基材的电磁波被反射的防反射构造体及其制造方法。
技术介绍
近年来，使用作为电磁波的毫米波的毫米波雷达装置被广泛地搭载于车辆。在该毫米波雷达装置的情况下，通常将毫米波雷达装置配置在车辆内部，使来自该毫米波雷达装置的毫米波透过前窗玻璃而进行车辆外部的目标物的距离测量等。在该结构的情况下，存在因毫米波在前窗玻璃表面的反射而导致损失变大，检测距离变短的情况。这是因为，毫米波在前窗玻璃表面的反射是由空气和玻璃的相对介电常数的差异引起的，前窗玻璃的相对介电常数与空气相比，相对介电常数较高，因此反射变大。作为抑制该反射的方法，公知有在玻璃的两面或单面设置介电体膜的方法，该介电体膜具有介于空气与玻璃中间的相对介电常数且厚度被适当设定。但是，介电体膜的相对介电常数、厚度需要根据前窗玻璃的相...
【技术保护点】
1.一种防反射构造体，该防反射构造体防止以所希望的角度θ入射的电磁波的反射，其特征在于，/n所述防反射构造体具有基材、和设置于所述基材的表面的防反射膜，/n所述防反射膜由相对介电常数低于所述基材的相对介电常数的材料构成，/n在所述防反射膜具有多个孔，该多个孔分别具有半径，形成为以给定的排列图案来贯通该防反射膜的表背并且形成为控制所述防反射膜的相对介电常数，/n所述防反射膜的厚度以及所述相对介电常数根据所述基材的厚度、相对介电常数以及角度θ而设定，以使在所述防反射膜表面的反射与在所述基材的背面的反射相互抵消。/n
【技术特征摘要】 【专利技术属性】
【国外来华专利技术】20171113 JP 2017-2181491.一种防反射构造体，该防反射构造体防止以所希望的角度θ入射的电磁波的反射，其特征在于，
所述防反射构造体具有基材、和设置于所述基材的表面的防反射膜，
所述防反射膜由相对介电常数低于所述基材的相对介电常数的材料构成，
在所述防反射膜具有多个孔，该多个孔分别具有半径，形成为以给定的排列图案来贯通该防反射膜的表背并且形成为控制所述防反射膜的相对介电常数，
所述防反射膜的厚度以及所述相对介电常数根据所述基材的厚度、相对介电常数以及角度θ而设定，以使在所述防反射膜表面的反射与在所述基材的背面的反射相互抵消。
2.根据权利要求1所述的防反射构造体，其特征在于，
所述防反射膜为多层，通过所述防反射膜的层叠层数来设定所述防反射膜的厚度。
3.根据权利要求1或2所述的防反射构造体，其特征在于，
所述防反射膜为多层，通过使厚度不同的层进行组合，从而设定所述防反射膜的厚度。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的防反射构造体，其特征在于，
所述多个孔形成为周期性的图案，该图案的周期为电磁波的波长的1/2以下。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的防反射构造体，其特征在于，
所述各孔的半径为电磁波的波长的1/4以下。
6.一种防反射构造体的制造方法，该防反射构造体防止以所希望的角度入射的电磁波的反射，其特征在于，
所述防反射构造体的制造方法具有在基材的表面设置由相对介电常数低于所述基材的相对介电常数的材料构成的防反射膜的工序，
在所述防反射膜具有多个孔，该多个孔分别具有半径，形成为以给定的排列图案来贯通该防反射膜的表背并且形成为控制所述防反射膜的相对介电常数，
所述防反射膜的厚度以及相对介电常数根据所述基材的厚度、相对介电常数以及角度θ而设定，以使在所述防反射膜表面的反射与在所述基材的背面的反射相互抵消。
7.根据权利要求6所述的防反射构造体的制造方法，其特征在于，
所述防反射膜为多层，通过所述防反射膜的层叠层数来设定所述防反射膜的厚度。
技术研发人员：阿部好浩，渡边俊明，松沢晋一郎，
申请(专利权)人：株式会社电装，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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