图案化光学延迟器及其制作方法技术

本发明专利技术提供了一种图案化光学延迟器，图案化光学延迟器包括具有相应第一主表面和第二主表面的非重叠的第一区域(21)和第二区域(27)，相应第一主表面和第二主表面具有不同的RMS表面粗糙度。对于在约400nm至约1000nm波长范围上的基本上垂直入射的光，图案化光学延迟器在相应的第一区域和第二区域中具有不同的延迟。

Patterned optical retarder and its fabrication method

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】图案化光学延迟器及其制作方法
技术介绍
光学系统可利用反射偏振器、部分反射器和相位延迟器。此类光学系统可用于头戴式显示器。
技术实现思路
在一个方面，本公开涉及一种图案化光学延迟器，该图案化光学延迟器包括具有相应第一主表面和第二主表面的非重叠的第一区域和第二区域，该相应第一主表面和第二主表面具有不同的RMS表面粗糙度。对于在约400nm至约1000nm波长(λ)范围上的基本上垂直入射的光，该图案化光学延迟器在相应的第一区域和第二区域中具有不同的延迟。在另一方面，本公开涉及一种光学元件，该光学元件包括具有图案化光学延迟器的光学部件。该图案化光学延迟器包括具有相应第一主表面和第二主表面的非重叠的第一区域和第二区域，该相应第一主表面和第二主表面具有不同的RMS表面粗糙度。对于在约400nm至约1000nm波长(λ)范围上的基本上垂直入射的光，该图案化光学延迟器在相应的第一区域和第二区域中具有不同的延迟。在另一方面，本公开涉及一种用于制作光学元件的方法。在对于在约400nm至约1000nm的预定波长λ上的基本上垂直入射的光具有基本上均匀的延迟δ并本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种图案化光学延迟器，所述图案化光学延迟器包括非重叠的第一区域和第二区域，所述第一区域和所述第二区域包括具有不同的RMS表面粗糙度的相应第一主表面和第二主表面，其中对于在约400nm至约1000nm波长(λ)范围上的基本上垂直入射的光，所述图案化光学延迟器在相应的所述第一区域和所述第二区域中具有不同的延迟。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20171027 US 62/577,8171.一种图案化光学延迟器，所述图案化光学延迟器包括非重叠的第一区域和第二区域，所述第一区域和所述第二区域包括具有不同的RMS表面粗糙度的相应第一主表面和第二主表面，其中对于在约400nm至约1000nm波长(λ)范围上的基本上垂直入射的光，所述图案化光学延迟器在相应的所述第一区域和所述第二区域中具有不同的延迟。


2.根据权利要求1所述的图案化光学延迟器，所述图案化光学延迟器具有在约0.2微米至约2微米范围内的厚度，所述第一区域具有比延迟器层的所述厚度薄约50nm至约500nm的厚度，并且所述第二区域具有比所述第一区域的所述厚度薄约20nm至约500nm的厚度。


3.根据权利要求1所述的图案化光学延迟器，其中对于在约400nm至约1000nm波长(λ)范围内的预定波长λ0的垂直入射的光，所述第一区域与所述第二区域之间的光学延迟的差异小于约0.5λ0。


4.根据权利要求1所述的图案化光学延迟器，其中所述图案化光学延迟器包括单层。


5.一种光学元件，所述光学元件包括具有图案化光学延迟器的光学部件，所述图案化光学延迟器包括非重叠的第一区域和第二区域，所述第一区域和所述第二区域包括具有不同的RMS表面粗糙度的相应第一主表面和第二主表面，其中对于在约400nm至约1000nm波长(λ)范围上的基本上垂直入射的光，所述图案化光学延迟器在相应的所述第一区域和所述第二区域中具有不同的延迟。


6.一种用于制作光学元件的方法，所述方法包括：
在对于约400nm至约1000nm的预定波长λ上的基本上垂直入射的光具有基本上均匀的延迟δ并且包括表面的聚合物光学延迟器层中，蚀刻所述表面的至少一个第一区域，使得所述聚合物光学延迟器层在所述表面的所述至少一个第一区域中包括与δ的非零延迟差异θ；以及
使所述聚合物光学延迟器层适形于光学部件的表面。


7.一种用于制作光学元件的方法，所述方法包括：
施加第一掩模以覆盖聚合物光学延迟器层的第一区域，对于在约400nm至约1000nm范围内的预定波长λ上的基本上垂直入射的光，所述聚合物光学延迟器层具有基本上均匀的延迟δ；
反应性离子蚀刻所述聚合物光学延迟器层的所述表面，使得所述聚合物光学延迟器层的未被所述第一掩模覆盖的第二区域...

【专利技术属性】
技术研发人员：乔·A·埃特，斯蒂芬·P·梅基，迈克尔·L·斯坦纳，詹姆斯·A·菲普斯，
申请(专利权)人：三M创新有限公司，
类型：发明
国别省市：美国;US