一种除味釉料及使用其的釉面砖的制备方法技术

本发明专利技术公开了一种除味釉料，按照质量份数，所述除味釉料的原料包括以下组分：负磁场粉3～15份、钾长石15～25份、钠长石12～18份、石灰石10～15份、氧化锌1～5份、高岭土8～12份、氧化铝8～15份、烧土5～8份、滑石10～15份和碳酸钡5～8份；所述负磁场粉含有氧化铁和氧化镁，且按照质量百分比，所述氧化铁的含量为33～37%,所述氧化镁的含量≤0.5%。本技术方案提出的一种除味釉料，其烧成获得的釉层可辐射远红外线，且可生成折射率高的铁堇青石晶体结构，有利于提高远红外线的辐射率，能有效去除环境内的有害气体。进而提出的一种使用上述除味釉料的的釉面砖的制备方法，其步骤不包括除铁工序，有利于确保釉面砖的除味性能。

A kind of deodorizing glaze and the preparation method of glaze brick using it

【技术实现步骤摘要】
一种除味釉料及使用其的釉面砖的制备方法
本专利技术涉及建筑陶瓷领域，尤其涉及一种除味釉料及使用其的釉面砖的制备方法。
技术介绍
现代社会中，居室污染已严重威胁人类的健康。居室污染主要是指来自建筑装璜材料产生的甲醛、笨、氨，煤、液化气、天然气的燃烧等，污染物破坏家庭日常生活环境，影响人们健康。随着人们生活水平和生活品味的提高，人们对公共场所、居住空间、日用生活及医院设施的环境优化及净化日益关注。陶瓷制品在人们的生活中应用越来越广泛，一些陶瓷砖的生产厂家为解决环境优化及净化的问题，尝试在陶瓷釉料中添加远红外陶瓷粉，以利用其辐射出远红外线，实现除去室内的苯、甲醛、硫化物、氨等异味的作用。现有的陶瓷釉料仅仅通过在陶瓷釉料中添加远红外陶瓷粉辐射出远红外线来去除异味，因此其异味去除率较低。为更好地解决环境优化及净化的问题，亟需生产一种异味去除率高的陶瓷釉料运用于陶瓷制品中。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提出一种除味釉料，其烧成获得的釉层可辐射远红外线，且可生成折射率高的铁堇青石晶体结构，有利于提高远红外线的辐射率，能有效去除环境内的有害气体。本专利技术的另一个目的在于提出一种使用上述除味釉料的的釉面砖的制备方法，其步骤不包括除铁工序，有利于确保釉面砖的除味性能。为达此目的，本专利技术采用以下技术方案：一种除味釉料，按照质量份数，所述除味釉料的原料包括以下组分：负磁场粉3～15份、钾长石15～25份、钠长石12～18份、石灰石10～15份、氧化锌1～5份、高岭土8～12份、氧化铝8～15份、烧土5～8份、滑石10～15份和碳酸钡5～8份；所述负磁场粉含有氧化铁和氧化镁，且按照质量百分比，所述氧化铁的含量为33～37%,所述氧化镁的含量≤0.5%。优选的，所述负磁场粉的颗粒大小为1～100nm。优选的，所述负磁场粉的内照射剂量≤1.1，所述负磁场粉的外照射剂量≤1.3。优选的，按照质量份数，所述除味釉料的原料还包括8～15份的硅酸锆。优选的，按照质量百分比，所述硅酸锆包括以下组分：0.2～0.3%的氧化铯、1～2%二氧化铪和0.35～0.42%氧化钇。优选的，按照质量份数，所述除味釉料的原料包括以下组分：负磁场粉9份、钾长石20份、钠长石15份、石灰石12份、氧化锌3份、高岭土8份、氧化铝8份、烧土6份、滑石12份、碳酸钡6份和硅酸锆10份。一种上述除味釉料的釉面砖的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：A、将除味釉料原料按配比加入球磨机，将羟甲基纤维素钠、三聚磷酸钠、防腐剂和水混入球磨机进行球磨，获得除味釉料；B、将步骤A的除味釉料布施在陶瓷砖坯体上，形成除味釉层；C、将步骤B具有除味釉层的陶瓷砖坯体进行烘干和烧制，形成釉面砖。优选的，所述除味釉层的厚度为0.05～3mm。优选的，所述除味釉料过325目筛，筛余0.8～1.2%。优选的，所述釉面砖的有害气体去除率≥75%。本专利技术的有益效果：本技术方案提出的一种除味釉料，其烧成获得的釉层可辐射远红外线，且可生成折射率高的铁堇青石晶体结构，有利于提高远红外线的辐射率，能有效去除环境内的有害气体。进而提出的一种使用上述除味釉料的的釉面砖的制备方法，其步骤不包括除铁工序，有利于确保釉面砖的除味性能。附图说明附图对本专利技术做进一步说明，但附图中的内容不构成对本专利技术的任何限制。图1是现有使用远红外陶瓷粉的陶瓷釉料的釉层结构电镜图。图2是本专利技术一种除味釉料的釉层结构电镜图。具体实施方式一种除味釉料，其特征在于：按照质量份数，所述除味釉料的原料包括以下组分：负磁场粉3～15份、钾长石15～25份、钠长石12～18份、石灰石10～15份、氧化锌1～5份、高岭土8～12份、氧化铝8～15份、烧土5～8份、滑石10～15份和碳酸钡5～8份；所述负磁场粉含有氧化铁和氧化镁，且按照质量百分比，所述氧化铁的含量为33～37%,所述氧化镁的含量≤0.5%。本技术方案公开了一种除味釉料，包括负磁场粉、钾长石、钠长石、石灰石、氧化锌、高岭土、氧化铝、烧土、滑石和碳酸钡。负磁场粉可以辐射远红外线从而达到去除环境中有害气体的目的，当负磁场粉的添加量太少时红外线辐射率低，容易导致有害气体去除率不高；由于负磁场粉富含发色为红色的氧化铁，当负磁场粉的添加量太多时发色太深，不方便对砖面进行印花装饰，而且负磁场粉属于低温材料，若用量太多，使用其他原料调节釉料温度的可调范围就太窄，操作性降低。氧化铝的量，主要用于调节釉面烧成温度，因为负磁场粉烧成温度低，势必要增加烧成温度高的氧化铝的用量，使釉面烧成温度适应生产窑炉的烧成温度。釉料配方中的滑石可以为堇青石析晶提供其所需要的MgO，当滑石的添加量过低时，为釉层中析出堇青石晶体的镁元素提供不足；当滑石的添加量过高时，容易导致釉料在烧制后的釉面性能变差，釉面易发白。釉料配方中碳酸钡的使用，有利于使得釉料在烧制过程中可以充分排气，有效避免无封闭气泡在釉层中，可防止烧制后釉层中不存在针孔等因排气问题而出现的缺陷。进一步说明，负磁场粉是一种可以辐射远红外线的矿石，且其富含氧化铁，但若做为铁矿，其含铁量却很低，氧化铁含量只有33～37%，属于贫矿，其用于冶炼生铁十分困难。由于负磁场粉本身可以自发地辐射远红外线，本技术方案将其用于陶瓷领域的釉料中。进一步地，现有技术中用于去除有害气体的釉料配方，其在烧成后一般生成富镁堇青石结构，如图1所示，其分子式为(Mg,Fe)2Al3[AlSi5O18]，这是由于在堇青石晶体结构中，虽然Mg、Fe均是四次配位的，但由于Mg2+比Fe2+的半径小，进入结构四面体中更稳定，因此容易在釉层中生成富镁堇青石结构。但本技术方案中利用钾长石、钠长石、石灰石、氧化锌、高岭土、氧化铝、烧土、滑石、碳酸钡与富含氧化铁的负磁场粉进行复配，使得除味釉料的配方可在烧成后生成富铁堇青石结构，如图2所示。这是由于堇青石结构中，其成分中Mg和Fe为完全类质同像代替，本技术方案在釉料中引入镁含量极低同时富含铁的负磁场粉后，Fe2+同像替代Mg2+进入四面体，同时骨架外的Al3+也被Fe3+代替，生成铁堇青石。青石是一种具有双折射和二向色性的矿石，也就是说它能有选择地吸收光辐射。由于富铁堇青石的折射率比富镁堇青石的折射率要高，当光线通过富铁堇青石时，对不同光线偏振光的吸收更低，辐射的远红外线也更高。因此，在釉料中生成富铁堇青石的晶体结构，有利于提高釉料的远红外线辐射率，能有效去除环境内的有害气体。负磁场粉的引入，使得烧制后的釉层可形成复杂的铁堇青石结构，其内部分子的运动，除组成分子的各原子中的电子的运动外，分子本身具有平移运动和转动，分子内部的原子还有相对振动，铁堇青石结构复杂化，使釉层内分子运动的自由度增加，分子的转动和原子的振动能级跃迁，使远红外线产生的量大大增加，从而有利于破坏甲苯、氨、苯、甲苯和硫化氢等有异味、有害气体的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种除味釉料，其特征在于：按照质量份数，所述除味釉料的原料包括以下组分：负磁场粉3～15份、钾长石15～25份、钠长石12～18份、石灰石10～15份、氧化锌1～5份、高岭土8～12份、氧化铝8～15份、烧土5～8份、滑石10～15份和碳酸钡5～8份；/n所述负磁场粉含有氧化铁和氧化镁，且按照质量百分比，所述氧化铁的含量为33～37%,所述氧化镁的含量≤0.5%。/n

【技术特征摘要】
1.一种除味釉料，其特征在于：按照质量份数，所述除味釉料的原料包括以下组分：负磁场粉3～15份、钾长石15～25份、钠长石12～18份、石灰石10～15份、氧化锌1～5份、高岭土8～12份、氧化铝8～15份、烧土5～8份、滑石10～15份和碳酸钡5～8份；
所述负磁场粉含有氧化铁和氧化镁，且按照质量百分比，所述氧化铁的含量为33～37%,所述氧化镁的含量≤0.5%。


2.根据权利要求1所述的一种除味釉料，其特征在于：所述负磁场粉的颗粒大小为1～100nm。


3.根据权利要求1所述的一种除味釉料，其特征在于：所述负磁场粉的内照射剂量≤1.1，所述负磁场粉的外照射剂量≤1.3。


4.根据权利要求1所述的一种除味釉料，其特征在于：按照质量份数，所述除味釉料的原料还包括8～15份的硅酸锆。


5.根据权利要求4所述的一种除味釉料，其特征在于：按照质量百分比，所述硅酸锆包括以下组分：0.2～0.3%的氧化铯、1～2%二氧化铪和0.35～0.42%氧化钇。


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【专利技术属性】
技术研发人员：王金凤，林锦威，徐瑜，钟保民，
申请(专利权)人：佛山市东鹏陶瓷发展有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44