一种高透单银低辐射镀膜玻璃及制备方法技术

本发明专利技术提供了一种高透单银低辐射镀膜玻璃及制备方法，属于镀膜玻璃技术领域。本高透单银低辐射镀膜玻璃包括玻璃基片层和镀膜层，镀膜层自玻璃基片层向外依次复合有八个膜层，其中第一层为SiNx层，第二层为ZnAl层,第三层为Ag层，第四层为NiCr层，第五层为ZnAl层,第六层为ZnSn层,第七层为SiNx层，第八层为ZrOx层；第一层和第二层为为第一电介质组合层，第三层为低辐射功能层，第四层为第一阻挡保护层，第五层和第六层为第二电介质组合层，第七层为膜层保护层；通过磁控溅射的方式对各膜层进行分别溅射镀膜。本发明专利技术具有透光率高、抗氧化性能好等优点。

A high transparent single silver and low radiation coated glass and its preparation method

【技术实现步骤摘要】
一种高透单银低辐射镀膜玻璃及制备方法
本专利技术属于镀膜玻璃
，涉及一种高透单银低辐射镀膜玻璃及制备方法。
技术介绍
作为一种优良的建筑材料，玻璃由于其良好的通透性，具有透光防风雪的功能，被广泛应用于建筑上。随着现代科技水平的发展，玻璃被赋予各种新的内涵，其中low-E玻璃以其美观大方的颜色、较好的质感以及优良的节能特性，在建筑幕墙领域已受到广泛应用。Low-E玻璃又称低辐射玻璃，常使用磁控溅射法在玻璃基片表面沉积出纳米膜层，进而改变玻璃的光学、电学、机械和化学等方面的性能，达到装饰、节能、环保等目的。作为节能建筑材料，low-E玻璃的节能特性与普通玻璃及热反射镀膜玻璃相比，Low-E玻璃对远红外辐射具有极高的反射率。可保持室内温度稳定，减少建筑加热或制冷的能耗，起到了非常优秀的节能降耗作用。而高透型Low-E玻璃在保障绝佳的保温性能的同时具有较高的可见光透射率，所以采光效果好，适用于北方寒冷地区和部分地域的高通透性建筑，突出自然采光效果。经检索，中国专利201811478740.0公开了一种高透低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片和镀在玻璃基片一个表面的膜层，膜层自玻璃基片的一侧由里向外依次包括：第一层保护层、第二层连接层、第三层功能层、第四层阻挡层、第五层连接层、第六层保护层、第七层耐氧化保护层。第一层保护层材料为金属氮化物、硅的氮化物或者金属氮化物与硅的氮化物组合物；所述第二层连接层材料为ZnAlOx或陶瓷状态的AZO材料；所述第三层功能层材料为Ag，所述第四层阻挡层材料为NiCr，所述第五层连接层材料为陶瓷状态的AZO；所述第六层保护层材料为SiAlNx；所述第七层耐氧化保护层材料为陶瓷状态的ZrOx。以上技术方案存在如下问题或特点：1)从其提供的数据可以看出，单一ZrOx的透光率最高仅能够达到80％左右，在复合其他膜层后透光率最高只能达到65％。2)现有高透单银低辐射镀膜玻璃耐加工性能较差，耐氧化性能较差，使其单片存放时间较短，与后续加工的间隔不能够太长，对加工车间的调运配合、协调能够要求较高。3)以AZO作为连接层，使膜系呈浅蓝色，透光率较低，使其高透单银低辐射镀膜玻璃室外反射偏蓝。
技术实现思路
本专利技术的目的是针对现有的技术存在的上述问题，提供一种高透单银低辐射镀膜玻璃，本专利技术所要解决的技术问题是如何提高透光率和抗氧化性能。本专利技术的目的可通过下列技术方案来实现：一种高透单银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，本高透单银低辐射镀膜玻璃包括玻璃基片层和镀膜层，所述镀膜层自所述玻璃基片层向外依次复合有八个膜层，其中第一层为SiNx层，第二层为ZnAl层,第三层为Ag层，第四层为NiCr层，第五层为ZnAl层,第六层为ZnSn层,第七层为SiNx层，第八层为ZrOx层；其中，第一层和第二层为为第一电介质组合层，第三层为低辐射功能层，第四层为第一阻挡保护层，第五层和第六层为第二电介质组合层，第七层为膜层保护层。一种高透单银低辐射镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，本方法包括如下步骤：1)、磁控溅射镀膜层；A、磁控溅射第一层：靶材数量：交流旋转靶3～4个；靶材配置为硅铝(SiAl)；工艺气体比例：氩气和氮气，氩气和氮气的比例为1:1.14，溅射气压为3～5×10-3mbar；镀膜厚度为10～30nm；B、磁控溅射第二层：靶材数量：交流旋转靶1～2个；靶材配置为锌铝(ZnAl)；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:2，溅射气压为3～5×10-3mbar；镀膜厚度为10～25nm；C、磁控溅射第三层：靶材数量：直流旋转靶1个；靶材配置为银(Ag)；工艺气体比例：纯氩气，溅射气压为2～3×10-3mbar；镀膜厚度为5～20nm；D、磁控溅射第四层：靶材数量：交流旋转靶1个；靶材配置为镍铬(NiCr)；工艺气体比例：纯氩气，溅射气压为2～3×10-3mbar；镀膜厚度为1～10nm；E、磁控溅射第五层：靶材数量：交流旋转靶2个；靶材配置为锌铝(ZnAl)；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:2，溅射气压为3～5×10-3mbar；镀膜厚度为5～15nm；F、磁控溅射第六层：靶材数量：交流旋转靶2个；靶材配置为锌锡(ZnSn)；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:2，溅射气压为3～5×10-3mbar；镀膜厚度为5～10nm；G、磁控溅射第七层：靶材数量：交流旋转靶4～6个；靶材配置为硅铝(SiAl)；工艺气体比例：氩气和氮气，氩气和氮气的比例为1:1.14，溅射气压为3～5×10-3mbar；镀膜厚度为10～30nm；H、磁控溅射第八层：靶材数量：交流旋转靶1个；靶材配置为锆(ZrOx)；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:0.4，溅射气压为2～3×10-3mbar；镀膜厚度为5～20nm；2)、镀膜层总厚度控制在46～135nm，溅射室传动走速控制在4～6m/min。与现有技术相比，本专利技术具有以下优点：1、使用普通白玻原片作为基片生产时，产品室外观察整体为无色。2、通过使用锌锡和锌铝材料的结合，可增加膜层可见光透过率。3、通常使用Tiox作为改善膜层耐加工性能，但由于Tiox材料致密性较差，附着力不强并没有很好的起到后续耐加工性能保护，现将其换为ZrOx，且减少溅射室氧气占比，使其基于稳定性大大提高，使镀膜玻璃单片在车间内的存留时间可以延长至180小时——在湿度≥70％、温度≥20℃的环境中进行检测的结果。4、可获的更高可见光透过率，整片玻璃透光率达80％以上，室外颜色为无色透明状态。5、车间耐氧化性能对比传统单银高透低辐射镀膜玻璃抗氧化性能更高。6、本专利技术产品6mm单片透过率为80％-86％。外观颜色为无色，其中透过色a*∈[-1.5,0]，b*∈[1.5，1]；膜面颜色a*∈[-1,-3]，b*∈[-2，-5]；玻面颜色a*∈[0,-1]，b*∈[-1，-5]；耐氧化性能好，车间放置实验，时间大于180小时(湿度≥70％，温度≥20℃)。附图说明图1是本镀膜玻璃层状结构示意图。图中，G、玻璃基片层；1、第一层；2、第二层；3、第三层；4、第四层；5、第五层；6、第六层；7、第七层；8、第八层。具体实施方式以下是本专利技术的具体实施例并结合附图，对本专利技术的技术方案作进一步的描述，但本专利技术并不限于这些实施例。本高透单银低辐射镀膜玻璃包括玻璃基片层G和镀膜层，所述镀膜层自所述玻璃基片层G向外依次复合有八个膜层，其中第一层1为SiNx层，第二层2为ZnAl层,第三层3为Ag层，第四层4为NiCr层，第五层5为ZnAl层,第六层6为ZnSn层,第七层7为SiNx层，第八层8为ZrOx层；其中，第一层1和第二层2为为第一电介质组合层，第三层3为低辐射功能层，第四层4为第一本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种高透单银低辐射镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，所述高透单银低辐射镀膜玻璃包括玻璃基片层(G)和镀膜层，所述镀膜层自所述玻璃基片层(G)向外依次复合有八个膜层，其中第一层(1)为SiNx层，第二层(2)为ZnAl层,第三层(3)为Ag层，第四层(4)为NiCr层，第五层(5)为ZnAl层,第六层(6)为ZnSn层,第七层(7)为SiNx层，第八层(8)为ZrOx层；/n其中，第一层(1)和第二层(2)为为第一电介质组合层，第三层(3)为低辐射功能层，第四层(4)为第一阻挡保护层，第五层(5)和第六层(6)为第二电介质组合层，第七层(7)为膜层保护层；/n制备方法包括如下步骤：/n1)、磁控溅射镀膜层；/nA、磁控溅射第一层(1)：/n靶材数量：交流旋转靶3～4个；靶材配置为硅铝(SiAl)；工艺气体比例：氩气和氮气，氩气和氮气的比例为1:1.14，溅射气压为3～5×10

【技术特征摘要】
1.一种高透单银低辐射镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，所述高透单银低辐射镀膜玻璃包括玻璃基片层(G)和镀膜层，所述镀膜层自所述玻璃基片层(G)向外依次复合有八个膜层，其中第一层(1)为SiNx层，第二层(2)为ZnAl层,第三层(3)为Ag层，第四层(4)为NiCr层，第五层(5)为ZnAl层,第六层(6)为ZnSn层,第七层(7)为SiNx层，第八层(8)为ZrOx层；
其中，第一层(1)和第二层(2)为为第一电介质组合层，第三层(3)为低辐射功能层，第四层(4)为第一阻挡保护层，第五层(5)和第六层(6)为第二电介质组合层，第七层(7)为膜层保护层；
制备方法包括如下步骤：
1)、磁控溅射镀膜层；
A、磁控溅射第一层(1)：
靶材数量：交流旋转靶3～4个；靶材配置为硅铝(SiAl)；工艺气体比例：氩气和氮气，氩气和氮气的比例为1:1.14，溅射气压为3～5×10-3mbar；镀膜厚度为10～30nm；
B、磁控溅射第二层(2)：
靶材数量：交流旋转靶1～2个；靶材配置为锌铝(ZnAl)；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:2，溅射气压为3～5×10-3mbar；镀膜厚度为10～25nm；
C、磁控溅射第三层(3)：
靶材数量：直流旋转靶1个；靶材配置为银(Ag)；工艺气体比例：纯氩气，...

【专利技术属性】
技术研发人员：熊建，蒲军，宋宇，杨清华，江维，
申请(专利权)人：咸宁南玻节能玻璃有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北;42