【技术实现步骤摘要】
平弯配套双银镀膜玻璃及其制备方法
本专利技术涉及双银镀膜玻璃
,具体涉及一种平弯配套双银镀膜玻璃及其制备方法。
技术介绍
磁控溅射镀膜技术是目前工业镀膜生产中最主要的技术之一,磁控溅射具有膜层厚度均匀性,基板温度低、沉降速度快等一系列优点。以磁控溅射作为成膜技术生产的低辐射镀膜玻璃,具有表面辐射率低、红外反射率高、可见光透过率适中的特点,它既可满足建筑物良好的采光要求,又可有效地阻挡玻璃以辐射形式传递热量,具有很好的隔热性能,是在当前技术条件下实现门窗节能的最佳材质,广泛应用于大面积建筑玻璃镀膜行业。现有技术中的Low-E玻璃的生产工艺是在优质浮法基片上镀制以Ag为功能层,包含介质层和其它金属层的多层膜系。若按照功能层银的层数来进行划分,Low-E玻璃可以分为单银Low-E玻璃、双银Low-E玻璃、三银Low-E玻璃。目前,双银是建筑玻璃领域比较成熟的节能方案,其性能远高于单银产品,略低于成本较高的三银产品,随着市场形势的变化,越来越多的客户追求颜色整体的一致性,尤其体现在弯玻璃上面。现有技术中,弯玻璃通常采用先镀后钢 ...
【技术保护点】
1.一种平弯配套双银镀膜玻璃,包括玻璃基片及设于所述玻璃基片表面的膜层结构,其特征在于,所述膜层结构自所述玻璃基片向外依次包括:第一电介质组合层、第一银层、第一阻挡保护层、第一晶床介质层、第二电介质组合层、SiOx层、第三电介质组合层、第二银层、第二阻挡保护层、第二晶床介质层及第四电介质组合层,所述SiOx层的厚度为1-50nm。/n
【技术特征摘要】
1.一种平弯配套双银镀膜玻璃,包括玻璃基片及设于所述玻璃基片表面的膜层结构,其特征在于,所述膜层结构自所述玻璃基片向外依次包括:第一电介质组合层、第一银层、第一阻挡保护层、第一晶床介质层、第二电介质组合层、SiOx层、第三电介质组合层、第二银层、第二阻挡保护层、第二晶床介质层及第四电介质组合层,所述SiOx层的厚度为1-50nm。
2.如权利要求1所述的平弯配套双银镀膜玻璃,其特征在于,所述第一电介质组合层自所述玻璃基片向外依次为:ZnO层Ⅰ、SiNx层Ⅰ和ZnO层Ⅱ,所述ZnO层Ⅰ和所述ZnO层Ⅱ的厚度均小于所述SiNx层Ⅰ的厚度。
3.如权利要求1所述的平弯配套双银镀膜玻璃,其特征在于,所述第一银层的厚度小于所述第二银层的厚度。
4.如权利要求1所述的平弯配套双银镀膜玻璃,其特征在于,所述第一阻挡保护层为NiCr层Ⅰ,所述第二阻挡保护层为NiCr层Ⅱ,所述第一阻挡保护层厚度为3-6nm,所述第二阻挡保护层厚度为4-8nm。
5.如权利要求1所述的平弯配套双银镀膜玻璃,其特征在于,所述第一晶床介质层为AZO层Ⅰ,所述第二晶床介质层为AZO层Ⅱ,所述第一晶床介质层及所述第二晶床介质层的厚度均为3-6nm。
6.如权利要求2所述的平弯配套双银镀膜玻璃,其特征在于,所述第二电介质组合层自所述玻璃基片向外依次为:SiNx层Ⅱ和ZnSnO层Ⅰ;所述第三电介质组合层自所述玻璃基片向外依次为:ZnSnO层Ⅱ和ZnO层Ⅲ,所述SiNx层Ⅱ、所述ZnSnO层Ⅰ及所述ZnSnO层Ⅱ的厚度均大于所述ZnO层Ⅲ的厚度。
7.如权利要求6所述的平弯配套双银镀膜玻璃,其特征在于,所述第四电介质组合层为SiNx层Ⅲ,且所述SiNx层Ⅲ的厚度大于所述SiN...
【专利技术属性】
技术研发人员:熊云,崔平生,黄颖,阮军琪,李连发,王鹏飞,
申请(专利权)人:东莞南玻工程玻璃有限公司,中国南玻集团股份有限公司,
类型:发明
国别省市:广东;44
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