调节装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及光刻胶曝光技术领域，公开了一种调节装置，能够调节对基片向上的压力大小。本实用新型专利技术包括底座，设有第一孔和第二孔；活动柱，以活动连接方式穿设于第二孔上；可调节的气囊，填充于第一孔内；半球型的碗槽，设于活动柱上端且底部设有可调节的真空腔；基片承载台，上端设有用于放置基片的平台；半球型的连接体，固定于基片承载台的底部，连接体置于碗槽内并与活动柱滑动连接。利用连接体和碗槽，可调节基片承载台的水平度，使基片上端面与掩膜板下端面完全贴合；调节气囊的压强，可改变对活动柱向上的力，从而改变基片承载台对基片向上的压力，则可调节基片和掩膜板之间接触的压强大小，使基片与掩膜板之间的接触压强在所需范围内。

Regulating device

【技术实现步骤摘要】
调节装置
本技术涉及光刻胶曝光
，特别是一种调节装置。
技术介绍
目前在光刻机的基片接触调平上，即需要将基片与掩膜板底部完全贴合，一般都是采用弹簧作为缓冲，但这样基片的接触压力就是一个固定的值，无法调节接触压力，对于不同大小的基片，接触压强不同，会导致光刻胶的形变量不同，影响曝光效果。
技术实现思路
本技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本技术提出一种调节装置，能够调节对基片向上的压力大小。根据本技术的第一方面实施例的调节装置，包括：底座，从下往上设有相连通的第一孔和第二孔；可调节的气囊，填充于所述第一孔内；活动柱，以活动连接方式穿设于所述第二孔上且置于所述气囊的上端面；半球型的碗槽，设于所述活动柱的上端且底部设有一可调节的真空腔；基片承载台，上端设有用于放置基片的平台；半球型的连接体，固定于所述基片承载台的底部，所述连接体的球体置于所述碗槽内并与所述活动柱滑动连接，使所述连接体能相对于所述活动柱沿周向滑动。根据本技术实施例的调节装置，至少具有如下有益效果：利用半球型的连接体和碗槽，可调节基片承载台的水平度，使基片承载台上的基片的上端面与掩膜板的下端面完全贴合；通过调节气囊的压强，可改变对活动柱向上的力，从而可改变基片承载台对基片向上的压力，即通过调节气囊，则可调节基片和掩膜板之间接触的压强大小，使基片与掩膜板之间的接触压强在所需范围内。根据本技术的一些实施例，所述真空腔通过第一气管与真空泵的进气口连通。利用真空泵，可对真空腔的状态进行控制，从而控制活动柱与连接体是否保持固定的状态。根据本技术的一些实施例，所述第一孔的侧壁设有锁紧组件，所述锁紧组件用于锁紧所述活动柱，使所述活动柱与所述底座保持固定状态。利用锁紧组件，可避免活动柱会出现上下晃动的情况，从而确保气囊对活动柱的压力始终保持一致。根据本技术的一些实施例，所述锁紧组件为锁紧螺钉或气缸。根据实际情况，可选择锁紧螺钉或伸缩气缸，分别实现对活动柱的锁紧。根据本技术的一些实施例，所述气囊通过第二气管与充气泵连接。利用充气泵，可对气囊内气压进行实时调节。根据本技术的一些实施例，所述气囊内或所述第二气管或所述充气泵上设有气压检测器。设置气压检测器，可提高气囊压强的调节精准度，从而可提高调节基片与掩膜板之间的接触压强的精准度。根据本技术的一些实施例，还包括升降组件，所述升降组件的驱动端与所述底座固定连接，使所述底座沿竖直方向升起或降落。利用升降组件可调整基片承载台的位置高度，然后再通过调节连接体和碗槽及气囊的状态，则可调节基片与掩膜板之间的接触压强。根据本技术的一些实施例，所述升降组件包括电机、丝杆以及第一升降板，所述电机与所述丝杆传动连接，所述第一升降板螺纹连接于所述丝杆上，所述底座固定于所述第一升降板的上端，所述电机驱动所述丝杆转动，从而带动第一升降板上升或下降。利用丝杆传动方式则可根据掩膜板的高度对底座的高度进行调节，可适用于精准度高的高度调节工序中。根据本技术的一些实施例，所述第一升降板的一侧还套设有导向杆。增设导向杆，可以提高第一升降板在升降过程中的稳定性，使基片承载台可在升降过程中保持稳定。根据本技术的一些实施例，所述升降组件为升降气缸及固定于所述升降气缸驱动端上的第二升降板，所述底座固定于所述第二升降板上。在掩膜板的高度是固定时，采用升降气缸可降低生产成本并提高生产效率。本技术的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本技术的实践了解到。附图说明本技术的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：图1为本技术实施例的调节装置的结构示意图；图2为图1示出的调节装置的底座的结构示意图；图3为图1示出的调节装置的活动柱的结构示意图；图4为图1示出的调节装置的基片承载台的结构示意图；图5为本技术另一种实施例的调节装置的结构示意图。附图标记：底座100、第一孔110、第二孔120、气囊200、活动柱300、碗槽400、真空腔410、基片承载台500、平台510、连接体600、锁紧组件700、伸缩气缸710、伸缩活塞711、升降组件800、电机810、丝杆820、第一升降板830、导向杆840。具体实施方式本部分将详细描述本技术的具体实施例，本技术之较佳实施例在附图中示出，附图的作用在于用图形补充说明书文字部分的描述，使人能够直观地、形象地理解本技术的每个技术特征和整体技术方案，但其不能理解为对本技术保护范围的限制。在本技术的描述中，需要理解的是，涉及到方位描述，例如上、下、前、后、左、右等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。在本技术的描述中，若干的含义是一个或者多个，多个的含义是两个以上，大于、小于、超过等理解为不包括本数，以上、以下、以内等理解为包括本数。如果有描述到第一、第二只是用于区分技术特征为目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量或者隐含指明所指示的技术特征的先后关系。本技术的描述中，除非另有明确的限定，设置、安装、连接等词语应做广义理解，所属
技术人员可以结合技术方案的具体内容合理确定上述词语在本技术中的具体含义。参照图1，根据本技术实施例的调节装置，包括：底座100，从下往上设有相连通的第一孔110和第二孔120；可调节的气囊200，填充于所述第一孔110内；活动柱300，以活动连接方式穿设于所述第二孔120上且置于所述气囊200的上端面；半球型的碗槽400，设于所述活动柱300的上端且底部设有一可调节的真空腔410；基片承载台500，上端设有用于放置基片的平台510；半球型的连接体600，固定于所述基片承载台500的底部，所述连接体600的球体置于所述碗槽400内并与所述活动柱300滑动连接，使所述连接体600能相对于所述活动柱300沿周向滑动。参考图1、图2、图3以及图4，连接体600的平面端与基片承载台500的底部固定连接，连接体600的球体一面的外侧置于碗槽400内，而碗槽400及真空腔410可以直接在活动柱300的上端开设，当连接体600置于碗槽400内时，连接体600与活动柱300为滑动连接，从而可调整基片承载台500的水平度；可以想到的是，连接体600和碗槽400的半球型需相匹配，从而可实现连接体600和碗槽400之间的调整；通过改变气囊200的大小，及改变气囊200内的压强，则使活动柱300在第二孔120内沿着竖直方向上下滑动。本实施例调整过程中，根据掩膜板的位置进行调整，具体地调整过程：将基片放置于基片承载台5本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种调节装置，其特征在于，包括：/n底座，从下往上设有相连通的第一孔和第二孔；/n可调节的气囊，填充于所述第一孔内；/n活动柱，以活动连接方式穿设于所述第二孔上且置于所述气囊的上端面；/n半球型的碗槽，设于所述活动柱的上端且底部设有一可调节的真空腔；/n基片承载台，上端设有用于放置基片的平台；/n半球型的连接体，固定于所述基片承载台的底部，所述连接体的球体置于所述碗槽内并与所述活动柱滑动连接，使所述连接体能相对于所述活动柱沿周向滑动。/n

【技术特征摘要】
1.一种调节装置，其特征在于，包括：
底座，从下往上设有相连通的第一孔和第二孔；
可调节的气囊，填充于所述第一孔内；
活动柱，以活动连接方式穿设于所述第二孔上且置于所述气囊的上端面；
半球型的碗槽，设于所述活动柱的上端且底部设有一可调节的真空腔；
基片承载台，上端设有用于放置基片的平台；
半球型的连接体，固定于所述基片承载台的底部，所述连接体的球体置于所述碗槽内并与所述活动柱滑动连接，使所述连接体能相对于所述活动柱沿周向滑动。


2.根据权利要求1所述的调节装置，其特征在于：所述真空腔通过第一气管与真空泵的进气口连通。


3.根据权利要求1所述的调节装置，其特征在于：所述第一孔的侧壁设有锁紧组件，所述锁紧组件用于锁紧所述活动柱，使所述活动柱与所述底座保持固定状态。


4.根据权利要求3所述的调节装置，其特征在于：所述锁紧组件为锁紧螺钉或伸缩气缸。


5.根据权利要求1所...

【专利技术属性】
技术研发人员：王乡，钟勇，
申请(专利权)人：珠海迈时光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44