调节装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及光刻胶曝光技术领域，公开了一种调节装置，能够调节对基片向上的压力大小。本实用新型专利技术包括底座，设有第一孔和第二孔；活动柱，以活动连接方式穿设于第二孔上；可调节的气囊，填充于第一孔内；半球型的碗槽，设于活动柱上端且底部设有可调节的真空腔；基片承载台，上端设有用于放置基片的平台；半球型的连接体，固定于基片承载台的底部，连接体置于碗槽内并与活动柱滑动连接。利用连接体和碗槽，可调节基片承载台的水平度，使基片上端面与掩膜板下端面完全贴合；调节气囊的压强，可改变对活动柱向上的力，从而改变基片承载台对基片向上的压力，则可调节基片和掩膜板之间接触的压强大小，使基片与掩膜板之间的接触压强在所需范围内。

Regulating device

【技术实现步骤摘要】
调节装置
本技术涉及光刻胶曝光
，特别是一种调节装置。
技术介绍
目前在光刻机的基片接触调平上，即需要将基片与掩膜板底部完全贴合，一般都是采用弹簧作为缓冲，但这样基片的接触压力就是一个固定的值，无法调节接触压力，对于不同大小的基片，接触压强不同，会导致光刻胶的形变量不同，影响曝光效果。
技术实现思路
本技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本技术提出一种调节装置，能够调节对基片向上的压力大小。根据本技术的第一方面实施例的调节装置，包括：底座，从下往上设有相连通的第一孔和第二孔；可调节的气囊，填充于所述第一孔内；活动柱，以活动连接方式穿设于所述第二孔上且置于所述气囊的上端面；半球型的碗槽，设于所述活动柱的上端且底部设有一可调节的真空腔；基片承载台，上端设有用于放置基片的平台；半球型的连接体，固定于所述基片承载台的底部，所述连接体的球体置于所述碗槽内并与所述活动柱滑动连接，使所述连接体能相对于所述活动柱沿周向滑动。根据本技术实施例的调节装置，至少具有如下有益效果：利用半球型的连接体和碗槽，可调本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种调节装置，其特征在于，包括：/n底座，从下往上设有相连通的第一孔和第二孔；/n可调节的气囊，填充于所述第一孔内；/n活动柱，以活动连接方式穿设于所述第二孔上且置于所述气囊的上端面；/n半球型的碗槽，设于所述活动柱的上端且底部设有一可调节的真空腔；/n基片承载台，上端设有用于放置基片的平台；/n半球型的连接体，固定于所述基片承载台的底部，所述连接体的球体置于所述碗槽内并与所述活动柱滑动连接，使所述连接体能相对于所述活动柱沿周向滑动。/n

【技术特征摘要】
1.一种调节装置，其特征在于，包括：
底座，从下往上设有相连通的第一孔和第二孔；
可调节的气囊，填充于所述第一孔内；
活动柱，以活动连接方式穿设于所述第二孔上且置于所述气囊的上端面；
半球型的碗槽，设于所述活动柱的上端且底部设有一可调节的真空腔；
基片承载台，上端设有用于放置基片的平台；
半球型的连接体，固定于所述基片承载台的底部，所述连接体的球体置于所述碗槽内并与所述活动柱滑动连接，使所述连接体能相对于所述活动柱沿周向滑动。


2.根据权利要求1所述的调节装置，其特征在于：所述真空腔通过第一气管与真空泵的进气口连通。


3.根据权利要求1所述的调节装置，其特征在于：所述第一孔的侧壁设有锁紧组件，所述锁紧组件用于锁紧所述活动柱，使所述活动柱与所述底座保持固定状态。


4.根据权利要求3所述的调节装置，其特征在于：所述锁紧组件为锁紧螺钉或伸缩气缸。


5.根据权利要求1所...

【专利技术属性】
技术研发人员：王乡，钟勇，
申请(专利权)人：珠海迈时光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44