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本实用新型涉及光刻胶曝光技术领域，公开了一种调节装置，能够调节对基片向上的压力大小。本实用新型包括底座，设有第一孔和第二孔；活动柱，以活动连接方式穿设于第二孔上；可调节的气囊，填充于第一孔内；半球型的碗槽，设于活动柱上端且底部设有可调节的真...
该专利属于珠海迈时光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过珠海迈时光电科技有限公司授权不得商用。

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