镀膜前板及光伏组件制造技术

本发明专利技术涉及太阳能电池技术领域，具体涉及一种镀膜前板及光伏组件。该镀膜前板包括基材层和连接于所述基材层的镀膜层，所述基材层由透光材料制成，所述镀膜层由镀膜材料制成，所述镀膜层的厚度小于1μm，且所述镀膜层的颜色与所述镀膜层自身的厚度之间具有设定关系。本申请所提供的这种镀膜前板中，通过镀膜层一层结构即可使镀膜前板具有所需颜色，进而可以提升生产效率，且可以在一定程度上降低生产成本。

Front plate and photovoltaic module

【技术实现步骤摘要】
镀膜前板及光伏组件
本专利技术涉及太阳能电池
，具体涉及一种镀膜前板及光伏组件。
技术介绍
随着太阳能等清洁能源的逐步发展，用户在注重发电性能之余，已经开始注重光伏产品的形状和色彩等外观。而目前市场上具有颜色的光伏产品中，为了保证其具有满足需求的透光率，往往需要向膜层结构中加入增透膜层，造成整个膜层结构的层数较多，结构复杂；并且，受膜层结构生产工艺的限制，膜层越多，生产效率越低，这会造成整个光伏组件的生产效率较低；另外，为了保证整个光伏组件具有颜色，需要使用多种稀有金属作为靶材对光伏组件的前板进行镀膜工艺，而稀有金属的价格通常较为昂贵，这还造成整个光伏组件的成本进一步增加。
技术实现思路
(一)本专利技术要解决的技术问题是：目前具有颜色的光伏产品的生产效率较低，生产成本较高。(二)技术方案为了实现上述技术问题，本专利技术提供了一种镀膜前板，其包括基材层和连接于所述基材层的镀膜层，所述基材层由透光材料制成，所述镀膜层由镀膜材料制成，所述镀膜层的厚度小于1μm，且所述镀膜层的颜色与所述镀膜层自身的厚度之间具有设定关系。可选地，所述镀膜材料包括氮化硅、二氧化硅、二氧化钛、氧化锡和氮化铝中的至少一者。可选地，所述镀膜材料由氮化硅制成。可选地，所述镀膜层的厚度为62nm-500nm。可选地，所述基材层的厚度为1mm-15mm。可选地，所述基材层由玻璃材料制成。可选地，所述玻璃材料为可热弯超白玻璃。可选地，所述镀膜层经反应溅射形成于所述基材层的表面。本专利技术的第二方面提供一种光伏组件，其包括背板、电池芯片和上述任意一项所提供的镀膜前板，所述电池芯片设置于所述背板与所述镀膜前板之间。可选地，所述电池芯片相对两侧均通过胶膜分别与所述镀膜前板和所述背板连接，所述电池芯片至少一侧的胶膜包括光学胶。(三)有益效果本专利技术所提供的镀膜前板中，镀膜层形成于基材层上，基材层由透光材料制成，并且，镀膜层的厚度小于1μm，这可以保证整个镀膜前板具有满足需求的透光率，从而保证采用该镀膜前板所形成的光伏组件具有较高的发电性能；另外，镀膜层采用镀膜材料形成，由于镀膜层的颜色与镀膜层的厚度之间具有设定关系，进而在生产该镀膜前板的过程中，可以根据实际所需要的镀膜前板的颜色，并结合前述设定关系，确定所形成镀膜层的厚度，这可以使镀膜前板能显示出预设颜色，并且，本申请所提供的这种镀膜前板中仅通过镀膜层这一层膜层结构，即可使镀膜前板具有所需的颜色，膜层结构简单，生产效率较高，生产成本也会在一定程度上下降。附图说明本专利技术上述和/或附加方面的优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：图1是本专利技术实施例所提供的镀膜前板的结构简图；图2是本专利技术实施例所提供的光伏组件的分解示意图；图3是本专利技术实施例所提供的镀膜层的色度-厚度模型图。附图标记1-镀膜前板；11-基材层；12-镀膜层；2-背板；3-电池芯片；4-胶膜。具体实施方式为了能够更清楚地理解本专利技术的上述目的、特征和优点，下面结合附图和具体实施方式对本专利技术进行进一步的详细描述。需要说明的是，在不冲突的情况下，本专利技术的实施例及实施例中的特征可以相互组合。如图1所示，本专利技术提供一种镀膜前板1，其可以应用于如图2所示的光伏组件中。该镀膜前板1包括基材层11和镀膜层12，镀膜层12形成于基材层11上，基材层11可以由玻璃等透光材料制成，以保证采用该镀膜前板1所组装形成的光伏组件具有相对较高的透光率；镀膜层12由镀膜材料制成，其可以通过该真空蒸镀或反应溅射等方式形成于基材层11上，镀膜层12的厚度较小，通常小于1μm，由于镀膜层12的厚度极小，因而可以保证镀膜层12具有较高的透光率，而不会对所形成的光伏组件的透光性以及发电性能产生较大的不利影响；并且，本申请所提供的这种镀膜前板1中仅通过镀膜层12这一层膜层结构，即可使镀膜前板1具有所需的颜色，膜层结构简单，生产效率较高，生产成本也会在一定程度上下降。具体地，基材层11可以采用多种材料形成，综合成本和透光率等因素考虑，基材层11具体可以由超白玻璃制成，这种材料的透光率极高，成本较低，热加工性能较稳定；当然，基材层11还可以由普通玻璃、绿色玻璃、蓝色玻璃、茶色玻璃等玻璃材料制成；或者，基材层11还可以由新型材料制成，此处不作限定。基材层11的厚度可以为1mm-15mm，这既可以保证基材层11具有满足需求的结构强度和支撑效果，也不会因基材层11的厚度过大而造成透光率下降过多，以及基材层11的整体重量增大过多。优选地，镀膜层12可以通过反应溅射的方式形成于基材层11上，具体地，可以采用镀膜材料作为镀膜靶材，并借助磁控溅射镀膜设备，使镀膜层12形成于基材层11上，采用这种方式所形成的镀膜层12与基材层11之间的结合牢固性相对较高；另外，还可以通过增加靶材数量的方式来提升镀膜工作效率，缩短单次加工过程的时间，进而提升整体产量。具体地，镀膜材料可以为氮化硅、二氧化硅、二氧化钛、氧化锡和氮化铝中的一种，采用这些材料能在基材层11上形成完整有效的镀膜层12，且上述各种材料所形成的镀膜层12所展现出的颜色均与镀膜层12自身厚度有关。当然，镀膜材料还可以为除上述材料之外的其他材料，此处不再一一列举。进一步地，镀膜材料可以由氮化硅形成，这种材料价格低廉，获取便捷，从而进一步降低整个镀膜前板1的生产成本，并且，以氮化硅为靶材经反应溅射过程所形成的镀膜层12的热稳定性较好，从而当基材层11由玻璃制成时，使得整个镀膜前板1均可以进行后续热加工，以根据实际需求改变整个镀膜前板1的形状和结构，更加适应建筑风格以及建筑结构。另外，采用氮化硅形成的镀膜层12的透光率较高，可以保证采用该镀膜前板1所形成的光伏组件具有较高的发电性能。更具体地，采用氮化硅所形成的镀膜层12的颜色与厚度之间存在如图3所示的设定关系，当然，图3中仅示出由氮化硅这种材料所形成的镀膜层12颜色与厚度的关系，其他材料也存在类似关系，此处不作公开。进而，在镀膜前板1的设计加工过程中，可以根据实际颜色需求，确定所需形成的镀膜层12的厚度值，并将相应参数输入至磁控溅射镀膜设备中，控制磁控溅射镀膜设备进行镀膜工作，得到具有所需颜色的镀膜前板1，以使具有满足发电性能的镀膜前板1能展现出预设颜色，提升所形成的光伏组件的美观性，使之符合建筑风格。基于图3示出的模型，更具体来说，采用氮化硅制作的镀膜层12的厚度在0-500nm的区间内时，L*的范围为34-56，a*范围为-28-25，b*范围为-25-26。例如，同样以3mm的超白玻璃作为基材层11，所形成的镀膜层12的厚度为103nm时，镀膜层12的颜色为黄色；镀膜层12的厚度为126nm时，其展现出的颜色为紫色；镀膜层12的厚度为148nm时，其颜色为蓝色；镀膜层12的厚度为303nm时，其颜色为绿色。另外，经过对上述不同镀膜前板1的测试，前述四本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种镀膜前板，应用于光伏组件内，其特征在于，包括基材层和连接于所述基材层的镀膜层，所述基材层由透光材料制成，所述镀膜层由镀膜材料制成，所述镀膜层的厚度小于1μm，且所述镀膜层的颜色与所述镀膜层自身的厚度之间具有设定关系。/n

【技术特征摘要】
1.一种镀膜前板，应用于光伏组件内，其特征在于，包括基材层和连接于所述基材层的镀膜层，所述基材层由透光材料制成，所述镀膜层由镀膜材料制成，所述镀膜层的厚度小于1μm，且所述镀膜层的颜色与所述镀膜层自身的厚度之间具有设定关系。


2.根据权利要求1所述的镀膜前板，其特征在于，所述镀膜材料包括氮化硅、二氧化硅、二氧化钛、氧化锡和氮化铝中的至少一者。


3.根据权利要求1所述的镀膜前板，其特征在于，所述镀膜材料由氮化硅制成。


4.根据权利要求1所述的镀膜前板，其特征在于，所述镀膜层的厚度为62nm-500nm。


5.根据权利要求1所述的镀膜前板，其特征在于，所述基材层的厚度为1...

【专利技术属性】
技术研发人员：张昆，徐宏，傅诗奇，刘国强，张群芳，
申请(专利权)人：汉能移动能源控股集团有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11