一种屏下指纹识别光电保护膜及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种屏下指纹识别光电保护膜及其制备方法，包括离型底膜层及功能层，所述功能层沿远离所述离型底膜层方向依次包括安装硅胶层、使用基膜层、HC层、保护硅胶层和保护基膜层，所述使用基膜层包括若干层使用基膜，其中所述使用基膜的至少一面设置有防腐蚀易接着层，所述防腐蚀易接着层的材质为聚酯、聚氨酯、丙烯酸、有机硅涂层中的一种或几种的组合。本发明专利技术的保护膜，通过在使用基膜层的使用基膜上预先涂覆防腐蚀易接着层，可以有效提高涂胶后产品的撕裂强度。

A photoelectric protective film for fingerprint recognition under screen and its preparation method

【技术实现步骤摘要】
一种屏下指纹识别光电保护膜及其制备方法
本专利技术涉及属于电子产品的屏幕表面保护领域，尤其涉及一种屏下指纹识别光电保护膜及其制备方法。
技术介绍
随着智能穿戴设备技术的迅猛发展，弧面屏幕应用于电子产品特别是电视、电脑、手机上也越来越广。弧面屏幕具有以下特点：弧面屏幕其重量小，功率低，一定程度上解决了续航问题；弧面屏幕也更加符合人体工程学设计，佩戴舒适度更高。而现有屏下指纹识别光电保护膜，其使用层包括单层型和复合型，单层型弧度仅适合于2.5D屏使用；复合型可适合于目前市面流行的2.5D、3D、4D等不同弧度的触摸屏保护膜两种。由于使用基膜层一般为PC材质，容易被其上下表面的有机层所含的有机溶剂腐蚀，从而使使用基膜层自身的强度降低，抗拉强度大大降低。
技术实现思路
本专利技术旨在提供一种抗拉力好的屏下指纹识别光电保护膜及其制备方法。本专利技术的目的之一在于提供一种屏下指纹识别光电保护膜，包括离型底膜层及功能层，所述功能层沿远离所述离型底膜层方向依次包括安装硅胶层、使用基膜层、HC层、保护硅胶层和保护基膜层，所述使用基膜层本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种屏下指纹识别光电保护膜，其特征在于，包括离型底膜层及功能层，所述功能层沿远离所述离型底膜层方向依次包括安装硅胶层、使用基膜层、HC层、保护硅胶层和保护基膜层，所述使用基膜层包括若干层使用基膜，其中所述使用基膜的至少一面设置有防腐蚀易接着层，所述防腐蚀易接着层的材质为聚酯、聚氨酯、丙烯酸、有机硅涂层中的一种或几种的组合。/n

【技术特征摘要】
1.一种屏下指纹识别光电保护膜，其特征在于，包括离型底膜层及功能层，所述功能层沿远离所述离型底膜层方向依次包括安装硅胶层、使用基膜层、HC层、保护硅胶层和保护基膜层，所述使用基膜层包括若干层使用基膜，其中所述使用基膜的至少一面设置有防腐蚀易接着层，所述防腐蚀易接着层的材质为聚酯、聚氨酯、丙烯酸、有机硅涂层中的一种或几种的组合。


2.根据权利要求1所述屏下指纹识别光电保护膜，其特征在于，所述离型底膜层的厚度为36-125μm，所述安装硅胶层的厚度为10-100μm，所述使用基膜层的厚度为50-250μm，所述HC层的厚度为1-10μm，所述保护硅胶层的厚度为5-25μm，所述保护基膜层的厚度为36-125μm。


3.根据权利要求1所述屏下指纹识别光电保护膜，其特征在于，所述离型底膜层为氟素离型膜，所述使用基膜层的基膜材质为PC、TPU、PMMA、TAC、PP、SRF、COP中的一种或几种的组合，所述保护基膜层的材质为PET保护基膜。


4.根据权利要求1所述屏下指纹识别光电保护膜，其特征在于，所述HC层的硬度为1-9H,水滴角95-120°，表面摩擦系数为小于0.1，表面摩擦电压小于...

【专利技术属性】
技术研发人员：金国华，
申请(专利权)人：浙江欣麟新材料技术有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江;33