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本发明公开了一种屏下指纹识别光电保护膜及其制备方法，包括离型底膜层及功能层，所述功能层沿远离所述离型底膜层方向依次包括安装硅胶层、使用基膜层、HC层、保护硅胶层和保护基膜层，所述使用基膜层包括若干层使用基膜，其中所述使用基膜的至少一面设置有...
该专利属于浙江欣麟新材料技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过浙江欣麟新材料技术有限公司授权不得商用。

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