一种表面带自修复功能的高强度屏下指纹识别光电保护膜制造技术

本发明专利技术公开一种表面带自修复功能的高强度屏下指纹识别光电保护膜，自上而下依次包括树脂保护膜层、第一硅胶层、硬化层、基膜层、第二硅胶层及树脂离型膜层，所述第一硅胶层为保护硅胶层，所述第二硅胶层为安装硅胶层，其中所述硬化层的厚度为1‑50μm，在TL84光源下观察的彩虹纹特征为低彩虹表观，所述的硬化层加硬液为聚氨酯系列、丙烯酸酯系列或环氧聚酯系列中的一种或几种的混合物。本发明专利技术的保护膜通过采用带自修复功能的特殊加硬层，该加硬层固化后的涂膜表面高清晰透亮，爽滑性优异，超疏水疏油，表面耐油笔污染，具有很好的抗指甲、铜刷划伤性，微划痕自修复性。

A photoelectric protective film with self repairing function for fingerprint recognition under high intensity screen

【技术实现步骤摘要】
一种表面带自修复功能的高强度屏下指纹识别光电保护膜
本专利技术属于保护膜
，具体涉及一种表面带自修复功能的高强度屏下指纹识别光电保护膜。
技术实现思路
本专利技术旨在提供一种表面带自修复功能的高强度屏下指纹识别光电保护膜。本专利技术的第一个专利技术目的在于提供一种表面带自修复功能的高强度屏下指纹识别光电保护膜，自上而下依次包括树脂保护膜层、第一硅胶层、硬化层、基膜层、第二硅胶层及树脂离型膜层，所述第一硅胶层为保护硅胶层，所述第二硅胶层为安装硅胶层，其中所述硬化层的厚度为1-50μm，在TL84光源下观察的彩虹纹特征为低彩虹表观，所述的硬化层加硬液为聚氨酯系列、丙烯酸酯系列或环氧聚酯系列中的一种或几种的混合物。进一步地，本专利技术的表面带自修复功能的高强度屏下指纹识别光电保护膜，所述树脂保护膜层的材质为在150℃环境下热收缩率小于0.3%的光学塑料薄膜，材质为PC、ABS、PMMA、COP、PP、SRF或PET光学塑料薄膜中的一种，厚度为25-360μm；所述树脂离型膜层的材质为在150℃环境下热收缩率小于0.3%的光学塑料薄膜，材质为PC、ABS、PMMA、COP、PP、SRF或PET光学塑料薄膜中的一种，厚度为25-360μm。进一步地，本专利技术的表面带自修复功能的高强度屏下指纹识别光电保护膜，所述第一硅胶层的厚度为4-30μm，剥离力为1-30g，与硬化层的撕离力为0.5-10g，透光率为87%-96%，雾度范围为0.2%-3.5%。进一步地，本专利技术的表面带自修复功能的高强度屏下指纹识别光电保护膜，所述基膜层的材质为PC、ABS、PMMA、COP、PP、SRF或PET光学塑料薄膜中的一种，在Re和Rth两个方向的相位差小于30nm，厚度为25-360μ。进一步地，本专利技术的表面带自修复功能的高强度屏下指纹识别光电保护膜，所述第二硅胶层的厚度为8-80μm，与115°水滴角的液晶屏的贴合撕离力大于15g，剥离力为2-800g，透光率为88%-96%，雾度为0.2%-2.5%。进一步地，本专利技术的表面带自修复功能的高强度屏下指纹识别光电保护膜，其中树脂保护膜层的材质为PC，厚度为50-188μm；所述第一硅胶层的厚度为8-15μm，与硬化层的剥离力为1.5-20g，与硬化层的撕离力为0.5-4g，透光率为88.5%-92.5%，雾度范围为0.5%-2.5%；所述硬化层的厚度为2-25μm，表面水滴角为75-130°，表面油滴角为大于45°；所述基膜层的材质为PC，厚度的50-188μm；所述第二硅胶层的厚度为15-45μm，与115°水滴角的液晶屏的贴合撕离力大于20g，剥离力为50-300g，透光率为89.5%-92.5%，雾度为.5%-1.5%；所述树脂离型膜层的材质为PC，厚度为50-188μm。进一步地，本专利技术的表面带自修复功能的高强度屏下指纹识别光电保护膜，所述基膜层为PC基膜层，所述PC基膜层的至少一侧涂布有防腐蚀易接着层，所述防腐蚀易接着层的材质为聚酯、聚氨酯、丙烯酸、有机硅中的一种或多种的组合。进一步地，本专利技术的表面带自修复功能的高强度屏下指纹识别光电保护膜，所述PC基膜层包括双层PC基膜，双层PC基膜之间通过黏胶层粘合在一起，所述黏胶层为光学级的丙烯酸压敏胶、聚氨酯胶、聚酯胶和OCA胶中的一种或多种的组合，粘合力500-5000g，透光率为88%-96%，雾度范围为0.1%-2.5%。进一步地，本专利技术的表面带自修复功能的高强度屏下指纹识别光电保护膜，所述黏胶层为光学级的OCA胶，剥离力范围为500-3000g，剥离力范围为1000-2000g，透光率为91.5%-95.5%，雾度范围为0.15%-0.5%。由于使用基膜层的使用基膜，特别是PC材质的使用基膜，容易被市面上几乎所有的有机溶剂都会有一定程度的腐蚀，因此在PC使用基膜上涂HC层或安装硅胶层时，容易对PC使用基膜造成腐蚀，从而使PC使用基膜自身的强度降低，因此为了提高PC使用基膜的抗拉强度，在PC使用基膜的至少一面上事先涂布水性或者溶剂型体系防腐蚀易接着层（可以上下面都涂或至少涂一个面，材质为聚酯、聚氨酯、丙烯酸和有机硅涂层中的一种或多种的组合），涂完防腐蚀易接着层后的PC使用基膜，再去涂布HC层和安装硅胶层后，其PC使用基膜的杨氏模量仍小于2300MPa，抗拉强度大于60MPa，断裂伸长率大于80%，Tg大于145℃，透光率大于90%，雾度小于1%。防腐蚀易接着层的涂布并不影响使用层的加热成型效果。优选地，使用基膜层的使用基膜均采用PC材质，可作为大3D保护膜使用，且可以有效解决大弧度热压成型后的产品翘曲问题，有效提高贴膜良率。在不考虑PC使用基膜两侧涂完胶后撕裂强度变差的前提下，可以在PC使用基膜两侧涂胶前通过打电晕处理来增强涂胶后胶液的附着力，双层的PC使用基膜可以有效提高涂胶后产品的撕裂强度。进一步地，本专利技术的表面带自修复功能的高强度屏下指纹识别光电保护膜，所述的硬化层加硬液为聚氨酯系列，所述加硬液为低收缩率的高清型加硬液，所述加硬液涂布在树脂保护膜层上，依此经加热固化成型、高压成型和UV成型，所述硬化层的表面硬度为1-9H。所述硬化层加硬液的种类为溶剂型加硬液或水性加硬液中的一种，优选溶剂型加硬液；所述的溶剂型加硬液可以是高清型或磨砂型，优选低收缩率的高清型特殊加硬液；加硬液可以是UV固化型或加热固化型，优选加热固化型；所述的特殊加硬液可以是聚氨酯、丙烯酸酯和环氧聚酯等中的一种或几种的混合物，本专利技术优选聚氨酯。有益效果：本专利技术的保护膜通过采用带自修复功能的特殊加硬层，该加硬层固化后的涂膜表面高清晰透亮，爽滑性优异，超疏水疏油，表面耐油笔污染，具有很好的抗指甲、铜刷划伤性，微划痕自修复性。附图说明图1、本专利技术的表面带自修复功能的高强度屏下指纹识别光电保护膜（基膜层包括单层的基膜）结构示意图。图2、本专利技术的表面带自修复功能的高强度屏下指纹识别光电保护膜（基膜层包括双层的基膜的第一种结构）结构示意图。图3、本专利技术的表面带自修复功能的高强度屏下指纹识别光电保护膜（基膜层包括双层的基膜的第二种结构）结构示意图。附图标记：1、树脂保护膜层、2第一硅胶层，3、硬化层，4、基膜层，41、基膜，42、胶黏层，43、防腐蚀易接着层，5、第二硅胶层,6、树脂离型膜层。具体实施方式下面结合说明书附图和具体实施例对本专利技术的表面带自修复功能的高强度屏下指纹识别光电保护膜进行说明如下。如图1-3所示，本专利技术的第一个专利技术目的在于提供一种表面带自修复功能的高强度屏下指纹识别光电保护膜，自上而下依次包括树脂保护膜层1、第一硅胶层2、硬化层3、基膜层4、第二硅胶层5及树脂离型膜层6，所述第一硅胶层2为保护硅胶层，所述第二硅胶层5为安装硅胶层，其中所述硬化层3的厚度为1-50μm，在TL84光源下观察的彩虹纹特征为低彩虹表观，所述的硬化层3加硬液为聚氨酯系列、丙烯酸酯系列或环氧聚酯系列中的一种或几种的混合物。进一步地，本专利技术的表面带自修复功能本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种表面带自修复功能的高强度屏下指纹识别光电保护膜，其特征在于，自上而下依次包括树脂保护膜层、第一硅胶层、硬化层、基膜层、第二硅胶层及树脂离型膜层，所述第一硅胶层为保护硅胶层，所述第二硅胶层为安装硅胶层，其中所述硬化层的厚度为1-50μm，在TL84光源下观察的彩虹纹特征为低彩虹表观，所述的硬化层加硬液为聚氨酯系列、丙烯酸酯系列或环氧聚酯系列中的一种或几种的混合物。/n

【技术特征摘要】
1.一种表面带自修复功能的高强度屏下指纹识别光电保护膜，其特征在于，自上而下依次包括树脂保护膜层、第一硅胶层、硬化层、基膜层、第二硅胶层及树脂离型膜层，所述第一硅胶层为保护硅胶层，所述第二硅胶层为安装硅胶层，其中所述硬化层的厚度为1-50μm，在TL84光源下观察的彩虹纹特征为低彩虹表观，所述的硬化层加硬液为聚氨酯系列、丙烯酸酯系列或环氧聚酯系列中的一种或几种的混合物。


2.根据权利要求1所述的表面带自修复功能的高强度屏下指纹识别光电保护膜，其特征在于，所述树脂保护膜层的材质为在150℃环境下热收缩率小于0.3%的光学塑料薄膜，材质为PC、ABS、PMMA、COP、PP、SRF或PET光学塑料薄膜中的一种，厚度为25-360μm；所述树脂离型膜层的材质为在150℃环境下热收缩率小于0.3%的光学塑料薄膜，材质为PC、ABS、PMMA、COP、PP、SRF或PET光学塑料薄膜中的一种，厚度为25-360μm。


3.根据权利要求1所述的表面带自修复功能的高强度屏下指纹识别光电保护膜，其特征在于，所述第一硅胶层的厚度为4-30μm，剥离力为1-30g，与硬化层的撕离力为0.5-10g，透光率为87%-96%，雾度范围为0.2%-3.5%。


4.根据权利要求1所述的表面带自修复功能的高强度屏下指纹识别光电保护膜，其特征在于，所述基膜层的材质为PC、ABS、PMMA、COP、PP、SRF或PET光学塑料薄膜中的一种，在Re和Rth两个方向的相位差小于30nm，厚度为25-360μ。


5.根据权利要求1所述的表面带自修复功能的高强度屏下指纹识别光电保护膜，其特征在于，所述第二硅胶层的厚度为8-80μm，与115°水滴角的液晶屏的贴合撕离力大于15g，剥离力为2-800g，透光率为88%-96%，雾度为0.2%-2.5%。


6.根据权利要求1所述的表面带自修复功能的高强度屏下指纹识别光电保护膜，其特征在于...

【专利技术属性】
技术研发人员：金国华，
申请(专利权)人：浙江欣麟新材料技术有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江;33