一种表面带自修复功能的高强度屏下指纹识别光电保护膜制造技术

本发明专利技术公开一种表面带自修复功能的高强度屏下指纹识别光电保护膜，自上而下依次包括树脂保护膜层、第一硅胶层、硬化层、基膜层、第二硅胶层及树脂离型膜层，所述第一硅胶层为保护硅胶层，所述第二硅胶层为安装硅胶层，其中所述硬化层的厚度为1‑50μm，在TL84光源下观察的彩虹纹特征为低彩虹表观，所述的硬化层加硬液为聚氨酯系列、丙烯酸酯系列或环氧聚酯系列中的一种或几种的混合物。本发明专利技术的保护膜通过采用带自修复功能的特殊加硬层，该加硬层固化后的涂膜表面高清晰透亮，爽滑性优异，超疏水疏油，表面耐油笔污染，具有很好的抗指甲、铜刷划伤性，微划痕自修复性。

A photoelectric protective film with self repairing function for fingerprint recognition under high intensity screen

【技术实现步骤摘要】
一种表面带自修复功能的高强度屏下指纹识别光电保护膜
本专利技术属于保护膜
，具体涉及一种表面带自修复功能的高强度屏下指纹识别光电保护膜。
技术实现思路
本专利技术旨在提供一种表面带自修复功能的高强度屏下指纹识别光电保护膜。本专利技术的第一个专利技术目的在于提供一种表面带自修复功能的高强度屏下指纹识别光电保护膜，自上而下依次包括树脂保护膜层、第一硅胶层、硬化层、基膜层、第二硅胶层及树脂离型膜层，所述第一硅胶层为保护硅胶层，所述第二硅胶层为安装硅胶层，其中所述硬化层的厚度为1-50μm，在TL84光源下观察的彩虹纹特征为低彩虹表观，所述的硬化层加硬液为聚氨酯系列、丙烯酸酯系列或环氧聚酯系列中的一种或几种的混合物。进一步地，本专利技术的表面带自修复功能的高强度屏下指纹识别光电保护膜，所述树脂保护膜层的材质为在150℃环境下热收缩率小于0.3%的光学塑料薄膜，材质为PC、ABS、PMMA、COP、PP、SRF或PET光学塑料薄膜中的一种，厚度为25-360μm；所述树脂离型膜层的材质为在150℃环境下热收缩率小于0.3%的光学塑料本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种表面带自修复功能的高强度屏下指纹识别光电保护膜，其特征在于，自上而下依次包括树脂保护膜层、第一硅胶层、硬化层、基膜层、第二硅胶层及树脂离型膜层，所述第一硅胶层为保护硅胶层，所述第二硅胶层为安装硅胶层，其中所述硬化层的厚度为1-50μm，在TL84光源下观察的彩虹纹特征为低彩虹表观，所述的硬化层加硬液为聚氨酯系列、丙烯酸酯系列或环氧聚酯系列中的一种或几种的混合物。/n

【技术特征摘要】
1.一种表面带自修复功能的高强度屏下指纹识别光电保护膜，其特征在于，自上而下依次包括树脂保护膜层、第一硅胶层、硬化层、基膜层、第二硅胶层及树脂离型膜层，所述第一硅胶层为保护硅胶层，所述第二硅胶层为安装硅胶层，其中所述硬化层的厚度为1-50μm，在TL84光源下观察的彩虹纹特征为低彩虹表观，所述的硬化层加硬液为聚氨酯系列、丙烯酸酯系列或环氧聚酯系列中的一种或几种的混合物。


2.根据权利要求1所述的表面带自修复功能的高强度屏下指纹识别光电保护膜，其特征在于，所述树脂保护膜层的材质为在150℃环境下热收缩率小于0.3%的光学塑料薄膜，材质为PC、ABS、PMMA、COP、PP、SRF或PET光学塑料薄膜中的一种，厚度为25-360μm；所述树脂离型膜层的材质为在150℃环境下热收缩率小于0.3%的光学塑料薄膜，材质为PC、ABS、PMMA、COP、PP、SRF或PET光学塑料薄膜中的一种，厚度为25-360μm。


3.根据权利要求1所述的表面带自修复功能的高强度屏下指纹识别光电保护膜，其特征在于，所述第一硅胶层的厚度为4-30μm，剥离力为1-30g，与硬化层的撕离力为0.5-10g，透光率为87%-96%，雾度范围为0.2%-3.5%。


4.根据权利要求1所述的表面带自修复功能的高强度屏下指纹识别光电保护膜，其特征在于，所述基膜层的材质为PC、ABS、PMMA、COP、PP、SRF或PET光学塑料薄膜中的一种，在Re和Rth两个方向的相位差小于30nm，厚度为25-360μ。


5.根据权利要求1所述的表面带自修复功能的高强度屏下指纹识别光电保护膜，其特征在于，所述第二硅胶层的厚度为8-80μm，与115°水滴角的液晶屏的贴合撕离力大于15g，剥离力为2-800g，透光率为88%-96%，雾度为0.2%-2.5%。


6.根据权利要求1所述的表面带自修复功能的高强度屏下指纹识别光电保护膜，其特征在于...

【专利技术属性】
技术研发人员：金国华，
申请(专利权)人：浙江欣麟新材料技术有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江;33