一种石墨舟防粉尘产生的预镀膜方法技术

本发明专利技术公开了一种石墨舟防粉尘产生的预镀膜方法，包括以下步骤：步骤1，将石墨舟进行清洗及烘干；步骤2，将清洗干净的硅片作为假片，装载到石墨舟上的相应位置；步骤3，将石墨舟置于镀膜设备中，在石墨舟的表面沉积出非晶硅薄膜，作为非晶硅薄膜的结构缓冲层可以显著降低结构热应力。根据本发明专利技术，其通过在石墨舟片上预先沉积一定厚度的氮化硅、碳化硅等薄膜，此类薄膜的热膨胀系数通常约为4.0～5.0×10‑6K‑1，作为非晶硅薄膜的结构缓冲层可以显著降低结构热应力，从而大大延长石墨舟的清洗周期，降低生产成本。

A pre coating method for preventing dust generation of graphite boat

【技术实现步骤摘要】
一种石墨舟防粉尘产生的预镀膜方法
本专利技术涉及太阳能光伏电池制造领域，特别涉及一种石墨舟防粉尘产生的预镀膜方法。
技术介绍
管式等离子体化学气相外延(PECVD)是制备非晶硅的技术方法之一。该技术方法一般以石墨舟作为衬底的载板，石墨舟由相互平行且相互绝缘的镂空石墨舟片组成，通过卡点的方式将硅片固定在镂空区域，硅片边缘与石墨舟接触以传导电流，石墨舟及硅片作为电极，在一定温度(100～500℃)条件下，通入一定比例的硅烷、氢气、磷烷、硼烷等特气组分，利用射频激发产生等离子体并在硅片上沉积非晶硅薄膜。PECVD淀积的薄膜具有优良的电学性能、良好的衬底附着性以及极佳的台阶覆盖性，正由于这些优点使其在超大规模集成电路、光电器件、MEMS等领域具有广泛的应用。在产业化生产应用中，石墨舟要经过装样-进炉-抽真空-升温-沉积-降温-破真空-出炉的一系列流程。按照此流程，石墨舟需经过升温-降温-升温-降温-不断循环的过程。在实际生产过程中，我们发现仅需短短的数个循环后，石墨舟上沉积的非晶硅薄膜出现了粉状剥离的情况，而剥离的粉尘会导致后续硅片的摩本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种石墨舟防粉尘产生的预镀膜方法，其特征在于，包含以下步骤：/n步骤1，将石墨舟进行清洗及烘干；/n步骤2，将清洗干净的硅片作为假片，装载到石墨舟上的相应位置；/n步骤3，将石墨舟置于镀膜设备中，在石墨舟的表面沉积出非晶硅薄膜，作为非晶硅薄膜的结构缓冲层可以显著降低结构热应力。/n

【技术特征摘要】
1.一种石墨舟防粉尘产生的预镀膜方法，其特征在于，包含以下步骤：
步骤1，将石墨舟进行清洗及烘干；
步骤2，将清洗干净的硅片作为假片，装载到石墨舟上的相应位置；
步骤3，将石墨舟置于镀膜设备中，在石墨舟的表面沉积出非晶硅薄膜，作为非晶硅薄膜的结构缓冲层可以显著降低结构热应力。


2.如权利要求1所述的石墨舟防粉尘产生的预镀膜方法，其特征在于，步骤3中非晶硅薄膜为氮化硅薄膜。


3.如权利要求1所述的石墨...

【专利技术属性】
技术研发人员：廖明墩，曾俞衡，闫宝杰，叶继春，陈晖，王玉明，
申请(专利权)人：苏州拓升智能装备有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32