【技术实现步骤摘要】
一种槽体结构及防止其晃动偏移的方法
本专利技术涉及晶圆加工
,尤其涉及一种槽体结构及防止其晃动偏移的方法。
技术介绍
在半导体湿法工艺设备中,尤其是批量式的设备采用,其多配置各种工艺槽体模组装置进行清洗与干燥工艺的进行,在特定的槽体进行酸液、碱液、有机溶液、气体等的进行参与反应,晶圆在清洗与干燥时需要放置在清洗与干燥的槽体中,通过在槽体中的冲洗和吹风进行清洗和干燥。现有的技术中,多种槽体模组装置通常会配置相对应的批量式晶圆夹取的机械手臂、各种管路配置、搭配的小型机械运动模组装置等,而可能性产生在各种应力作用的影响下造成槽体的些微偏移导致槽体错位或是相关对应的机械模组装置或是管路偏离本应所在的位置,继而造成湿法工艺设备在使用上无法预期的危险性。
技术实现思路
针对现有技术存在的不足,本专利技术目的是提供一种槽体结构及防止其晃动偏移的方法,能够有效使槽体在晃动后复位,尽可能的减小槽体晃动的偏移量,以解决现有的用于晶圆清洗和干燥槽体晃动偏移的问题。为了实现上述目的,本专利技术是通过如下的技 ...
【技术保护点】
1.一种槽体结构,用于防止干燥与清洗过程中晃动,其特征在于,包括:外部框架(1),所述外部框架(1)内部设置有用于晶圆(6)清洗和干燥的槽体(5),所述槽体(5)顶部设置为敞口结构,所述槽体(5)的两侧分别设置有两个圆柱形支撑柱(501),所述支撑柱(501)与外部框架(1)连接的位置设置有固定于外部框架(1)内壁上的支撑复位机构(4),所述槽体(5)顶部匹配有两组对开的顶盖机构(2),所述外部框架(1)外表面设置有用于驱动顶盖机构(2)进行开合的驱动机构(3);/n所述支撑复位机构(4)包括固定于外部框架(1)内表面的支撑板(401),所述支撑板(401)顶部对应支撑柱( ...
【技术特征摘要】
1.一种槽体结构,用于防止干燥与清洗过程中晃动,其特征在于,包括:外部框架(1),所述外部框架(1)内部设置有用于晶圆(6)清洗和干燥的槽体(5),所述槽体(5)顶部设置为敞口结构,所述槽体(5)的两侧分别设置有两个圆柱形支撑柱(501),所述支撑柱(501)与外部框架(1)连接的位置设置有固定于外部框架(1)内壁上的支撑复位机构(4),所述槽体(5)顶部匹配有两组对开的顶盖机构(2),所述外部框架(1)外表面设置有用于驱动顶盖机构(2)进行开合的驱动机构(3);
所述支撑复位机构(4)包括固定于外部框架(1)内表面的支撑板(401),所述支撑板(401)顶部对应支撑柱(501)的位置设置有支撑块(402);
所述顶盖机构(2)包括弓形架(203),所述弓形架(203)中间固定连接有与槽体(5)顶部相匹配的顶盖(204),所述弓形架(203)两端分别连接有一个连接块(202),所述连接块(202)上错开弓形架(203)连接的位置固定连接有转轴(205),所述转轴(205)穿过外部框架(1)的位置设置有固定于外部框架(1)上的安装块(201)。
2.根据权利要求1所述的一种槽体结构,其特征在于:所述驱动机构(3)包括与转轴(205)相连接的驱动气缸(301)。
3.根据权利要求2所述的一种槽体结构,其特征在于:所述驱动气缸(301)的输出轴铰接有连杆,所述连杆的另一端与转轴(205)相铰接。
4.一种利用权利要求1所述的槽体结构来防止槽体晃动偏移的方法,其特征在于:所述防止槽体晃动偏移的方法包括使用所述槽体结构对晶圆(6)进行清洗和干燥,包括晶圆清洗步骤和晶圆干燥步骤;
所述晶圆清洗步骤包括:
步骤A1、通过驱动机构(3)控制顶盖机构(2)打开顶盖;
步骤A2、将待清洗的晶圆(6)由槽体(5)顶部的敞口结构置入槽体(5...
【专利技术属性】
技术研发人员:邓信甫,庄海云,蔡嘉雄,陈佳炜,王雪松,
申请(专利权)人:至微半导体上海有限公司,江苏启微半导体设备有限公司,
类型:发明
国别省市:上海;31
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