一种高平面度大尺寸吸盘制造技术

一种高平面度大尺寸吸盘，其包括上吸盘和下吸盘，所述上吸盘和下吸盘之间形成真空腔，所述上吸盘包括基板吸附面板，所述基板吸附面板包括多个连通至真空腔结构的通气孔，所述下吸盘外表面设有支撑板。通过支撑板结构保证了吸盘整体的支撑面积足够大，并承担绝大部分受力形变，从而减小了外界因素对吸盘工作表面的平面度的影响。

A kind of large size suction cup with high flatness

【技术实现步骤摘要】
一种高平面度大尺寸吸盘
本技术涉及一种曝光机
，具体是应用于曝光机的吸盘。
技术介绍
激光直写式曝光是用于在衬底表面上印刷具有特征的构图，相比于传统的掩膜版和菲林底片等曝光的影像直接转移技术，直写式曝光技术产能高，对位精度高。在半导体及PCB生产领域有着非常重要的作用。同时，激光直写式曝光机因为其光学特点，需要工件保证较好的平面度以保证曝光质量，这对承载工件的吸盘平面度提出了高要求。目前市场上直写曝光吸盘多以小尺寸为主，并且大多采用吸盘垫结构。吸盘垫由玻璃纤维板或其他高分子材料制成，这些材料具有大尺寸加工困难、平面度差、耐磨性不好等缺点。随着PCB行业发展的飞速发展与5G标准的形成，对大尺寸激光直写式曝光机的需求越来越高，而旧的吸盘结构无法满足大尺寸、高平面度的需求。本技术提供一种高平面度超大尺寸吸盘，具有尺寸大、平面度高、承载能力强等特点。
技术实现思路
本技术目的是为了解决现有激光直写式曝光机吸盘尺寸小、平面度差的问题，提供一种高平面度超大尺寸吸盘。为了达到上述目的，本专利技术所采用的技术方案为：一种大尺寸吸盘，其包括上吸盘和下吸盘，所述上吸盘和下吸盘之间形成真空腔，所述上吸盘包括基板吸附面板，所述基板吸附面板包括多个连通至真空腔结构的通气孔，所述下吸盘外表面设有支撑板。进一步的，所述支撑板设于所述下吸盘中间位置。进一步的，所述上吸盘和下吸盘通过紧固结构连接，所述紧固结构的开孔全部位于下吸盘。进一步的，所述通气孔为下大上小的孔结构。进一步的，所述下吸盘设有多个支撑立柱，所述支撑立柱承载上吸盘。与现有技术相比，本技术在下吸盘设置了支撑板结构，保证了吸盘整体的支撑面积足够大，并承担绝大部分受力形变，从而减小了外界因素对吸盘工作表面的平面度的影响。并且，所述通气孔采用下大上小的结构，也有利于提升平面度。附图说明图1为本技术吸盘结构示意图。图2为本技术吸盘背部结构示意图。图3为本技术真空剖面结构示意图。图4为本技术吸盘通气孔示意图。图5为本技术下吸盘与支撑立柱示意图。具体实施方式本技术是一种高平面度超大尺寸吸盘。如图1所示，吸盘包括上吸盘1和下吸盘2，所述上吸盘1和下吸盘2固定连接。较佳的，所述上吸盘1与所述下吸盘2均为金属材质，使其结构稳定，方便制造大尺寸高平面度的吸盘，有效吸真空面积可达0.7m*1m以上。同时，因为都是金属材质，吸盘耐磨性非常高，寿命比常用的高分子材料吸盘延长2-3倍。如图2所示，所述上吸盘1和所属下吸盘2通过固定件连接，且连接紧固所述上吸盘1与所述下吸盘2的固定件全部位于所述下吸盘2背面，保证了图1中所述上吸盘1工作表面没有任何固定件，从而保证了吸盘工作表面极高的平面度，可以小于80um/0.7m2。所述固定件可以是螺钉等。所述支撑板3位于所述下吸盘2下方，安装于所述下吸盘2，较佳的，位于所述下吸盘2的中心位置，起到支撑下吸盘2的作用。所述支撑板3保证了吸盘整体的支撑面积足够大，并且通过所述支撑板3承载负载，可以使得所述支撑板3承担绝大部分受力形变，从而减小了外界因素对吸盘工作表面的平面度的影响。如图3所示，所述上吸盘1和所述下吸盘2形成中空的真空腔结构，真空腔通过安装在所述下吸盘2上的转接头4连接至真空源，上吸盘1上分布有密集的通气孔7，以保证吸真空的快速高效。如图4所示，所述通气孔7为下大上小结构，通气孔7下部为大孔，方便真空快速建立；上部为小孔，防止通气孔直接暴露在外时泄露太多空气导致真空压力不足。通气孔如果太大，被加工件也会下沉从而影响平面度，所以通气孔7上部的小孔结构也有利于提升平面度。如图5所示，下吸盘2的四周与中间的支撑立柱8共同支撑上吸盘1，保证了上吸盘1的平面度。因为上吸盘1与下吸盘2都为金属结构，并且连接紧固为整体，所以吸盘负载能力很强。下吸盘2的背面还设置有支撑板3，背面可以方便扩展很多附件以增加吸盘功能，即使有二十千克偏置负载，平面度也可以保证小于150um/0.7m2。通过本技术的一系列合理设计，可以保证吸盘具有大于0.7*1.0m的超大尺寸，保证小于80um/0.7m2高平面度，结构稳定不受安装面影响。同时具有极高的耐磨性，负载能力极强，方便提供各种新功能拓展。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种高平面度大尺寸吸盘，其包括上吸盘和下吸盘，所述上吸盘和下吸盘之间形成真空腔，其特征在于，所述上吸盘包括基板吸附面板，所述基板吸附面板包括多个连通至真空腔结构的通气孔，所述下吸盘外表面设有支撑板。/n

【技术特征摘要】
1.一种高平面度大尺寸吸盘，其包括上吸盘和下吸盘，所述上吸盘和下吸盘之间形成真空腔，其特征在于，所述上吸盘包括基板吸附面板，所述基板吸附面板包括多个连通至真空腔结构的通气孔，所述下吸盘外表面设有支撑板。


2.根据权利要求1所述的高平面度大尺寸吸盘，其特征在于：所述支撑板设于所述下吸盘的中间位置。


3.根据权利要求1...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘栋，张雷，
申请(专利权)人：源能智创江苏半导体有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32