光波导元件制造技术

技术编号:24542904 阅读:46 留言:0更新日期:2020-06-17 15:09
本实用新型专利技术提供一种缓和光波导元件的光波导中模场直径的非对称性,能够降低光波导元件与光纤的耦合损耗的光波导元件。所述光波导元件,在基板的一面形成有光波导,在所述基板的端部配置有向所述光波导入射光的入射部或从所述光波导出射光的出射部,在所述入射部或所述出射部中的至少一者及其近旁的光波导上形成有电介质膜,所述光波导元件的特征在于,所述电介质膜中,包括具有比所述基板的折射率高的折射率的第一材料的电介质膜与具有比所述基板的折射率低的折射率的第二材料的电介质膜的电介质膜相互层叠。

Optical waveguide element

【技术实现步骤摘要】
光波导元件
本技术涉及一种光波导元件,特别是涉及一种在基板的一面形成有光波导的光波导元件。
技术介绍
在光通信领域或光测量领域中,利用有光调制器或光开关等在基板的至少一面形成有光波导的光波导元件。为了应对调制频率的广范围化等需求,而像多值调制器(multi-valuemodulator)等那样,在形成于一个基板的光波导中编入多个光调制部分,由于将光波分支或合波的频率增加,因此需要光波导元件整体的低损耗化。光调制部分增加不仅仅使光波导的图案形状复杂化,配置于光调制部分的信号电极等控制电极的数量也增加,与控制电极相关的配线图案也复杂化。因此,在使用了X切割型(X-cut)的电气光学基板的光波导元件中,提出了使配置于光波导上的交叉部分的信号电极的宽度狭窄化,将光损耗抑制得低的方法(参照专利文献1)。而且,在光波导元件的低损耗化中也要求降低光输入/输出部的耦合损耗。在将Ti热扩散至铌酸锂(LN)的基板而形成有光波导的光波导元件中,光波导的模场直径(ModeFieldDiameter,MFD)因钛热扩散成为非对称。另一方面,在具有对称的模本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光波导元件,其特征在于,/n在基板的一面形成有光波导,/n在所述基板的端部配置有向所述光波导入射光的入射部或从所述光波导出射光的出射部,/n在所述入射部或所述出射部中的至少一者及其近旁的光波导上形成有电介质膜,/n所述电介质膜中,包括具有比所述基板的折射率高的折射率的第一材料的电介质膜与具有比所述基板的折射率低的折射率的第二材料的电介质膜的电介质膜相互层叠。/n

【技术特征摘要】
20190313 JP 2019-0461381.一种光波导元件,其特征在于,
在基板的一面形成有光波导,
在所述基板的端部配置有向所述光波导入射光的入射部或从所述光波导出射光的出射部,
在所述入射部或所述出射部中的至少一者及其近旁的光波导上形成有电介质膜,
所述电介质膜中,包括具有比所述基板的折射率高的折射率的第一材料的电介质膜与具有比所述基板的折射率低的折射率的第二材料的电介质膜的电介质膜相互层叠。


2.根据权利要求1所述的光波导元件,其特征在于,在将所述电介质膜的平均折射率设为n、所述基板的折射率设为ns时,n/ns为0.970以上且1.003以下。


3.根据权利要求1或2所述的光波导元件,其特征在于,所述电介质膜的厚度为...

【专利技术属性】
技术研发人员:山根裕治宫崎徳一片冈优一明秀树
申请(专利权)人:住友大阪水泥株式会社
类型:新型
国别省市:日本;JP

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