本发明专利技术提供一种光波导元件，其即便在光波导的宽度或高度小的情况下，也可效率良好地去除高阶模光，且也容易制造。一种光波导元件，包括形成有肋型光波导10的基板1，且特征在于，包括与所述肋型光波导10接近地配置的平板波导SW，所述平板波导SW的上表面的至少一部分(SF1)的粗糙度比所述肋型光波导的顶部的面的粗糙度(SF0)大。粗糙度(SF0)大。粗糙度(SF0)大。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光波导元件及使用此光波导元件的光调制器件以及光发送装置
[0001]本专利技术涉及一种光波导元件及使用此光波导元件的光调制器件以及光发送装置，特别是涉及一种包括形成有肋型光波导的基板的光波导元件。
技术介绍
[0002]在光测量
或光通信
中，多使用光调制器等使用形成有光波导的基板的光波导元件。光波导可使钛(Ti)等在铌酸锂(LN)等的具有电光效应的基板进行热扩散来形成，但也提出了在基板表面形成有凸状的肋(rib)部的肋型光波导。特别是，肋型光波导可增大肋部与其周边空间(空气)的折射率差，因此可增强光封闭。
[0003]本申请人在专利文献1中提出了如下方法：针对在肋型光波导中传播的光波，在抑制基模的损耗的同时使高阶模衰减。具体而言，提出了：如图1所示那样在肋型光波导10的附近设置平板波导SW，使所述平板波导SW的高度h低于肋型光波导10的高度H。椭圆状点线OW简化地示出光波的模场直径(Mode Field Diameter，MFD)。
[0004]另一方面，光调制器的高速化或小型化的需求提高，提出了连同用于放大电信号的驱动器电路(放大器)组入至收容光波导元件的框体内部的驱动器集成型光调制器件。
[0005]在将放大器组入至框体内的情况下，由于在光波导元件的一端侧配置放大器，因此形成于基板的光波导需要将光波导的输入部与输出部一同配置于基板的一端面(与放大器相反的一侧的端面)。因此，光波导的整体形状需要采用至少弯曲180度的结构，因此需要进一步增强光波导的光封闭。
[0006]作为增强光波导的光封闭的方法，将光波导的宽度或高度设定为1μm以下。在此种情况下，将专利文献1的平板波导SW的高度h设定为小于1μm并且使平板波导SW与肋型光波导10精确地接近配置时，非常难以制造。而且，专利文献1中所公开的尺寸是将在光波导中传播的光波的MFD设定为10μm左右的情况，在为所述尺寸时，光波导自身成为多模，产生无法完全去除高阶模光的不良情况。
[0007]现有技术文献
[0008]专利文献
[0009]专利文献1：日本专利第5359750号公报
技术实现思路
[0010]专利技术所要解决的问题
[0011]本专利技术所要解决的课题在于提供一种光波导元件，其解决如上所述那样的问题，即便在光波导的宽度或高度小的情况下，也可效率良好地去除高阶模光，且也容易制造。另外，提供一种利用所述光波导元件的光调制器件及光发送装置。
[0012]解决问题的技术手段
[0013]为了解决所述课题，本专利技术的光波导元件及使用此光波导元件的光调制器件以及
光发送装置具有以下的技术特征。
[0014](1)一种光波导元件，包括形成有肋型光波导的基板，且所述光波导元件的特征在于，包括与所述肋型光波导接近地配置的平板波导，所述平板波导的上表面的至少一部分的粗糙度比所述肋型光波导的顶部的面的粗糙度大。
[0015](2)根据所述(1)所记载的光波导元件，其特征在于，所述平板波导具有第一平板波导，所述第一平板波导与所述肋型光波导接近并且高度比所述肋型光波导低，将所述第一平板波导的上表面的粗糙度设定得大。
[0016](3)根据所述(1)所记载的光波导元件，其特征在于，所述平板波导包括：第一平板波导，与所述肋型光波导接近并且高度比所述肋型光波导低；及第二平板波导，与所述第一平板波导接近且配置于与所述肋型光波导相反的一侧，并且高度比所述第一平板波导高，将所述第二平板波导的上表面的粗糙度设定得大。
[0017](4)根据所述(3)所记载的光波导元件，其特征在于，所述第一平板波导的上表面的粗糙度设定为与所述第二平板波导的上表面的粗糙度相同。
[0018](5)根据所述(1)至(4)中任一项所记载的光波导元件，其特征在于，所述第一平板波导配置于所述肋型光波导的两侧。
[0019](6)根据所述(1)至(5)中任一项所记载的光波导元件，其特征在于，所述平板波导中，所述肋型波导的所述第一平板波导及所述第二平板波导配置于所述肋型光波导的两侧。
[0020](7)根据所述(1)至(6)中任一项所记载的光波导元件，其特征在于，所述平板波导配置于所述肋型光波导的输入部、分支部或合波部的附近。
[0021](8)根据所述(1)至(7)中任一项所记载的光波导元件，其特征在于，所述肋型光波导的输入部与输出部配置于基板的同一端面，在所述基板上包括光检测单元，所述光检测单元对在所述肋型光波导中传播的光波或从所述肋型光波导放出的放射光进行检测，在所述输入部与光检测单元之间设置所述平板波导。
[0022](9)一种光调制器件，其特征在于，根据所述(1)至(8)中任一项所记载的光波导元件包括对在所述肋型光波导中传播的光波进行调制的电极，所述光波导元件收容于框体内，且所述光调制器件包括相对于所述肋型光波导输入或输出光波的光纤。
[0023](10)根据所述(9)所记载的光调制器件，其特征在于，在所述框体的内部具有电子电路，所述电子电路将输入至所述光波导元件的调制信号放大。
[0024](11)一种光发送装置，其特征在于，包括：根据所述(9)或(10)所记载的光调制器件；及电子电路，输出使所述光调制器件进行调制动作的调制信号。
[0025]专利技术的效果
[0026]本专利技术在包括形成有肋型光波导的基板的光波导元件中包括与所述肋型光波导接近地配置的平板波导，所述平板波导的上表面的至少一部分的粗糙度比所述肋型光波导的顶部的面的粗糙度大，因此可通过利用所述粗糙面的部分使在肋型光波导中传播的光波的高阶模散射，来效率良好地去除。
附图说明
[0027]图1是对以往的光波导元件的结构进行说明的剖面图。
[0028]图2是对本专利技术的光波导元件的第一实施例进行说明的剖面图。
[0029]图3是对本专利技术的光波导元件的第二实施例进行说明的剖面图。
[0030]图4是对本专利技术的光波导元件的第三实施例进行说明的剖面图。
[0031]图5是对本专利技术的光波导元件的第四实施例进行说明的剖面图。
[0032]图6是对本专利技术的光波导元件中的去除不需要的光的单元的配置位置进行说明的平面图。
[0033]图7是对本专利技术的光波导元件中的去除不需要的光的单元与光接收单元的位置关系进行说明的平面图。
[0034]图8是对本专利技术的光调制器件及光发送装置进行说明的平面图。
具体实施方式
[0035]以下，使用优选例对本专利技术的光波导元件进行详细说明。
[0036]如图2至图5所示，本专利技术的光波导元件包括形成有肋型光波导10的基板1，且所述光波导元件的特征在于，包括与所述肋型光波导10接近地配置的平板波导SW，所述平板波导SW的上表面的至少一部分(SF1、SF2)的粗糙度比所述肋型光波导的顶部的面的粗糙度(SF0)大。
[0037]作为本专利技术的光波导元件中所使用的基板1的材料，可利用具有电光效本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种光波导元件，包括形成有肋型光波导的基板，且所述光波导元件的特征在于，包括与所述肋型光波导接近地配置的平板波导，所述平板波导的上表面的至少一部分的粗糙度比所述肋型光波导的顶部的面的粗糙度大。2.根据权利要求1所述的光波导元件，其特征在于，所述平板波导具有第一平板波导，所述第一平板波导与所述肋型光波导接近并且高度比所述肋型光波导低，将所述第一平板波导的上表面的粗糙度设定得大。3.根据权利要求1所述的光波导元件，其特征在于，所述平板波导包括：第一平板波导，与所述肋型光波导接近并且高度比所述肋型光波导低；及第二平板波导，与所述第一平板波导接近且配置于与所述肋型光波导相反的一侧，并且高度比所述第一平板波导高，将所述第二平板波导的上表面的粗糙度设定得大。4.根据权利要求3所述的光波导元件，其特征在于，所述第一平板波导的上表面的粗糙度设定为与所述第二平板波导的上表面的粗糙度相同。5.根据权利要求1至4中任一项所述的光波导元件，其特征在于，所述第一平板波导配置于所述肋型光波导的两侧。6.根据权利要求1至5中任一项所述的光波导元件，其特征在于，所述平板波导...
【专利技术属性】
技术研发人员：片冈利夫，宫崎徳一，
申请(专利权)人：住友大阪水泥株式会社，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。