一种显示器及其显示器制造方法技术

一种显示器和显示器的制造方法，显示器包括WOLED器件(100)，在WOLED器件(100)上沉积第一无机膜层(200)，第一无机膜层(200)上对应WOLED器件(100)的指定像素定义层设有红光彩色光阻(300)、绿光彩色光阻(400)和蓝光彩色光阻(500)，第一无机膜层(200)外沉积第二无机膜层(700)，第二无机膜层(700)覆盖红光彩色光阻(300)、绿光彩色光阻(400)和蓝光彩色光阻(500)及第一无机膜层(200)。制造方法：制造WOLED器件(100)；WOLED器件(100)上沉积一层第一无机膜层(200)；再次沉积一层第二无机膜层(700)；将红光彩色光阻(300)、绿光彩色光阻(400)和蓝光彩色光阻(500)喷涂至指定像素内，将其硬化；在第一无机膜层(200)、红光彩色光阻(300)、绿光彩色光阻(400)和蓝光彩色光阻(500)外沉积一层第二无机膜层(700)。显示器轻薄可弯折；制造方法降低了大尺寸OLED显示屏在蒸镀工艺中对位难度。

A display and its manufacturing method

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】一种显示器及其显示器制造方法
本专利技术属于显示
，涉及一种显示器及其显示器制造方法。
技术介绍
有机发光二极管OLED（OrganicLight-EmittingDiode）是一种最新的显示技术，具有优异的显示性能，目前，OLED显示器通常皆采用著RGB三像素显示结构，这种OLED显示器的制程方法要求OLED蒸镀工艺对位精度难度相对较高，因此，造成大尺寸OLED显示屏工艺良率一直无法提升。另外一种实现OLED显示器全彩化的方式是采取WOLED+CF的结构，即采用白色有机发光二极管（WOLED）与彩色滤光层（CF）配合结构，该显示方法是通过将红色、绿色和蓝色的彩色滤光片贴附在基板上，白色有机发光二极管发射的白光通过分别通过红色、绿色和蓝色的彩色滤光片，得到红黄蓝三原色光。虽然此显示结构的制备工艺可以降低OLED蒸镀工艺难度，提升大尺寸OLED显示屏良率，但此结构中，CF使得整体显示屏厚度变厚且不能弯折，限制了其应用范围。技术问题有机发光二极管OLED（OrganicLight-EmittingDiode）是一种最新的显示技术，具有优异的显示性能，目前，OLED显示器通常皆采用著RGB三像素显示结构，这种OLED显示器的制程方法要求OLED蒸镀工艺对位精度难度相对较高，因此，造成大尺寸OLED显示屏工艺良率一直无法提升。另外一种实现OLED显示器全彩化的方式是采取WOLED+CF的结构，即采用白色有机发光二极管（WOLED）与彩色滤光层（CF）配合结构，该显示方法是通过将红色、绿色和蓝色的彩色滤光片贴附在基板上，白色有机发光二极管发射的白光通过分别通过红色、绿色和蓝色的彩色滤光片，得到红黄蓝三原色光。虽然此显示结构的制备工艺可以降低OLED蒸镀工艺难度，提升大尺寸OLED显示屏良率，但此结构中，CF使得整体显示屏厚度变厚且不能弯折，限制了其应用范围。技术解决方案本专利技术要解决的技术问题在于，针对现有技术的缺陷，提供一种同时能达到轻薄又可弯折的显示器。本专利技术进一步要解决的技术问题是提供一种克服大尺寸OLED显示屏在蒸镀工艺中对位难度，可以制造大尺寸OLED显示屏或高解析显示屏的制造方法。本专利技术解决其技术问题所采用的技术方案是：一种显示器，包括WOLED器件，在所述WOLED器件上沉积至少一层覆盖所述WOLED器件的第一无机膜层，所述第一无机膜层上对应WOLED器件的指定像素定义层设有红光彩色光阻、绿光彩色光阻和蓝光彩色光阻，所述第一无机膜层外沉积至少一层第二无机膜层，所述第二无机膜层覆盖所述红光彩色光阻、绿光彩色光阻和蓝光彩色光阻以及所述第一无机膜层。   进一步地，所述的显示器中，优选单层所述第一无机膜层厚度为500-2000nm。进一步地，所述的显示器中，优选所述第一无机膜层设置至少两层，依次沉积在所述WOLED器件上，至少两层的第一无机膜层总厚度≤2000nm。进一步地，所述的显示器中，优选所述红光彩色光阻、绿光彩色光阻和蓝光彩色光阻分别通过喷涂及硬化于WOLED器件的白光像素定义层。进一步地，所述的显示器中，优选所述红光彩色光阻、绿光彩色光阻和蓝光彩色光阻的厚度都分别各自为50-3000nm。进一步地，所述的显示器中，优选第一无机膜层以及所述第二无机膜层均采用SiNx、SiON、SiOx或Al2O3中的至少一种制成。进一步地，所述的显示器中，优选单层的所述第二无机膜层厚度为500-2000nm。进一步地，所述的显示器中，优选所述第二无机膜层设置至少两层，至少两层的所述第二无机膜层依次沉积在第一无机膜层上，并覆盖封闭所述红光彩色光阻、绿光彩色光阻和蓝光彩色光阻。进一步地，所述的显示器中，优选所述在WOLED器件的像素定义层还设有黑色光阻。一种显示器的制造方法，包括以下步骤：S1、制造WOLED器件；S2、采用化学气相沉积法在WOLED器件上沉积一层第一无机膜层；S3、如有需要重复步骤S2，再次沉积一层第一无机膜层，直至达到需要的第一无机膜层厚度；S4、利用喷涂方式，分别将不同的彩光光阻原料喷涂至WOLED器件的指定像素内，再将其硬化分别形成红光彩色光阻、绿光彩色光阻和蓝光彩色光阻；S5、采用化学气相沉积法在第一无机膜层和红光彩色光阻、绿光彩色光阻和蓝光彩色光阻外沉积一层第二无机膜层；S6、如有需要重复步骤S5，再次沉积一层第二无机膜层，直至达到需要的第二无机膜层厚度，得到最终的显示器。进一步地，所述的显示器制造方法中，优选所述步骤S1中，包括以下子步骤：S11、在阵列基板上依次沉积透明有机薄膜和反射金属薄膜；S12、图案化所述反射金属薄膜，去除所述阳极电极上方的金属薄膜；   S13、以所述图案化后的金属薄膜为掩膜刻蚀所述透明有机薄膜，暴露出所述阳极电极，形成具有像素定义图案的像素定义层；   S14、在形成像素定义层的阵列基板上依次蒸镀有机发光层和阴极。进一步地，所述的显示器制造方法中，优选所述步骤S2中，包括以下子步骤：S21、取原料SiNx、SiON、SiOx或Al2O3，对原料进行气化处理，制成制程所需气体；S22、将步骤S21制成的气体通入化学气相沉积设备的反应腔；S23、反应腔中通入的气体在电场或微波作用下，产生等离子体，等离子体轰击并沉积于WOLED器件上形成第一无机膜。进一步地，所述的显示器制造方法中，优选所述步骤S4中，包括以下子步骤：S41、红色发光光阻的制造：将红色发光颜料喷涂在指定的像素定义层内，采用加热或UV对其进行硬化；S42、绿色发光光阻的制造：将绿色发光颜料喷涂在指定的像素定义层内，采用加热或UV对其进行硬化；S43、蓝色发光光阻的制造：将蓝色发光颜料喷涂在指定的像素定义层内，采用加热或UV对其进行硬化。进一步地，所述的显示器制造方法中，优选所述步骤S5中，包括以下子步骤：S51、取原料SiNx、SiON、SiOx或Al2O3，对原料进行气化处理，制成制程所需气体；S52、将步骤S51制成的气体通入化学气相沉积设备的反应腔；S53、反应腔中通入的气体在电场或微波作用下，产生等离子体，等离子体轰击并沉积于所述红光彩色光阻、绿光彩色光阻和蓝光彩色光阻以及所述第一无机膜层上形成第二无机膜。本专利技术的显示器可以用于改进柔性或硬板OLED显示器，用于柔性OLED显示器时，在利用WOLED+彩色光阻填补方式实现显示屏全彩化，同时能达到轻薄又可弯折。其中红光彩色光阻、绿光彩色光阻和蓝光彩色光阻取代目前薄膜封装中的有机层，可当应力中断层，降低薄膜封装厚度，提升柔性弯折特性，另外可以作为平坦层实现器件的平坦。第一无机膜层和第二无机膜层可以作为阻水层和缓冲层，实现对WOLED、红光彩色光阻、绿光彩色光阻和蓝光彩色光阻的防护。有益效果本专利技术的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种显示器，包括WOLED器件，其特征在于，在所述WOLED器件上沉积至少一层覆盖所述WOLED器件的第一无机膜层，所述第一无机膜层上对应WOLED器件的指定像素定义层设有红光彩色光阻、绿光彩色光阻和蓝光彩色光阻，所述第一无机膜层外沉积至少一层第二无机膜层，所述第二无机膜层覆盖所述红光彩色光阻、绿光彩色光阻和蓝光彩色光阻以及所述第一无机膜层。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】一种显示器，包括WOLED器件，其特征在于，在所述WOLED器件上沉积至少一层覆盖所述WOLED器件的第一无机膜层，所述第一无机膜层上对应WOLED器件的指定像素定义层设有红光彩色光阻、绿光彩色光阻和蓝光彩色光阻，所述第一无机膜层外沉积至少一层第二无机膜层，所述第二无机膜层覆盖所述红光彩色光阻、绿光彩色光阻和蓝光彩色光阻以及所述第一无机膜层。


根据权利要求1所述的显示器，其特征在于，单层的所述第一无机膜层厚度为500-2000nm。


根据权利要求1所述的显示器，其特征在于，所述第一无机膜层设置至少两层，依次沉积在所述WOLED器件上，至少两层的第一无机膜层总厚度≤2000nm。


根据权利要求1所述的显示器，其特征在于，所述红光彩色光阻、绿光彩色光阻和蓝光彩色光阻分别喷涂及硬化于WOLED器件的白光像素定义层。


根据权利要求1所述的显示器，其特征在于，所述红光彩色光阻、绿光彩色光阻和蓝光彩色光阻的厚度都分别各自为50-3000nm。


根据权利要求1所述的显示器，其特征在于，所述第一无机膜层以及所述第二无机膜层均采用SiNx、SiON、SiOx或Al
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3中的至少一种制成。



根据权利要求1所述的显示器，其特征在于，单层的所述第二无机膜层厚度为500-2000nm。


根据权利要求1所述的显示器，其特征在于，所述第二无机膜层设置至少两层，至少两层的所述第二无机膜层总厚度≤2000nm，至少两层的所述第二无机膜层依次沉积在第一无机膜层上，并覆盖封闭所述红光彩色光阻、绿光彩色光阻和蓝光彩色光阻。


根据权利要求1所述的显示器，其特征在于，在WOLED器件的像素定义层还设有黑色光阻。


一种显示器的制造方法，其特征在于，包括以下步骤：
S1、制造WOLED器件；
S2、采用化学气相沉积法在WOLED器件上沉积一层第一无机膜层；
S3、如有需要重复步骤S2，再次沉积一层第一无机膜层，直至达到需要的第一无机膜层厚度；
S4、利用喷涂方式，分别将不同的彩光光阻原料喷涂至WOLED器件的指定像素内，再将其硬化分别形成红光彩色...

【专利技术属性】
技术研发人员：林茂仲，赵小虎，
申请(专利权)人：深圳市柔宇科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44