光吸收体的制造方法技术

光吸收体的制造方法包括：第一步骤(S100)，该步骤对树脂基板照射离子束；第二步骤(S110)，该步骤使用碱溶液对上述照射后的树脂基板进行蚀刻从而在其表面形成凹凸面；第三步骤(S120)，该步骤形成覆盖上述蚀刻后的树脂基板的凹凸面的转印体；以及第四步骤(S130)，该步骤从上述树脂基板剥离上述转印体从而得到光吸收体。作为转印体的例子，公开了金属膜、光固化性树脂、硅橡胶。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光吸收体的制造方法
本专利技术涉及一种光吸收体的制造方法，特别是，涉及一种在宽波长区域内反射率低的光吸收体的制造方法。
技术介绍
红外摄像机用于各工业领域。例如，可举出工厂的工艺的温度监测、温度异常的检测、集成电路基板的耐热试验、畜牧业领域中的牛、猪的体温管理、安防系统、流感对策等中的人的体温检测等。对于一般的可见光用摄像机而言，在透镜、框体内进行黑色涂装来降低可见光的杂散光、漫反射，而对于红外摄像机而言，降低红外线的杂散光、漫反射并不容易。已知英国萨里纳米系统公司(SurreyNanoSystemsLtd.)的VANTABLACK(注册商标)是碳纳米管定向的低反射体，在紫外线至远红外线的波长区域内反射率非常低。另外，已知有将离子束照射到玻璃状碳基材并在表面形成针状的形状的防反射结构体(例如，参考专利文献1)。本申请专利技术人等将来自回旋加速器的离子束照射到CR-39基板，对该基板进行蚀刻，进而在其表面形成Ni/Cr膜和DLC层，开发了可见至近红外的波长区域400nm～1700nm的波长的光的全反射率为1％～3％的光吸收本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光吸收体的制造方法，其中，其包括：/n第一步骤，该步骤对树脂基板照射离子束；/n第二步骤，该步骤使用碱溶液对所述照射后的树脂基板进行蚀刻从而在其表面形成凹凸面；/n第三步骤，该步骤形成覆盖所述蚀刻后的树脂基板的凹凸面的转印体；以及/n第四步骤，该步骤从所述树脂基板剥离所述转印体从而得到光吸收体。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20171102 JP 2017-2123801.一种光吸收体的制造方法，其中，其包括：
第一步骤，该步骤对树脂基板照射离子束；
第二步骤，该步骤使用碱溶液对所述照射后的树脂基板进行蚀刻从而在其表面形成凹凸面；
第三步骤，该步骤形成覆盖所述蚀刻后的树脂基板的凹凸面的转印体；以及
第四步骤，该步骤从所述树脂基板剥离所述转印体从而得到光吸收体。


2.如权利要求1所述的制造方法，其中，
所述树脂基板为烯丙基二甘醇碳酸酯树脂CR-39，
所述离子束使用Ne离子以及比Ne离子更重的离子中的任意一种，
所述碱溶液具有强碱性。


3.如权利要求1或2所述的制造方法，其中，
所述离子束的加速能量为200MeV以上。


4.如权利要求1～3中任一项所述的制造方法，其中，
在所述第三步骤中，所述转印体是形成在所述蚀刻后的树脂基板的凹凸面的金属膜。


5.如权利要求4所述的制造方法，其中，
所述金属膜的光吸收体形成了250nm～770nm的波长的全反射率为0.5％以下的表面。


6.如权利要求1～3中任一项所述的制造方法，其中，
在所述第三步骤中，所述转印体是在所述蚀刻后的树脂基板的凹凸面上涂布光固化性树脂并通过光照射固化后的光固化性树脂。


7.如权利要求6所述的制造方法，其中，
所述光固化性树脂的光吸收体形成了3μm～15μm的波长的全反射率为0.3％以下的表面。

【专利技术属性】
技术研发人员：雨宫邦招，
申请(专利权)人：国立研究开发法人产业技术综合研究所，
类型：发明
国别省市：日本;JP