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光吸收体的制造方法包括：第一步骤(S100)，该步骤对树脂基板照射离子束；第二步骤(S110)，该步骤使用碱溶液对上述照射后的树脂基板进行蚀刻从而在其表面形成凹凸面；第三步骤(S120)，该步骤形成覆盖上述蚀刻后的树脂基板的凹凸面的转印体；...
该专利属于国立研究开发法人产业技术综合研究所所有，仅供学习研究参考，未经过国立研究开发法人产业技术综合研究所授权不得商用。

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