化学镀镍－磷－钴浴及化学镀镍－磷－钴膜制造技术

化学镀镍－磷－钴浴含有水溶性镍盐、次磷酸盐、含钴化合物以及重金属化合物，还含有选自由乙炔化合物、碘化物离子源或碘酸根离子源、以及含有一个以上硝基的含硝基芳香族化合物所组成的组中的至少一种。乙炔化合物的浓度为10～120mg/L，碘化物离子源或碘酸根离子源的浓度为10～4000mg/L，含硝基芳香族化合物的浓度为0.1～5000mg/L。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】化学镀镍－磷－钴浴及化学镀镍－磷－钴膜
本专利技术涉及一种化学镀镍－磷－钴浴及化学镀镍－磷－钴膜。
技术介绍
迄今为止，在电子元件领域中，在柔性基板或硅片基板的铝或铜图案上形成了化学镀镍膜。与电镀法不同，化学镀镍法是仅通过将被镀物浸渍于镀浴中，就能够在被镀物的表面形成金属镍膜的方法，无论材料的形状、种类如何，都能够得到厚度均匀的膜，因此适用于形状复杂的部件或精密部件的镀覆加工处理。近年来，需要耐磨性优异的镀膜，但就现有化学镀镍－磷膜而言，虽然硬度充分(维氏硬度在650以上)，但存在耐磨性不足的问题。因此，为了解决上述问题，提出了含有钴的化学镀镍膜。更具体而言，公开了一种含有1～50质量％的钴、1～20质量％的钨、1～4质量％的磷的化学镀镍膜。而且记载了：这样的化学镀镍膜在从室温到高温区域这样广泛的温度范围内具有高硬度，并且耐磨性优异(例如，参照专利文献1)。专利文献1：日本专利第4185523号公报
技术实现思路
－专利技术要解决的技术问题－不过，在形成上述现有化学镀镍－磷－钴膜时使用本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种化学镀镍－磷－钴浴，其含有水溶性镍盐、次磷酸盐、含钴化合物以及重金属化合物，其特征在于：/n所述化学镀镍－磷－钴浴还含有选自由乙炔化合物、碘化物离子源或碘酸根离子源、以及含有一个以上硝基的含硝基芳香族化合物所组成的组中的至少一种，/n所述乙炔化合物的浓度为10～120mg/L，所述碘化物离子源或碘酸根离子源的浓度为10～4000mg/L，所述含硝基芳香族化合物的浓度为0.1～5000mg/L。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20171106 JP 2017-2140401.一种化学镀镍－磷－钴浴，其含有水溶性镍盐、次磷酸盐、含钴化合物以及重金属化合物，其特征在于：
所述化学镀镍－磷－钴浴还含有选自由乙炔化合物、碘化物离子源或碘酸根离子源、以及含有一个以上硝基的含硝基芳香族化合物所组成的组中的至少一种，
所述乙炔化合物的浓度为10～120mg/L，所述碘化物离子源或碘酸根离子源的浓度为10～4000mg/L，所述含硝基芳香族化合物的浓度为0.1～5000mg/L。


2.根据权利要求1所述的化学镀镍－磷－钴浴，其特征在于：
所述乙炔化合物为丙炔醇和/或丙...

【专利技术属性】
技术研发人员：佐藤雅亮，黑坂成吾，
申请(专利权)人：上村工业株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP