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基于光波导多模成像的触觉传感器、系统及干扰检测方法技术方案

技术编号:24515529 阅读:19 留言:0更新日期:2020-06-17 06:04
本发明专利技术公开一种基于光波导多模成像的触觉传感器,该触觉传感器包括衬底,以及布置在衬底上的输入光波导和多模干涉层;多模干涉层的折射率大于衬底的折射率;输入光波导的出射端与多模干涉层的入射端相连,多模干涉层作为触觉传感层,其入射端局部被刻蚀掉,形成多个镂空孔,构成散射扩束器结构。本发明专利技术的触觉传感器结构简单、成本低、尺寸小,灵敏度和空间分辨率高。并且通过分析输出图样的变化,可以实现触觉传感器上任意位置的分布式传感。

Tactile sensor, system and interference detection method based on optical waveguide multimode imaging

【技术实现步骤摘要】
基于光波导多模成像的触觉传感器、系统及干扰检测方法
本专利技术涉及集成光学、光波导传感、图像处理领域,具体涉及一种基于光波导多模成像的触觉传感器、系统及干扰检测方法。
技术介绍
触觉感知是通过传感器和被评估介质之间的物理接触来测量机械变量。为了提供外部刺激的大小和空间分布信息,可以将多个感知元素以触觉阵列的形式排列,在智能机器人的开发、用于微创手术的机械手和人机交互界面等领域应用广泛。基于光波导的触觉传感器具有体积小、抗电磁干扰、重量轻、响应速度快、易于集成等优点,在实际应用中有巨大的潜力。目前,触觉传感器主要形式有压电式、电阻式、电容式、磁场传导式、光学传感器等多种类型。这些传感器存在很多问题例如基于电阻率的传感方法可能易于小规模生产,但其低精度限制了其实用性。基于压电式的传感器不适用于静态测量。基于电容式的传感器因为静电放电会引入噪音,甚至可能会损坏其他电子部件。另一方面,基于光纤的触觉传感器的例子包括微弯、光纤布拉格光栅和异芯光纤传感器,虽然在抗电磁干扰和多点测量等方面具有优势。然而,为了达到灵敏度和空间分辨率的要求,目前的技术要求使用大量的光纤或复杂的多路复用方案,这会降低传感器的可靠性。
技术实现思路
针对现有技术的不足,本专利技术提出一种基于光波导多模成像的触觉传感器、系统及干扰检测方法,利用多模干涉的原理,基于光波导结构实现触觉传感,该触觉传感器体积小、抗电磁干扰、重量轻、响应速度快,可以集成在智能机器人、人机交互等应用中。本专利技术的目的通过如下的技术方案来实现:一种基于光波导多模成像的触觉传感器,所述的触觉传感器包括衬底,以及布置在所述的衬底上的输入光波导和多模干涉层;所述的多模干涉层的折射率大于所述的衬底的折射率,所述的输入光波导的折射率与所述的多模干涉层的折射率相等;所述的输入光波导的出射端与所述的多模干涉层的入射端相连,所述的多模干涉层作为触觉传感层,其入射端局部被刻蚀掉,形成多个镂空孔,构成散射扩束器结构;所述的镂空孔的形状需满足使镂空边界产生折射率突变,且镂空孔的边长不大于入射光的波长。进一步地,所述的多模干涉层的入射端的镂空孔呈阵列分布。进一步地,所述的多模干涉层的折射率为2.0,所述的衬底的折射率为1.45。一种基于触觉传感器的触觉传感系统,该系统还包括布置在所述的触觉传感器输入端的光源、布置在所述的触觉传感器出射端的成像系统和二维图像捕获系统。一种基于触觉传感器的触觉传感系统,该系统还包括布置在所述的触觉传感器输入端的光源、布置在所述的触觉传感器出射端的一维像素探测器阵列。一种基于触觉传感系统的外部干扰检测方法,该方法具体包括如下步骤:所述的光源的光从输入光波导进入所述的多模干涉层,由于所述的散射扩束器结构产生的不规则的折射率突变,使得多模干涉层中产生繁密的干涉图样,减少了干涉光场的暗区面积,通过所述的成像系统对所述的多模干涉层的出射端的光斑成像,所述的二维图像捕获系统采集所述的多模干涉层的出射端的光斑图像,结合外部干扰建立光斑图像训练数据集后,使用所述的光斑图像训练数据集对机器学习算法进行训练,得到训练好的机器学习算法,当采集新的光斑图像时,采用训练好的机器学习算法实时解调外部干扰的大小和空间分布信息。一种基于触觉传感系统的外部干扰检测方法,该方法具体包括如下步骤:所述的光源的光从输入光波导进入所述的多模干涉层,由于所述的散射扩束器结构产生的不规则的折射率突变,使得多模干涉层中产生繁密的干涉图样,在所述的多模干涉层的出射端的不同位置,放置多个一维像素探测器,探测多模干涉层出射端不同位置输出光强的变化,结合外部干扰建立光强值的训练数据集,使用所述的光强值的训练数据集对机器学习算法进行训练,得到训练好的机器学习算法,当采集新的光强值时,采用训练好的机器学习算法根据不同位置的光强值解调外部干扰的大小和空间分布信息。本专利技术的有益效果如下:(1)本专利技术利用光波导多模成像实现了触觉传感器,结构简单、成本低、尺寸小。(2)本专利技术引入散射扩束器结构后,在多模干涉层引入了不规则的折射率突变,使得多模干涉图案更加繁密,减少干涉光场的暗区面积,大大提高了触觉传感器的灵敏度和空间分辨率。并且通过分析干涉图样的变化,可以实现触觉传感器上任意位置的分布式传感。附图说明图1为本专利技术的一个示例性实施例提供的触觉传感器的俯视图;图2为本专利技术的一个示例性实施例提供的触觉传感器的侧视图;图3是本专利技术的一个示例性实施例提供的触觉传感器的横向截面图;图4为本专利技术的一个示例性实施例提供的触觉传感系统的结构框图;图5为本专利技术另一个示例性实施例提供的触觉传感系统的结构框图;图6为触觉传感器的多模干涉层没有散射扩束器结构时,产生的多模干涉图样示意图;图7为触觉传感器的多模干涉层有散射扩束器结构时,产生的多模干涉图样示意图;图8是本专利技术一个示例性实施例提供的在触觉传感器的多模干涉层表面的不同位置受到外部干扰后,多模干涉层输出端的光强归一化变化曲线;图中,1、输入光波导,2、多模干涉层,3、散射扩束器结构,4、外部干扰,5、衬底,6、外部干扰位置1,7、外部干扰位置2,8、外部干扰位置3。具体实施方式下面根据附图和优选实施例详细描述本专利技术,本专利技术的目的和效果将变得更加明白。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本专利技术,并不用于限定本专利技术。如图1~3所示,本专利技术的触觉传感器包括衬底5,以及布置在衬底5上的输入光波导1和多模干涉层2,多模干涉层2的折射率大于衬底5的折射率,输入光波导1的折射率与多模干涉层2的折射率相等;输入光波导1的出射端与多模干涉层2的入射端相连,多模干涉层2作为触觉传感层,其入射端局部被刻蚀掉,形成多个镂空孔,构成散射扩束器结构3。所述的镂空孔的形状需满足使镂空边界产生折射率突变,且镂空孔的边长不大于入射光的波长,这些都是为了产生明显的衍射现象,衍射后的光继续向前传播,发生干涉,会产生繁密的干涉图样,大大减少了干涉光场的暗区面积,提高了触觉传感器的灵敏度。多模干涉层2的入射端的镂空孔呈阵列分布,入射光经过呈阵列分布的镂空孔后,会发生多次衍射,沿着多模干涉层2继续传播,发生干涉时,会产生繁密的干涉谱。多模干涉层2没有上包层,或者上包层非常薄,保证在多模干涉层的表面有足够多的倏逝场,使得触觉传感器有非常高的灵敏度。多模干涉层2作为实际触觉传感层,在输入光波导1的激励下产生多个光波模式,各模式向前传播,形成干涉图样。在受到外部干扰时,光的传播模式受到干扰,干涉图样发生改变,输出光成像将产生不同的光斑明暗分布。这种分布与外部干扰的位置和力度有关。引入散射扩束器结构3,在多模干涉层2引入了不规则的折射率突变,使得多模干涉图案更加繁密,减少干涉光场的暗区面积,大大提高了触觉传感器的灵敏度和空间分辨率。作为其中一种实施方式,衬底5和多模干涉层2的折射本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基于光波导多模成像的触觉传感器,其特征在于,所述的触觉传感器包括衬底,以及布置在所述的衬底上的输入光波导和多模干涉层;/n所述的多模干涉层的折射率大于所述的衬底的折射率,所述的输入光波导的折射率与所述的多模干涉层的折射率相等;/n所述的输入光波导的出射端与所述的多模干涉层的入射端相连,所述的多模干涉层作为触觉传感层,其入射端局部被刻蚀掉,形成多个镂空孔,构成散射扩束器结构;/n所述的镂空孔的形状需满足使镂空边界产生折射率突变,且镂空孔的边长不大于入射光的波长。/n

【技术特征摘要】
1.一种基于光波导多模成像的触觉传感器,其特征在于,所述的触觉传感器包括衬底,以及布置在所述的衬底上的输入光波导和多模干涉层;
所述的多模干涉层的折射率大于所述的衬底的折射率,所述的输入光波导的折射率与所述的多模干涉层的折射率相等;
所述的输入光波导的出射端与所述的多模干涉层的入射端相连,所述的多模干涉层作为触觉传感层,其入射端局部被刻蚀掉,形成多个镂空孔,构成散射扩束器结构;
所述的镂空孔的形状需满足使镂空边界产生折射率突变,且镂空孔的边长不大于入射光的波长。


2.根据权利要求1所述的基于光波导多模成像的触觉传感器,其特征在于,所述的多模干涉层的入射端的镂空孔呈阵列分布。


3.根据权利要求1所述的基于光波导多模成像的触觉传感器,其特征在于,所述的多模干涉层的折射率为2.0,所述的衬底的折射率为1.45。


4.一种基于权利要求1所述的触觉传感器的触觉传感系统,其特征在于,该系统还包括布置在所述的触觉传感器输入端的光源、布置在所述的触觉传感器出射端的成像系统和二维图像捕获系统。


5.一种基于权利要求1所述的触觉传感器的触觉传感系统,其特征在于,该系统还包括布置在所述的触觉传感器输入端的光源、布置在所述的触觉传感器出射端的一维像素探测器阵列。

【专利技术属性】
技术研发人员:丁振名张紫阳
申请(专利权)人:西湖大学浙江西湖高等研究院
类型:发明
国别省市:浙江;33

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