盘片式氯硅烷结晶机制造技术

技术编号:24482750 阅读:78 留言:0更新日期:2020-06-12 22:41
本发明专利技术属于氯硅烷生产技术领域,具体是指一种盘片式氯硅烷结晶机,包括密封设置的壳体,壳体上设有进料口、出料口、排气筒和夹套壳体内转动安装有转轴,所述转轴内沿轴向设有轴腔,所述轴腔的一端开口连接旋转接头,另一端封闭连接驱动装置,所述转轴上设有若干盘片,所述盘片内设有内腔,所述转轴上设有若干与所述盘片内腔连通的通孔,所述盘片的边缘安装有搅拌齿。本发明专利技术提供的盘片式氯硅烷结晶机,设置密封壳体可以承受一定压力,使得挥发性气体不会溢出,而是全部汇集到排气筒处,最后集中收集处理,避免挥发性气体溢出污染环境,物料搅拌充分干燥效率高,结晶速度快,提高生产效率。

Disk chlorosilane crystallizer

【技术实现步骤摘要】
盘片式氯硅烷结晶机
本专利技术属于氯硅烷生产
,具体是指一种盘片式氯硅烷结晶机。
技术介绍
氯硅烷作为一种重要的化工原料,是制造有机硅烷偶联剂中最基本的单体,同时也是制备多晶硅的主要原料,具有广泛的应用。近年来,随着我国有机硅产业的增长和对环境保护问题重视程度的提高,太阳能电池作为一个新的清洁能源,越来越受到重视,太阳能电池行业的飞速发展对于氯硅烷的需求量迅速增加。因此,目前廓各地纷纷扩建三氯硅烷项目,或对于现有生产线进行技术改造升级,已达到扩产能的目的。近年来,随着三氯硅烷的用途逐渐拓宽,需求量大幅增加,氯硅烷的生产工艺大有改进,但是与国外的先进工艺技术相比,国内的氯硅烷生产中还存在许多问题,比如氯硅烷在结晶之前,含有可溶性的挥发性气体杂质,并且有些气体成分有毒,需要将其去除,但是目前氯硅烷结晶设备并没有配备专用的气体杂质去除设备,需要另外工艺来去除这些有毒气体,工序多,影响氯硅烷生产效率。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种盘片式氯硅烷结晶机,有效将氯硅烷溶液中含有的挥发性气体杂质去除,简化生产工艺本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.盘片式氯硅烷结晶机,其特征在于,包括密封设置的壳体,所述壳体上设有进料口、出料口和排气筒,所述壳体外设有夹套,所述夹套上设有进水口和出水口,/n所述壳体内转动安装有转轴,所述转轴内沿轴向设有轴腔,所述轴腔的一端开口,另一端封闭,所述转轴的两端伸出所述壳体,所述转轴与壳体之间设有密封结构,所述转轴的开口端连接旋转接头,所述转轴的封闭端连接驱动装置,/n所述转轴上设有若干盘片,所述盘片内设有内腔,所述转轴上设有若干与所述盘片内腔连通的通孔,所述盘片的边缘安装有搅拌齿。/n

【技术特征摘要】
1.盘片式氯硅烷结晶机,其特征在于,包括密封设置的壳体,所述壳体上设有进料口、出料口和排气筒,所述壳体外设有夹套,所述夹套上设有进水口和出水口,
所述壳体内转动安装有转轴,所述转轴内沿轴向设有轴腔,所述轴腔的一端开口,另一端封闭,所述转轴的两端伸出所述壳体,所述转轴与壳体之间设有密封结构,所述转轴的开口端连接旋转接头,所述转轴的封闭端连接驱动装置,
所述转轴上设有若干盘片,所述盘片内设有内腔,所述转轴上设有若干与所述盘片内腔连通的通孔,所述盘片的边缘安装有搅拌齿。


2.根据权利要求1所述的盘片式氯硅烷结晶机,其特征在于,所述盘片包括两相对设置的盘体,两所述盘体之间形成所述内腔,所述内腔中设有若干间隔块,所述间隔块与两所述盘体焊接连接,两所述盘体之间靠近边缘焊接有间隔条,两所述盘体的边缘之间焊接有搅拌齿安装条,所述搅拌齿安装条上安装有所述搅拌齿。


3.根据权利要求1所述的盘片式氯硅烷结晶机,其特征在于,所述内腔中设有两个以上的隔板,所述隔板与转轴外表面、盘片内侧面和间隔条密封连接,所述隔板将所述内腔分隔成两个以上的换热腔室,所述转轴上的通孔位于相邻隔板之间且靠近所述隔板设置,所述转轴的通孔安装导流管,所述导流管朝向所述轴腔内延伸。


4.根据权利要求3所述的盘片式氯硅烷结晶机,其特征在于,每块所述隔板包括两个弧形板,两所述弧形板连接所述间隔条的一端相连接,两所述弧形板的另一端分开与所述转轴连接。


5.根据权利要求1所述的盘片式氯硅烷结晶机,其特征在于,所述搅拌齿分为左侧推板、右侧推板和V形推板,所述左侧推板与所述盘片的左侧边缘连接、倾斜设置在所述盘片的左侧,所述右侧推板与所述盘片的右侧连接、倾斜设置在所述盘片的右侧,所述V形推板包括连接在一起的左侧推板和右侧推板。


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【专利技术属性】
技术研发人员:田晓军秦建斌潘利
申请(专利权)人:山东鑫正达机械制造有限公司
类型:发明
国别省市:山东;37

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