刻划机加工精度补偿方法及光伏芯片技术

本发明专利技术涉及光伏组件技术领域，具体而言，涉及一种刻划机加工精度补偿方法及光伏芯片。刻划机加工精度补偿方法包括在不同时间下，获取刻划单元的刻划运动趋势变化的数据，建立数据模型；根据数据模型，对刻划单元在不同加工时间下的运动趋势进行补偿。如此，在不增加机台硬件的情况下，通过工艺以及配合系统的优化，解决刻划机台的热机问题，提高机台的利用率；提高冷机状态下的机台精度，即机台不需要热机即可进行生产。

Precision compensation method and photovoltaic chip for engraving machine

【技术实现步骤摘要】
刻划机加工精度补偿方法及光伏芯片
本专利技术涉及光伏组件
，具体而言，涉及一种刻划机加工精度补偿方法及光伏芯片。
技术介绍
在光伏芯片发电行业，大量采用的刻划机由于直线电机以及光栅尺在生产过程中的热效应，机台的精度会受到显著地影响。目前的解决方法是提前热机，即在机台正式生产之前空机运转2小时左右。然而这样的方式至少有以下缺点：1.既浪费机台工作时间降低机台的利用率。2.停机复机过程的机台的精度无法量化衡量，一方面不利于自动化生产线的持续生产，另一方面无法保证产品的良率要求。
技术实现思路
本专利技术的目的包括提供一种刻划机加工精度补偿方法，其能够在不增加机台硬件的情况下，通过工艺以及配合系统的优化，解决刻划机台的热机问题，提高机台的利用率；同时减小冷机启动后的工作状态中刻划机工作时精度误差的问题,保障刻划单元加工得到的产品满足预设的误差范围的要求。本专利技术的另一目的包括提供一种光伏芯片。光伏芯片通过上述刻划机加工精度补偿方法制成，这样的光伏芯片具有精度好，品质高的特点。本专利技术的实施例通过以下技术方案实现：一种刻划机加工精度补偿方法，其包括以下步骤：S10：在不同时间下，获取刻划单元的刻划运动趋势变化的数据，建立数据模型；S20：根据数据模型，对刻划单元在不同加工时间下的运动趋势进行补偿。在本专利技术的一种实施例中：上述步骤S10中，在不同时间下包括从刻划机冷机启动到热机工作的任一时间。在本专利技术的一种实施例中：在步骤S10中，通过多次试验，获取同一时刻下多个刻划单元的刻划运动趋势变化的数据，建立同一时刻下的数据模型。在本专利技术的一种实施例中：在步骤S10中，从同一时刻下获取的多个刻划运动趋势变化的数据中选择有效数据，根据有效数据获得同一时刻下的数据模型。在本专利技术的一种实施例中：在步骤S10中，根据同一时刻下的数据模型，通过权重计算或平均值计算出补偿量。在本专利技术的一种实施例中：上述步骤S10中，刻划单元的刻划运动趋势变化的数据包括刻划单元实际刻划轨迹与预设刻划轨迹的偏移数据。在本专利技术的一种实施例中：上述偏移数据包括刻划单元的实际刻划轨迹与预设刻划轨迹的偏移方向；以及刻划单元的实际刻划轨迹与预设刻划轨迹之间的偏移距离。在本专利技术的一种实施例中：上述在步骤S20中，根据数据模型，确定在任一加工时间的补偿量；在任一加工时间下，将补偿量补偿到刻划单元的运动趋势。在本专利技术的一种实施例中：补偿量包括补偿方向和补偿时间。一种光伏芯片，其通过上述中任一项的刻划机加工精度补偿方法制成。本专利技术实施例的技术方案至少具有如下优点和有益效果：在不同时间下，获取刻划单元的刻划运动趋势变化的数据，建立数据模型。通过这些数据模型，在刻划机冷机启动工作后，对刻划单元在不同加工时间下的运动趋势进行补偿，从而使得刻划单元加工的产品能够在预设的误差范围内。本专利技术在不需要额外增加机台硬件的情况下，通过在不同刻划时间分别对刻划单元的运动进行补偿，不仅使得刻划机即使在冷机启动工作下也能够生产得到在预设误差范围内的产品，从而解决了现有技术中刻划机台需要热机的问题，即机台不需要热机即可进行生产。同时节省了成本、提高机台的利用率，保障了刻划机加工的产品的品质。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本专利技术的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获取其他相关的附图。图1为现有技术中刻划机在不同热机时间下，刻划单元的运动趋势示意图；图2为本专利技术的实施例中刻划机加工精度补偿方法的流程图；图3为本专利技术的实施例中刻划机加工精度补偿方法的示意图。具体实施方式为使本专利技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本专利技术实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。因此，以下对在附图中提供的本专利技术的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本专利技术的范围，而是仅仅表示本专利技术的选定实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获取的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。在本专利技术的描述中，需要说明的是，若出现术语“左”、“右”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该专利技术产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”等仅用于区分描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性。在本专利技术的描述中，还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，若出现术语“设置”、“安装”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本专利技术中的具体含义。刻划机由于直线电机以及光栅尺在生产过程中的热效应，机台的精度会受到显著地影响。目前的解决方法是提前热机，即在机台正式生产之前空机运转2小时左右。但是这样的工作方式至少有以下问题：1.既浪费机台时间降低机台的利用率。2.停机复机过程的机台的精度无法量化衡量，一方面不利于自动化生产线的持续生产，另一方面无法保证产品的良品率要求。请参照图1，图1为现有技术中刻划机在不同热机时间下，刻划单元的运动趋势示意图。具体的，横轴为不同热机时间，竖轴为刻划单元的运动趋势。从图1中可以看出，1.5h这个时刻，刻划单元的运动轨迹为竖直方向；在0-1.5h内，刻划单元的运动轨迹为向右偏斜(这里的向右是相对与1.5h的运动轨迹而言)，且时间越短刻划单元偏斜程度越明显；在1.5h-2.5h内，刻划单元的运动轨迹为向左偏斜(这里的向左是相对与1.5h的运动轨迹而言)，且时间越长刻划单元偏斜程度越明显。为了克服上述问题，在下面的实施例中提供一种刻划机加工精度补偿方法。请参照图2，从图中可以看出，刻划机包括机台和用于刻划产品的刻划单元。一种刻划机加工精度补偿方法包括以下步骤：S10：在不同时间下，获取刻划单元的刻划运动趋势变化的数据，建立数据模型；S20：根据数据模型，对刻划单元在不同加工时间下的运动趋势本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种刻划机加工精度补偿方法，其特征在于：/n所述方法包括以下步骤：/nS10：在不同时间下，获取刻划单元的刻划运动趋势变化的数据，建立数据模型；/nS20：根据数据模型，对所述刻划单元在不同加工时间下的运动趋势进行补偿。/n

【技术特征摘要】
1.一种刻划机加工精度补偿方法，其特征在于：
所述方法包括以下步骤：
S10：在不同时间下，获取刻划单元的刻划运动趋势变化的数据，建立数据模型；
S20：根据数据模型，对所述刻划单元在不同加工时间下的运动趋势进行补偿。


2.根据权利要求1所述的刻划机加工精度补偿方法，其特征在于：
所述步骤S10中，所述在不同时间下包括从刻划机冷机启动到热机工作的任一时间。


3.根据权利要求1所述的刻划机加工精度补偿方法，其特征在于：
在所述步骤S10中，通过多次试验，获取同一时刻下多个所述刻划单元的刻划运动趋势变化的数据，建立所述同一时刻下的数据模型。


4.根据权利要求3所述的刻划机加工精度补偿方法，其特征在于：
在所述步骤S10中，从所述同一时刻下获取的多个刻划运动趋势变化的数据中选择有效数据，根据所述有效数据获得所述同一时刻下的数据模型。


5.根据权利要求3所述的刻划机加工精度补偿方法，其特征在于：
在所述步骤S10中，根据所述同一时刻下的...

【专利技术属性】
技术研发人员：何龙超，
申请(专利权)人：北京铂阳顶荣光伏科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11