OPC图形生成方法技术

本申请公开了一种OPC图形生成方法，涉及半导体光刻技术领域。该方法包括生成基础图形生成库，基础图形生成库用于生成基础图形，基础图形的形状包括线型和孔型；调用基础图形生成库，根据预定设计图形生成基础图形，并组合基础图形生成初始OPC图形；利用加权函数和初始OPC图形中的线端位置确定待添加的头部图形的尺寸，加权函数用于计算线端的权重；根据待添加的头部图形的尺寸，对初始OPC图形中的线端添加对应的头部图形，得到目标OPC图形；解决了目前大量生成OPC图形效率低、容易出错的问题；达到了自动生成OPC图形，优化对OPC图形的仿真结果，提高OPC图形的生成速度和准确率的效果。

OPC graphics generation method

【技术实现步骤摘要】
OPC图形生成方法
本申请涉及半导体光刻
，具体涉及一种OPC图形生成方法。
技术介绍
在半导体制造中，随着设计尺寸的不断缩小，光的衍射效应变得越来越明显，导致在硅片上经过光刻形成的实际图形变得和设计图形不同。为了修正这种现象，产生了OPC(opticalproximitycorrection，光学邻近效应修正)，令光刻后的图形与设计图形接近。在建模和测试过程中，需要不断地对OPC测试图形和光刻图形进行量测和修改。目前生成OPC测试图形的过程基本为手动流程，需要耗费大量时间，而且容易出错，难以满足在短时间内生成大量OPC测试图形的需求。
技术实现思路
为了解决相关技术中的问题，本申请提供了一种OPC图形生成方法。该技术方案如下：一方面，本申请实施例提供了一种OPC图形生成方法，该方法包括：生成基础图形生成库，基础图形生成库用于生成基础图形，基础图形的形状包括线型和孔型；调用基础图形生成库，根据预定设计图形生成基础图形，并组合基础图形生成初始OPC图形；利用加权函数和初始OPC图形本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种OPC图形生成方法，其特征在于，所述方法包括：/n生成基础图形生成库，所述基础图形生成库用于生成基础图形，所述基础图形的形状包括线型和孔型；/n调用所述基础图形生成库，根据预定设计图形生成基础图形，并组合所述基础图形生成初始OPC图形；/n利用加权函数和所述初始OPC图形中的线端位置确定待添加的头部图形的尺寸，所述加权函数用于计算线端的权重；/n根据所述待添加的头部图形的尺寸，对所述初始OPC图形中的线端添加对应的头部图形，得到目标OPC图形。/n

【技术特征摘要】
1.一种OPC图形生成方法，其特征在于，所述方法包括：
生成基础图形生成库，所述基础图形生成库用于生成基础图形，所述基础图形的形状包括线型和孔型；
调用所述基础图形生成库，根据预定设计图形生成基础图形，并组合所述基础图形生成初始OPC图形；
利用加权函数和所述初始OPC图形中的线端位置确定待添加的头部图形的尺寸，所述加权函数用于计算线端的权重；
根据所述待添加的头部图形的尺寸，对所述初始OPC图形中的线端添加对应的头部图形，得到目标OPC图形。


2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述利用加权函数和线端位置确定待添加至所述初始OPC图形的头部图形的尺寸，包括：
获取所述初始OPC图形中线端的坐标；
根据所述加权函数和所述线端的坐标计算出所述线端的权重；
将所述线端的权重和头部图形的单边最大宽度之积作为待添加的头部图形的宽度，所述待添加的头部图形的长度已知。


3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述根据所述加权函数和所述线端的坐标计算出所述线端的权重，包括：
将所述线端的坐标带入所述加权函数，计算得到所述线端的权重。


4.根据权利要求1至3任一所述的方法，...

【专利技术属性】
技术研发人员：王聪玉，金晓亮，
申请(专利权)人：上海华虹宏力半导体制造有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31