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本申请公开了一种OPC图形生成方法，涉及半导体光刻技术领域。该方法包括生成基础图形生成库，基础图形生成库用于生成基础图形，基础图形的形状包括线型和孔型；调用基础图形生成库，根据预定设计图形生成基础图形，并组合基础图形生成初始OPC图形；利用...
该专利属于上海华虹宏力半导体制造有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华虹宏力半导体制造有限公司授权不得商用。

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