【技术实现步骤摘要】
一种表贴面阵列器件引脚去氧化的方法
本专利技术属于电子元器件安全可靠
,具体为一种表贴面阵列器件引脚去氧化的方法。
技术介绍
BGA器件和CCGA器件均属于表贴面阵列器件,其引脚为由Sn-Ag-Cu焊料或Sn-Pb焊料组成的球状及柱状阵列式引脚,其引脚节距通常在1.27mm以内。在实际生产过程中,该类器件的测试、筛选、转运及存储过程中均可能将器件引脚暴露在空气环境中而发生氧化,使引脚表面发暗甚至有明显异物色泽。引脚发生氧化的BGA及CCGA器件焊接后,极易发生虚焊或焊点高空洞率的现象,而该类器件焊点在器件底部,焊接后焊点不可见且难以修复,对产品组装可靠性有极大的影响。由于该类器件球状及柱状引脚表面形状特殊、引脚材料较软且其节距小,因此很难使用常规方法进行去氧化处理。目前,常见的去氧化处理方法为:第一,引脚搪锡,该方法仅适用于引线式引脚及焊盘式引脚,对于引脚为Sn-Ag-Cu焊料或Sn-Pb焊料的BGA及CCGA器件会损坏引脚;第二,对氧化端面打磨,该方法仅对较平的端面有效,对于球状及柱状阵列式引脚的BGA及CC ...
【技术保护点】
1.一种表贴面阵列器件引脚去氧化的方法,其特征在于,包括以下步骤,/n步骤1,先将助焊剂刷涂在表贴面阵列器件的引脚上,然后将附着有助焊剂的表贴面阵列器件在100℃~140℃下热处理1min~2min,得到热处理后的表贴面阵列器件;/n步骤2,将热处理后的表贴面阵列器件中残留的助焊剂去除后,得到引脚去氧化的表贴面阵列器件。/n
【技术特征摘要】
1.一种表贴面阵列器件引脚去氧化的方法,其特征在于,包括以下步骤,
步骤1,先将助焊剂刷涂在表贴面阵列器件的引脚上,然后将附着有助焊剂的表贴面阵列器件在100℃~140℃下热处理1min~2min,得到热处理后的表贴面阵列器件;
步骤2,将热处理后的表贴面阵列器件中残留的助焊剂去除后,得到引脚去氧化的表贴面阵列器件。
2.根据权利要求1所述的一种表贴面阵列器件引脚去氧化的方法,其特征在于,所述的步骤1中,助焊剂为松香基助焊剂。
3.根据权利要求1所述的一种表贴面阵列器件引脚去氧化的方法,其特征在于,步骤1中附着有助焊剂的表贴面阵列器件从室温开始加热至所述的热处理温度,升温速率为0.5℃/s~2℃/s。
4.根据权利要求1所述的一种表贴面阵列器件引脚去氧化的方法,其特征在于,步骤1中,使用...
【专利技术属性】
技术研发人员:陈轶龙,栗凡,李留辉,姚宇清,
申请(专利权)人:西安微电子技术研究所,
类型:发明
国别省市:陕西;61
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