【技术实现步骤摘要】
保偏膜、全反射保偏棱镜及实现全反射保偏的方法
本专利技术涉及光学领域，特别涉及一种保偏膜、全反射保偏棱镜及实现全反射保偏的方法。
技术介绍
光学系统中的反射镜会在一定程度上改变入射光的偏振态，即产生残余偏振，会降低光学系统的成像能力。因此在某些光学反射系统中，应避免或减少残余偏振，使得入射光的偏振态经过反射后保持不变，即要求使用保偏反射镜。保偏反射，等效于光束经过反射镜后不发生相位延迟，P偏振光和S偏振光的强度保持一致。一般的光学反射位移器件，如角锥棱镜、直角棱镜等，都基于光束从光密介质到光疏介质的全反射原理实现光束折返，而由于全反射对光束相位损失的影响，反射光束的偏振态较入射光束发生了变化，使其无法应用于有保偏特性要求的应用场合。
技术实现思路
本专利技术提供一种保偏膜、全反射保偏棱镜及实现全反射保偏的方法，所述保偏膜能镀制或粘附于全反射棱镜的全反射面上，形成全反射保偏棱镜，通过本专利技术所述的全反射保偏棱镜及实现全反射保偏的方法，进行光线的反射时，只要光线通过全反射棱镜入射到该全反射棱镜的全反...
【技术保护点】
1.一种用于全反射棱镜的保偏膜，其特征在于：/n它由厚度为81.3-85.4nm且折射率为1.46的SiO
【技术特征摘要】
1.一种用于全反射棱镜的保偏膜，其特征在于：
它由厚度为81.3-85.4nm且折射率为1.46的SiO2膜层和厚度为73.4-77.7nm且折射率为2.4的TiO2膜层堆叠而成，且所述SiO2膜层为贴近全反射棱镜的全反射面的里层，TiO2膜层为外层。
2.根据权利要求1所述的保偏膜，其特征在于：所述的SiO2膜层的厚度为85.4nm，所述的TiO2膜层的厚度为77.7nm。
3.根据权利要求1所述的保偏膜，其特征在于：所述的SiO2膜层的厚度为81.3nm，所述的TiO2膜层的厚度为73.4nm。
4.一种全反射保偏棱镜，其特征在于：它包括直角三角棱镜，所述的直角三角棱镜的棱柱面由一个斜面(1)和分别与斜面(1)两侧连接且相互垂直连接的第一直角面(2)及第二直角面(3)组成,其中一个直角面为该直角三角棱镜的光线入射面，所述的斜面(1)为该直角三角棱镜的全反射面，另一个直角面为该直角三角棱镜的光线出射面；在所述的直角三角棱镜的斜面(1)外侧设有权利要求1或2或3所述的保偏膜(4)。
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【专利技术属性】
技术研发人员：朱元强，黄木旺，郭少琴，魏德全，
申请(专利权)人：福建福特科光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：福建;35
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