【技术实现步骤摘要】
用于控制气体污染物分解氧化的装置及系统
本专利技术主张于2017年7月7日提出的美国临时申请案62/529,795的优先权，其内容已全部并入本专利技术中以并参酌。本专利技术涉及一种用于气体污染物的装置，尤其涉及一种在半导体或其他工业制造过程中用来控制气体污染物分解氧化的装置。
技术介绍
半导体制造过程中所使用的各种的化学物质、以及可能产生的有毒副产品，都会对人体及环境造成重大伤害。该些化学物质举例包括含有锑、砷、硼、锗、氮、磷、硅、硒、卤素、卤素硅烷或全氟化合物(PFCs)的混合气体，或由全氟化合物(PFCs)分解形成的副产物。习知技术中，这些有害的混合气体或副产物可经由一种用来控制气体污染物分解氧化的装置中的流体加以处理，转化对环境危害较低的产物排放到环境中。只是现今对于该用来控制气体污染物分解氧化的装置仍有未达到完美之处，譬如，在目前使用的装置中，容易形成氧化硅等颗粒并沉积在该装置的燃烧室的壁上，导致燃烧室堵塞并产生诸如燃烧不完全等问题，为了避免上述问题并延长装置的使用年限，势必得更频繁地进行系统...
【技术保护点】
1.一种从废气除去污染物的热反应器，其特征在于，包括：/n一第一热反应单元，该第一热反应单元包括一腔室以及至少一废气入口，该废气入口与该腔室连通以向该腔室中导入一废气；/n一点燃单元，设置于该第一热反应单元下方，该点燃单元包括一火焰腔室，该火焰腔室和该腔室连通，该火焰腔室内包括一燃料以及一用于点燃该燃料的引导火焰；/n一第二热反应单元，该第二热反应单元设置于该点燃单元下方，该第二热反应单元包括一倾斜内壁、一由该倾斜内壁限定的锥形腔室以及至少一穿设于该倾斜内壁且提供一气流的进气通道，其中，该气流朝下斜向地喷射进入该锥形腔室而减缓该废气的颗粒沉积于该倾斜内壁；以及/n一冷淬单元...
【技术特征摘要】
20170707 US 62/529,7951.一种从废气除去污染物的热反应器，其特征在于，包括：
一第一热反应单元，该第一热反应单元包括一腔室以及至少一废气入口，该废气入口与该腔室连通以向该腔室中导入一废气；
一点燃单元，设置于该第一热反应单元下方，该点燃单元包括一火焰腔室，该火焰腔室和该腔室连通，该火焰腔室内包括一燃料以及一用于点燃该燃料的引导火焰；
一第二热反应单元，该第二热反应单元设置于该点燃单元下方，该第二热反应...
【专利技术属性】
技术研发人员：田志伟，
申请(专利权)人：鉴锋国际股份有限公司，
类型：发明
国别省市：新加坡;SG
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